JP5193488B2 - 酸化膜の形成方法及びその装置 - Google Patents
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Description
これらのプロセスを用いて2層構造ゲート酸化膜の第1層の絶縁膜を形成し、界面準位密度のばらつきを抑制している。第1層を用いない界面準位密度は1.0×1011[cm2/eV]であるが、2nmの光酸化膜を作成すると4.0×1010[cm2/eV]まで減少する(非特許文献1)。
O3+hν(λ<310nm)→O2(1Δg)+O(1D)
処理圧力については、光子の処理基板への到達をできるだけ大きくするため、すなわちシリコン薄膜の表面温度の上昇及びそれに伴う表面反応の促進を実現するため、できるだけ低いほうがよい。
以下に本プロセスで製膜したSiO2膜厚分布図の一例を示す。
2…処理炉、20…天井部、21,24,28…開口部、22,25…光導入窓、23…底部、26…サセプター、27…ステージ
3,4…配管
5,6…光源
7…基板
8…凹面レンズ
Claims (2)
- 処理炉内にて10Pa以下の圧力のもとでオゾン濃度10vol%以上のオゾン含有ガスが供給されるシリコン基板を100℃〜300℃の範囲で加熱すると共に、210nm〜300nmの波長領域で連続したスペクトルを有する光を前記処理炉の光導入窓の上面で90mW/cm 2 以上の照度で前記基板に照射し、この照射に際して、前記光導入窓と前記基板との間のガスが流れる領域のギャップが0.1〜3cmに確保され且つ当該基板の径よりも大きい照射領域にて照度の均一度を±30%以内に調整して、前記ガスの流れに対して垂直に照射することにより、当該基板の処理表面の最表面全体であってその基板の厚み方向の一部を選択的に加熱しながら、前記オゾン含有ガスを前記基板の表面に対して平行に供給して、前記処理表面に酸化膜を形成すること
を特徴とする酸化膜の形成方法。 - シリコン基板を加熱すると共に当該基板の表面に対して紫外光領域の光を照射しながら前記基板にオゾン含有ガスを供給して当該基板の処理表面に酸化膜を形成する酸化膜形成装置であって、
前記基板を格納すると共に10Pa以下の圧力のもとでオゾン濃度10vol%以上のオゾン含有ガスが当該基板の表面に対して平行に供給される処理炉と、
前記処理炉内の基板を保持するサセプターと、
前記基板の温度が100℃〜300℃の範囲となるように前記サセプターを加熱する光源と、
前記基板に210nm〜300nmの波長領域で連続したスペクトルを有する光を前記処理炉の光導入窓の上面で90mW/cm 2 以上の照度で照射し、この照射に際して、前記導入窓と前記基板との間のガスが流れる領域のギャップが0.1〜3cmに確保され、当該基板の径よりも大きい照射領域にて照度の均一度が±30%以内に調整されて、前記ガスの流れに対して垂直に照射することにより当該基板の処理表面の最表面全体であってその基板の厚み方向の一部を選択的に加熱する光源と
を備えたこと
を特徴とする酸化膜形成装置。
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