JP5188263B2 - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
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102 パターン
103 試料
104 ラインプロファイル
105 サンプリング点
106 平滑化のサンプリング点
Claims (3)
- 試料を電子ビームによって走査することによって得られる信号に基づいて、ラインプロファイルを形成し、当該ラインプロファイルを用いてパターンの寸法測定を実行する走査電子顕微鏡において、
所定のタイミングでサンプリングを行う際に、或るサンプリング点とその前後のサンプリング点にて得られた信号の平均値に基づいて平滑化を行うと共に、前記平滑化に供されるサンプリング数を、走査電子顕微鏡の倍率に比例して変化させると共に、前記平滑化の対象となる試料上の距離が前記倍率に寄らず一定となるような処理を行うことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記サンプリングされた信号は、離散信号化され、その後、平滑化、及び微分処理されることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記サンプリング数の変更は、倍率に応じて自動的に行われることを特徴とする走査電子顕微鏡。
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