JP2009272264A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
本発明は、走査電子顕微鏡などの走査プローブを用いてパターン測定を行う方法、或いは装置において、倍率の切替えに依らず、高い再現性を実現可能な測定方法及び装置の提供を目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するために、試料を電子ビームによって走査することによって得られる信号に基づいて、ラインプロファイルを形成する走査電子顕微鏡において、所定のタイミングでサンプリングを行う際に、或るサンプリング点とその前後のサンプリング点にて得られた信号の平均値に基づいて平滑化を行うと共に、前記平滑化に供されるサンプリング数を、走査電子顕微鏡の倍率に比例して変化させることを特徴とする走査電子顕微鏡を提供する。
【選択図】図1
Description
102 パターン
103 試料
104 ラインプロファイル
105 サンプリング点
106 平滑化のサンプリング点
Claims (3)
- 試料を電子ビームによって走査することによって得られる信号に基づいて、ラインプロファイルを形成する走査電子顕微鏡において、
所定のタイミングでサンプリングを行う際に、或るサンプリング点とその前後のサンプリング点にて得られた信号の平均値に基づいて平滑化を行うと共に、前記平滑化に供されるサンプリング数を、走査電子顕微鏡の倍率に比例して変化させることを特徴とする走査電子顕微鏡 - 請求項1において、
前記サンプリングされた信号は、離散信号化され、その後、平滑化、及び微分処理されることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1において、
前記サンプリング数の変更は、倍率に応じて自動的に行われることを特徴とする走査電子顕微鏡。
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JP2004286580A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Advantest Corp | 試料観察装置、エッジ位置算出装置、及びプログラム |
JP2007292732A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-11-08 | Advantest Corp | パターン測定装置及びパターン測定方法 |
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