JP5172410B2 - 部品内蔵配線基板の製造方法 - Google Patents
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Description
11…積層基板としてのコア基板
12…積層基板主面
13…積層基板裏面
21…部品及び半導体集積回路素子としてのICチップ
22…部品主面としてのチップ主面
23…部品裏面としてのチップ裏面
28…接続端子としてのバンプ
29…アンダーフィル材
31…配線積層部としての第1ビルドアップ層
32…配線積層部としての第2ビルドアップ層
33,34,35,36,37,38…絶縁層
40…配線パターンとしての主面側配線パターン
41…配線パターンとしての裏面側配線パターン
42…導体層
61…基材としてのガラスクロス
62,63…樹脂
71,72,73,74…プリプレグ
75…プリプレグ主面
76…プリプレグ裏面
77…貫通孔
90…収容穴部
151…金属箔としての主面側銅箔
152…金属箔としての裏面側銅箔
Claims (3)
- 基材に樹脂を含浸させてなり、プリプレグ主面及びプリプレグ裏面を有し、前記プリプレグ主面及び前記プリプレグ裏面にて開口する貫通孔を有する複数のプリプレグを準備するプリプレグ準備工程と、
部品主面及び部品裏面を有する部品を準備する部品準備工程と、
前記複数のプリプレグを重ねて配置し、前記貫通孔内に前記部品を配置し、重ねられた前記複数のプリプレグの裏面側に主面側金属箔を配置するとともに、前記複数のプリプレグの主面側に裏面側金属箔を配置する配置工程と、
前記配置工程後、前記複数のプリプレグの積層方向に圧力を付与することにより、前記複数のプリプレグ、前記主面側金属箔及び前記裏面側金属箔を一体化して積層基板を形成するとともに、圧力が付与された際に前記複数のプリプレグから流れ出した前記樹脂で前記部品と前記貫通孔の内壁面との隙間を埋めることにより、前記部品を固定する固定工程と、
前記固定工程後、前記主面側金属箔及び前記裏面側金属箔に対するエッチングを行うことにより配線パターンを形成するパターン形成工程と
を含み、
前記部品は、前記配線パターンに電気的に接続される接続端子が前記部品裏面上に配置されたものであり、
前記接続端子は、前記主面側金属箔に接触した状態で前記主面側金属箔によって支持された銅スタッドであり、
前記主面側金属箔は、前記プリプレグ及び前記部品が接触する面に接着層を有し、
前記配置工程は、
前記部品を前記主面側金属箔上に仮固定する仮固定工程と、
前記仮固定工程後、前記部品と前記主面側金属箔との間にアンダーフィル材を充填して硬化させるアンダーフィル充填工程と、
前記仮固定工程後、前記貫通孔内に前記部品を配置するようにして、前記主面側金属箔上に前記複数のプリプレグを積層する積層工程と
からなり、
前記積層工程では、前記主面側金属箔上に前記複数のプリプレグを積層した後、最上層のプリプレグ上に、前記貫通孔を有しないプリプレグを積層し、
前記固定工程では、前記複数のプリプレグの積層方向に付与される圧力が0.5MPa以上1.0MPa以下に設定され、前記複数のプリプレグの積層方向に圧力を付与する際の温度が100℃以上200℃以下に設定される
ことを特徴とする部品内蔵配線基板の製造方法。 - 前記接着層は、導電性接着剤によって形成されていることを特徴とする請求項1に記載の部品内蔵配線基板の製造方法。
- 前記積層基板は、絶縁層と導体層とが交互に積層されてなる配線積層部を積層基板主面及び積層基板裏面の少なくとも一方に備える配線基板におけるコア基板として用いられることを特徴とする請求項1または2に記載の部品内蔵配線基板の製造方法。
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