JP5171825B2 - コーティング除去設備およびそれを動作させる方法 - Google Patents
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Description
2 槽
3 オーバーフロー部
4 開口部
5 ホルダ
6 ベースプレート
7 カップリング
8 駆動装置
9 電流伝達装置
10 ロッド
11 横支柱
12 対向電極
13 加熱および冷却装置
14 超音波発生器
15 工作物支持部
16 シャフト
17 円板
18 工作物
Claims (15)
- 液状の電解質を保持する槽(2)と、該槽(2)の内部に配置され電流供給装置の極に接続可能な対向電極面とを有するコーティング除去設備において、
コーティング除去設備が、前記槽(2)の内部を通って延びる回転軸線を中心に回転可能に取り付けられた工作物支持部(15)を取り付け可能かつ取り外し可能に取り付けるためのカップリング(7)であって、当該工作物支持部(15)を接続できるように、前記電流供給装置の他の極に接続可能なカップリング(7)と、
該カップリング(7)に動作可能に結合され前記カップリングを回転させるための駆動装置(8)とを備えたホルダ(5)と、を有し、
前記対向電極面の全ての部分が前記回転軸線からほぼ等しい距離離れ、
コーティングの除去は、工作物支持部(15)と、該工作物支持部(15)を介して接触する工作物(18)と、対向電極との間に電位差を発生させることによって、工作物支持部(15)と工作物(18)のコーティングを電気化学的に溶解することを特徴とするコーティング除去設備。 - 前記回転軸線が鉛直であることを特徴とする請求項1に記載のコーティング除去設備。
- 前記カップリング(7)が、前記槽(2)の上方に、または前記槽(2)の上部部分に配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載のコーティング除去設備。
- 前記ホルダ(5)が、前記槽(2)から取り出し可能であることを特徴とする請求項3に記載のコーティング除去設備。
- 前記対向電極面が、前記回転軸線の方へ向けられており、前記回転軸線からの距離が、前記回転軸線に沿って実質的に一定であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のコーティング除去設備。
- 前記対向電極面が、前記槽(2)内に配置され、前記槽(2)の内壁から隔たった少なくとも1つの対向電極(12)の表面の一部であることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のコーティング除去設備。
- 前記槽(2)の前記内壁が、電気的な絶縁材料からなることを特徴とする請求項6に記載のコーティング除去設備。
- 前記槽(2)の内部に、超音波発生器(14)が配置されていることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載のコーティング除去設備。
- 前記槽(2)の内部に、加熱および冷却装置(13)が配置されていることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載のコーティング除去設備。
- 請求項1から9のいずれか1項に記載のコーティング除去設備を動作させる方法において、前記カップリング(7)に、少なくとも大部分が電気的な導通材料からなる前記工作物支持部(15)を取り付け、前記槽の内部を液状の電解質で満たし、その後、コーティングを除去するために、前記工作物支持部(15)を、実質的に完全に前記電解質内へ浸し、前記駆動装置(8)を用いて前記カップリング(7)を回転させることによって回転させながら、前記電流供給装置を用いて、一方で、前記カップリング(7)に、そして該カップリング(7)を介して電極としての前記工作物支持部(15)に、他方で前記対向電極面に、少なくとも間欠的に互いに異なる電位を印加することを特徴とする方法。
- 前記工作物支持部(15)が、以前にコーティング設備で使用された工作物支持部であることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 工作物(18)のコーティングを除去するための、請求項10に記載の方法において、前記工作物支持部(15)に、コーティングを除去すべき工作物(18)を装着することを特徴とする方法。
- 不適切にコーティングされた工作物(18)のコーティングを除去するための、請求項12に記載の方法において、コーティングを除去する前に、不適切にコーティングされた工作物(18)が装着された前記工作物支持部(15)を、コーティング設備から取り出して、コーティング除去設備に挿入することを特徴とする方法。
- 工作物(18)のコーティングを除去して新規にコーティングするための、請求項12または13に記載の方法において、コーティングを除去した後に、工作物(18)が装着された前記工作物支持部(15)をコーティング除去設備から取り出して、コーティング設備へ挿入し、その後、工作物(18)を前記コーティング設備で新規にコーティングすることを特徴とする方法。
- 工作物(18)が装着された前記工作物支持部(15)に、コーティングの除去とコーティング設備への移動の間に、少なくとも1つの処理を施すことを特徴とする請求項14に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH1414/06 | 2006-09-05 | ||
CH14142006 | 2006-09-05 | ||
PCT/CH2007/000437 WO2008028311A1 (de) | 2006-09-05 | 2007-09-04 | Entschichtungsanlage und verfahren zu ihrem betrieb |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010502830A JP2010502830A (ja) | 2010-01-28 |
JP5171825B2 true JP5171825B2 (ja) | 2013-03-27 |
Family
ID=37311958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009525890A Expired - Fee Related JP5171825B2 (ja) | 2006-09-05 | 2007-09-04 | コーティング除去設備およびそれを動作させる方法 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8361290B2 (ja) |
EP (1) | EP2061917B8 (ja) |
JP (1) | JP5171825B2 (ja) |
KR (1) | KR101508157B1 (ja) |
CN (1) | CN101512050B (ja) |
BR (1) | BRPI0716172B1 (ja) |
CA (1) | CA2662407C (ja) |
MX (1) | MX2009002175A (ja) |
RU (1) | RU2460829C2 (ja) |
UA (1) | UA94114C2 (ja) |
WO (1) | WO2008028311A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7028415B2 (en) * | 2002-04-30 | 2006-04-18 | Alan Heinzen | Canted manually loaded produce dryer |
DE102009003072A1 (de) | 2009-05-13 | 2010-11-18 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum gleichzeitigen Be- oder Entschichten einer Mehrzahl von Werkstücken und Werkstück |
TWI507573B (zh) | 2010-04-15 | 2015-11-11 | Corning Inc | 剝除氮化物塗膜之方法 |
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EP3748042A1 (en) * | 2019-06-03 | 2020-12-09 | Permascand Ab | Electrode assembly for electrochemical processes and method of restoring the same |
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EP1917380B9 (de) * | 2005-08-29 | 2010-02-24 | Oerlikon Trading AG, Trübbach | Werkstück-trägereinrichtung |
-
2006
- 2006-09-18 US US11/522,449 patent/US8361290B2/en active Active
-
2007
- 2007-09-04 WO PCT/CH2007/000437 patent/WO2008028311A1/de active Application Filing
- 2007-09-04 CA CA2662407A patent/CA2662407C/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-04 CN CN200780033018XA patent/CN101512050B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-04 EP EP07800628.5A patent/EP2061917B8/de not_active Not-in-force
- 2007-09-04 KR KR1020097003875A patent/KR101508157B1/ko active IP Right Grant
- 2007-09-04 RU RU2009107436/02A patent/RU2460829C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2007-09-04 JP JP2009525890A patent/JP5171825B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-09-04 BR BRPI0716172-7A patent/BRPI0716172B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-09-04 MX MX2009002175A patent/MX2009002175A/es active IP Right Grant
- 2007-09-04 UA UAA200902868A patent/UA94114C2/ru unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2460829C2 (ru) | 2012-09-10 |
CN101512050B (zh) | 2012-05-02 |
CA2662407C (en) | 2013-12-10 |
EP2061917B8 (de) | 2018-01-17 |
EP2061917A1 (de) | 2009-05-27 |
BRPI0716172A2 (pt) | 2013-09-17 |
US20080053841A1 (en) | 2008-03-06 |
EP2061917B1 (de) | 2017-12-06 |
BRPI0716172B1 (pt) | 2018-04-03 |
KR20090042817A (ko) | 2009-04-30 |
CN101512050A (zh) | 2009-08-19 |
JP2010502830A (ja) | 2010-01-28 |
US8361290B2 (en) | 2013-01-29 |
KR101508157B1 (ko) | 2015-04-06 |
WO2008028311A1 (de) | 2008-03-13 |
UA94114C2 (ru) | 2011-04-11 |
RU2009107436A (ru) | 2010-10-20 |
MX2009002175A (es) | 2009-03-12 |
CA2662407A1 (en) | 2008-03-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100730 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120130 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120207 |
|
A601 | Written request for extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120807 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121107 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121204 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121225 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5171825 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |