JP5171021B2 - Rfパルス用周波数シンセサイザ、mri装置、およびrfパルス生成方法 - Google Patents

Rfパルス用周波数シンセサイザ、mri装置、およびrfパルス生成方法 Download PDF

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Description

本発明は、RFパルス用周波数シンセサイザ、MRI装置、およびRFパルス生成方法に関する。詳しくは、強い静磁場強度の下で、RFパルスの周波数を高速に切り替え可能なRFパルス用周波数シンセサイザ、MRI装置、およびRFパルス生成方法に関する。
MRI装置は、磁気共鳴現象を利用して磁気共鳴信号を発生させ、被検体のスライスの断層画像を撮影する装置である。MRI装置では、スライス位置の磁場強度に比例する共鳴周波数のRFパルスを送信することによって、撮像対象のスライスが選択される。MRI装置では、撮像時間短縮のためにスライス位置を高速に変更できることが望ましく、RFパルスの周波数を高精度かつ高速に切り替えできることが求められる。
そこで、MRI装置では、RFパルスを生成するためにダイレクト・ディジタル・シンセサイザ(以下、DDSという)が使用される(例えば、特許文献1の段落[0003]、図2参照)。図10は、従来のDDS40の構成を示すブロック図である。DDS40は、位相記憶部41、位相累算部42、波形テーブル43、D/Aコンバータ314、ローパスフィルタ44で構成される。
位相記憶部41には位相増加量が記憶される。位相増加量は位相累算部42に入力され、クロック周期ごとに累積位相と加算される。ここで、クロック周期はサンプリング周波数fsの逆数である。位相累算部42からは累積位相が出力され、累積位相は波形テーブル43に入力される。波形テーブル43は、例えば、ROMで構成され、累積位相に対する波形の値が記憶されている。累積位相はROMのアドレスに入力され、ROMからはそのアドレスに記憶されている波形のディジタル値が出力される。波形のディジタル値はD/Aコンバータ314に入力され、アナログ波形に変換される。なお、位相記憶部41からD/Aコンバータ314の入力までの信号はディジタル信号であり、D/Aコンバータ314の出力以降はアナログ信号である。
図11は、波形テーブルに正弦波の波形のディジタル値が記憶されている場合にD/Aコンバータから出力されるアナログ信号の波形を示す図である。D/Aコンバータ314の出力波形はクロック周期でサンプルされるため、時間領域で見ると階段状であり、周波数領域で見ると折り返し信号(以下、本明細書、特許請求の範囲、および図面ではエイリアスという。)を含んでいる。D/Aコンバータ314の入力信号の周波数がfoであるとき、エイリアスはn×fs±fo(nは自然数)の周波数に現れる。エイリアスはローパスフィルタ44によって除去され、DDS40からは周波数foのアナログ波形が出力される。DDS40は、PLL(Phase Locked Loop)のようなフィードバックループがないため、周波数を高速に切り替えできる。
図12は、周波数領域で表したD/Aコンバータの出力を示す図である。D/Aコンバータ314の入力信号の周波数がfoであるとき、1つ目のエイリアスの周波数はfs−foであり、2つ目と3つ目のエイリアスの周波数はそれぞれfs+foと2fs−foである。D/Aコンバータ314の出力は、周波数領域で見るとアパーチャ効果により次式のsinc関数(以下、シンク関数という。)のスライスに沿って減衰する(例えば、非特許文献1参照)。
Figure 0005171021
サンプリング周波数fsの半分の周波数fs/2はナイキスト周波数と呼ばれる。アパーチャ効果の影響で減衰量が−0.1dB以内に収まる範囲はナイキスト周波数の約0.17倍の周波数までに過ぎない。図12に示すように、D/Aコンバータ314の出力の大きさはfs付近や2fs付近でゼロに近づく。
このアパーチャ効果の影響を打ち消すために、周波数応答が逆シンク関数となるプリイコライゼーションフィルタを使用する方法が提案されている(例えば、非特許文献1参照)。逆シンク関数とは、1/sinc(x)で表される関数である。このプリイコライゼーションフィルタをかけて高域の振幅を上げた信号をD/Aコンバータ314に入力することによって、アパーチャ効果の影響を打ち消すことができる。
図13は、D/Aコンバータの出力に含まれるエイリアスを出力するDDSの構成を示すブロック図である。DDS50は、ローパスフィルタ44ではなく、バンドパスフィルタ315を用いる点が図10のDDS40と異なる。位相記憶部41と位相累算部42と波形テーブル43とD/Aコンバータ314はDDS50とDDS40で共通である。バンドパスフィルタ315は、D/Aコンバータ314の出力に含まれる特定のエイリアスのみ通過させる(例えば、特許文献2参照)。D/Aコンバータ314のサンプリング周波数は低くても、高い周波数のアナログ波形出力を得ることができる。
特開2001−104281号公報 特開昭63−108807号公報 http://www.ednjapan.com/content/issue/2006/07/content04.html、「D−Aコンバータの高域特性を改善する 高域特性劣化のメカニズムと3つの対応策」.
静磁場の強度を強くすると、高いS/N比が得られるため、撮像画像の高解像度化や撮像時間の短縮化が可能となる。そこで、近年、MRI装置の高磁場化が進んでおり、3T(テスラ)超高磁場MRI装置が開発された。この3T超高磁場MRI装置ではRFパルスの周波数は128MHzにも達する。
従来のMRI装置に用いられていたDDS40を用いて、3T超高磁場MRI装置で必要とされる128MHzの周波数のRFパルスを生成するためには、128MHzの2倍より速い速度で動作するD/Aコンバータが必要となる。更に、将来的には静磁場強度が4.7Tもしくはそれ以上となる可能性もある。その場合、更に高速なD/Aコンバータが必要となる。また、位相累算部42、波形テーブル43の動作速度も速くなり、消費電力が増加する。
PLL(Phase Locked Loop)を用いると、上記のような超高周波信号を生成できる。しかし、PLLはフィードバックループがあるため、周波数を高速に切り替えることが困難であり、RFパルスの生成に最適とは言えない。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、低速のD/Aコンバータを用いて高い周波数のRFパルスを生成することを可能とし、強い静磁場強度の下でもRFパルスの周波数を高速に切り替え可能なRFパルス用周波数シンセサイザ、MRI装置、およびRFパルス生成方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明のRFパルス用周波数シンセサイザは、MRI装置で用いられるRFコイルのためのRFパルス用周波数シンセサイザであって、サンプリング周波数の半分であるナイキスト周波数より低い周波数の基本波の波形のディジタル値をアナログ波形に変換するD/Aコンバータと、上記アナログ波形に含まれるナイキスト周波数より高い周波数のエイリアス群の中の所定のエイリアスのみを通過させるバンドパスフィルタとを有し、上記バンドパスフィルタを通過した上記所定のエイリアスが上記RFコイルからRFパルスとして送信される。
好ましくは、本発明のRFパルス用周波数シンセサイザは、所定の包絡線形状を生成する包絡線形状生成部と、上記包絡線形状を上記RFパルスの周波数におけるシンク関数の値で補正する包絡線形状補正部と、上記補正された包絡線形状を逆フーリエ変換し、上記基本波の波形のディジタル値を出力する逆フーリエ変換部とを有する。
好ましくは、本発明のRFパルス用周波数シンセサイザは、上記RFパルスの中心周波数は、上記サンプリング周波数がn倍(nは自然数)された周波数から上記基本波の中心周波数が減算された周波数であり、上記包絡線形状は、RFパルスの形状の低周波数側と高周波数側が反転された形状と一致する。
好ましくは、本発明のRFパルス用周波数シンセサイザは、上記RFパルスの中心周波数は、上記サンプリング周波数がn倍(nは自然数)された周波数に上記基本波の中心周波数を加算した周波数であり、上記包絡線形状は、RFパルスの形状と一致する。
また、本発明のMRI装置は、RFパルスを生成するRFパルス用周波数シンセサイザと、上記RFパルスを送信するためのRFコイルとを有し、上記RFパルス用周波数シンセサイザが、サンプリング周波数の半分であるナイキスト周波数より低い周波数の基本波の波形のディジタル値をアナログ波形に変換するD/Aコンバータと、当該アナログ波形に含まれるナイキスト周波数より高い周波数のエイリアス群の中の所定のエイリアスのみを通過させるバンドパスフィルタとを含み、上記バンドパスフィルタを通過した上記所定のエイリアスが上記RFコイルから上記RFパルスとして送信される。
好ましくは、本発明のMRI装置は、上記RFパルス用周波数シンセサイザが、所定の包絡線形状を生成する包絡線形状生成部と、上記包絡線形状を上記RFパルスの周波数におけるシンク関数の値で補正する包絡線形状補正部と、上記補正された包絡線形状を逆フーリエ変換し、上記基本波の波形のディジタル値を出力する逆フーリエ変換部とを有する。
好ましくは、本発明のMRI装置は、上記RFパルスの中心周波数は、上記サンプリング周波数がn倍(nは自然数)された周波数から上記基本波の中心周波数が減算された周波数であり、上記包絡線形状は、RFパルスの形状の低周波数側と高周波数側が反転された形状と一致する。
好ましくは、本発明のMRI装置は、上記RFパルスの中心周波数は、上記サンプリング周波数がn倍(nは自然数)された周波数に上記基本波の中心周波数を加算した周波数であり、上記包絡線形状は、RFパルスの形状と一致する。
また、本発明のRFパルス生成方法は、MRI装置で用いられるRFコイルのためのRFパルス生成方法であって、D/Aコンバータによって、サンプリング周波数の半分であるナイキスト周波数より低い周波数の基本波の波形のディジタル値をアナログ波形に変換するステップと、バンドパスフィルタによって、上記アナログ波形に含まれるナイキスト周波数より高い周波数のエイリアス群の中の所定のエイリアスのみを通過させるステップとを有し、上記バンドパスフィルタを通過した上記所定のエイリアスが上記RFコイルからRFパルスとして送信される。
好ましくは、本発明のRFパルス生成方法は、所定の包絡線形状を生成する包絡線形状生成ステップと、上記包絡線形状を上記RFパルスの周波数におけるシンク関数の値で補正する包絡線形状補正ステップと、上記補正された包絡線形状を逆フーリエ変換し、上記基本波の波形のディジタル値を出力する逆フーリエ変換ステップとを有する。
好ましくは、本発明のRFパルス生成方法は、上記RFパルスの中心周波数は、上記サンプリング周波数がn倍(nは自然数)された周波数から上記基本波の中心周波数が減算された周波数であり、上記包絡線形状は、RFパルスの形状の低周波数側と高周波数側が反転された形状と一致する。
好ましくは、本発明のRFパルス生成方法は、上記RFパルスの中心周波数は、上記サンプリング周波数がn倍(nは自然数)された周波数に上記基本波の中心周波数を加算した周波数であり、上記包絡線形状は、RFパルスの形状と一致する。
本発明によれば、低速のD/Aコンバータを用いて高い周波数のRFパルスを生成することが可能となり、強い静磁場強度の下でもRFパルスの周波数を高速に切り替え可能なRFパルス用周波数シンセサイザ、MRI装置、およびRFパルス生成方法を提供することができる。
図1は、本発明の一実施形態であるMRI装置を示す図である。本実施形態に係るMRI装置10は、図1に示すように、マグネットシステム11、クレードル12、傾斜磁場駆動部13、RFコイル駆動部14、データ収集部15、制御部16、オペレータコンソール17を有している。
マグネットシステム11は、図1に示すように、概ね円柱状の内部空間(ボア)111を有し、ボア111内には、クッションを介して被検体20を載せたクレードル12が図示しない搬送部によって搬入される。
マグネットシステム11内には、図1に示すように、ボア111内のマグネットセンタ(走査する中心位置)の周囲に、静磁場発生部112、傾斜磁場コイル部113、及びRFコイル部114が配置されている。
静磁場発生部112は、ボア111内に静磁場を形成する。静磁場の方向は、例えば、被検体20の体軸方向と平行である。ただし、静磁場の方向は被検体20の体軸方向と垂直であっても良い。
傾斜磁場コイル部113は、RFコイル部114が受信する磁気共鳴信号に3次元の位置情報を持たせるために、静磁場発生部112が形成した静磁場の強度に勾配を付ける傾斜磁場を発生する。傾斜磁場コイル部113が発生する傾斜磁場は、スライス選択傾斜磁場、周波数エンコード傾斜磁場及び位相エンコード傾斜磁場の3種類であり、これら3種類の傾斜磁場に対応して傾斜磁場コイル部113は3系統の傾斜磁場コイルを有する。
RFコイル部114は、RFパルスを送信し、静磁場発生部112が形成した静磁場空間内で被検体20の体内のスピンを励起して磁気共鳴信号を発生させる。また、RFコイル部114は、被検体20の発する磁気共鳴信号を受信する。なお、RFコイル部114は、送信用RFコイルと受信用RFコイルを別々に設ける構成としても良いし、RFパルスの送信と磁気共鳴信号の受信を共通のRFコイルで行う構成としても良い。
傾斜磁場駆動部13は、制御部16の指示に基づいて駆動信号DR1を傾斜磁場コイル部113に与えて傾斜磁場を発生させる。傾斜磁場駆動部13は、傾斜磁場コイル部113の3系統の傾斜磁場コイルに対応して、図示しない3系統の駆動回路を有する。
RFコイル駆動部14は、後述するRFパルス用周波数シンセサイザを有しており、RFパルス用周波数シンセサイザを用いて駆動信号DR2を生成する。駆動信号DR2はRFコイル部114に与えられ、駆動信号DR2に基づいてRFパルスが送信される。
データ収集部15は、RFコイル部114によって受信された磁気共鳴信号を取り込み、ディジタル信号に変換してオペレータコンソール17のデータ処理部171に出力する。
制御部16は、所定のパルスシーケンスに従って傾斜磁場駆動部13とRFコイル駆動部14を制御し、駆動信号DR1と駆動信号DR2を生成させる。更に、制御部16は、データ収集部15を制御する。
オペレータコンソール17は、図1に示すように、データ処理部171、画像データベース172、操作部173、及び表示部174を有している。データ処理部171は、MRI装置10全体の制御や画像再構成処理等を行う。データ処理部171には、制御部16が接続されており、データ処理部171は制御部16を統括する。また、データ処理部171には、画像データベース172、操作部173、及び表示部174が接続されている。画像データベース172は、例えば記録再生可能なディスク装置等により構成され、データ収集部15で収集されたデータ、及び再構成された再構成画像データを記録する。操作部173はキーボードやマウス等により構成され、表示部174はグラフィックディスプレイ等により構成される。
図2は、撮像対象であるスライスと磁場の関係を示す図である。被検体20に強度Bの静磁場とスライス選択傾斜磁場が印加された状態で、RFパルスが送信される。スライス21には、磁場強度Bから磁場強度Bまでの強さの磁場が印加される。このため、RFパルスの周波数は磁場強度Bから磁場強度Bまでの磁場強度に応じた周波数帯域幅を有する。周波数領域で見ると、RFパルスの形状は、通常、スライス21に対応する周波数の範囲では強さが一定で、その範囲の外では0となるような方形である。ただし、撮像対象によってはRFパルスの形状が方形以外の形である場合もある。撮像するスライスの位置を変えるときには、RFパルスの周波数が変更される。
なお、本明細書と特許請求の範囲では時間領域におけるRFパルスの形をRFパルスの波形といい、周波数領域におけるRFパルスの形をRFパルスの形状という。
図3は、時間領域におけるRFパルスの波形と周波数領域におけるRFパルスの形状の例を示す図である。RFパルスの周波数領域での形状が方形であるとき、時間領域ではRFパルスの波形はシンクパルスとなる。シンクパルスは上記数1に示した関数sinc(x)=sin(x)/xで定義され、理想的には無限の長さを持つ。RFパルスの周波数帯域幅は、シンクパルスの一周期の長さの逆数として求められる。例えば、時間領域でRFパルスが2msecの周期のシンクパルスであるとき、周波数領域では500Hzの周波数帯域幅となり、時間領域でRFパルスが1msecの周期のシンクパルスであるとき、周波数領域では1000Hzの周波数帯域幅となる。ただし、無限に長いシンクパルスを生成することは不可能であるため、実際には実用的に十分な周期で打ち切られる。
RFパルスは、時間領域で見ると、周波数ωφのサイン波またはコサイン波(以下、サイン波等という。)にシンクパルスを掛け合わせることによって生成される。この操作は、周波数領域では、方形パルスの中心周波数を0Hzから周波数ωφにシフトすることに対応する。サイン波等の周波数ωφによってRFパルスの中心周波数ωφが決まり、シンクパルスによってRFパルスの周波数帯域幅と波形が定まる。スライスの位置を変更するときは、変更される位置の磁場強度に応じてサイン波等の周波数ωφが変更される。
なお、RFパルスの形状が方形以外の場合もあり得る。この場合、RFパルスの波形を定めるために、シンクパルス以外の波形が掛け合わされる。そこで、本明細書、特許請求の範囲、及び図面ではRFパルスの波形を定めるために掛け合わされる波形を包絡線波形といい、包絡線波形の周波数領域における形を包絡線形状という。
図4は、本発明の一実施形態に係るRFパルスの生成方法を示す図である。周波数fsはD/Aコンバータのサンプリング周波数である。また、周波数foは、D/Aコンバータに入力される基本波の中心周波数であり、サンプリング周波数fsの半分であるナイキスト周波数fs/2より低い周波数である。本実施形態では、D/Aコンバータによってディジタル信号をアナログ信号に変換するとき、中心周波数fs−foに生じるエイリアスからRFパルスg(y)が生成される。
本実施形態では、D/Aコンバータに入力されるディジタル信号の形状に対してエイリアスの形状は低周波数側と高周波数側が反転すること、及びアパーチャ効果によりエイリアスの形状がひずむことが考慮される。
図4において、g(−f)は、包絡線形状であり、中心周波数が0Hzであって周波数の最小値が−a、最大値がaである。包絡線形状g(−f)はRFパルスの形状g(y)に対して低周波数側と高周波数側が反転したものであり、包絡線形状g(−f)によりRFパルスの形状が決まる。
まず包絡線形状g(−f)の中心周波数をfoにシフトする。シフトされた形状をg(−x)で示す。g(−x)は、中心周波数がfoであって周波数の最小値がfo−a、最大値がfo+aである。ここで、g(−x)について中心周波数が0Hzである座標系xを考えると、周波数の最小値が−a、最大値がaであり、g(−x)の形状自体は包絡線形状g(−f)と同一である。
次に、アパーチャ効果による波形のひずみを打ち消すために、上記数1に示したシンク関数a(f)=sinc(πf/fs)でg(−x)を補正する。中心周波数fs−foに生じるエイリアスは、理想的にディジタル−アナログ変換を行う場合に比べて、シンク関数a(f)の値だけ減衰する。そこで、g(−x)を、エイリアスの周波数におけるシンク関数a(f)の値で除算する補正を行う。ただし、逆シンク関数、すなわちシンク関数の逆数1/a(f)をg(−x)に掛け合わすことで補正しても良い。
図5は、g(−x)の補正方法を示す図である。図5(a)は、RFパルスg(y)の形状を中心座標が0である座標系yで表したものである。座標系yで見ると、RFパルスg(y)は最小値が−a、最大値がaの方形であり、周波数fとyの間には次式の関係がある。
Figure 0005171021
図5(b)は、アパーチャ効果の影響を打ち消す方法を示す。RFパルスg(y)をa(f)で割ることにより、アパーチャ効果によるゲインの減少を打ち消すための形状を求めることができる。アパーチャ効果の影響を打ち消すための形状は、次式となる。
Figure 0005171021
図5(c)は、波形の反転の影響を打ち消す方法を示す。座標系yからy=−xの関係にある座標系xに変更することにより波形の反転の影響が打ち消された形状を求めることができる。波形の反転の影響を打ち消すための形状は次式で示される。
Figure 0005171021
従って、g(−x)を上式で補正し、ディジタルからアナログに変換すると、図4に示すように、RFパルスg(y)の形状が得られる。
ただし、D/Aコンバータに入力されるのは周波数領域における形状ではなく、時間領域における波形である。そこで、g(−x)/a(fs−fo−x)を逆フーリエ変換し、時間領域の波形を求める。具体的には、まず包絡線形状g(−f)の値と、シンク関数a(f)または逆シンク関数1/a(f)の値を予め計算して記憶しておく。次に、xを−aからaまで変化させて、g(−x)/a(fs−fo−x)の値を算出する。最後に、x=−aの値は周波数fo−aに対応し、x=aの値は周波数fo+aに対応することに留意して、逆フーリエ変換する。
なお、図4と図5ではRFパルスg(y)の形状が方形である場合の例を示したが、RFパルスg(y)の形状は方形に限らず、任意の形状とすることができる。
図6は、本発明の一実施形態である周波数シンセサイザの構成を示すブロック図である。周波数シンセサイザ30は、図6に示すように、DDS31、プリアンプ32、パワーアンプ33を有している。DDS31からはRFパルスが出力される。RFパルスはプリアンプ32で増幅され、プリアンプ32の出力はさらにパワーアンプ33で増幅されて駆動信号DR2が生成される。駆動信号DR2はRFコイル部114内の送信用RFコイル1141に与えられ、送信用RFコイル1141から被検体20にRFパルスが送信される。なお、送信用RFコイル1141は受信用コイルを兼ねていても良い。
DDS31は、図6に示すように、包絡線形状生成部311、包絡線形状補正部312、逆フーリエ変換部313、D/Aコンバータ314、バンドパスフィルタ315で構成される。包絡線形状生成部311からD/Aコンバータ314の入力までの信号はディジタル信号であり、D/Aコンバータ314の出力以降はアナログ信号である。
包絡線形状生成部311は、包絡線形状g(−x)が記憶されたテーブルを有しており、包絡線形状g(−x)を生成する。包絡線形状g(−x)はRFパルスの形状g(y)に対して低周波数側と高周波数側が反転されたものである。なお、図4では、包絡線形状をg(−f)とし、包絡線形状g(−f)の中心周波数がfoにシフトされた形状をg(−x)としたが、g(−f)とg(−x)の形状は同一であるため、包絡線形状生成部311には包絡線形状g(−x)が記憶されているとしても良い。また、包絡線形状g(−x)が記憶されたテーブルは、例えば、ROMや組み合わせ回路、RAM等で構成される。
包絡線形状補正部312は、g(−x)をシンク関数a(f)=sinc(πf/fs)で補正する。逆フーリエ変換部313は、g(−x)/a(fs−fo−x)を逆フーリエ変換し、時間領域の波形を求める。D/Aコンバータ314は、ディジタル信号で表された時間領域の波形をサンプリング周波数fsでアナログ信号に変換する。バンドパスフィルタ315は、中心周波数fs−foに生じるエイリアスのみ通過させ、その他のエイリアスと中心周波数foの基本波を減衰させる。DDS31からは、RFパルスとして中心周波数fs−foに生じるエイリアスが出力される。
例えば、3T(テスラ)超高磁場MRI装置では、静磁場の強度3.0Tに対応する共鳴周波数は127.72MHzである。この周波数をDDS31から出力させるためには、図6に示すように、D/Aコンバータ314に中心周波数fo=32.28MHzの基本波を入力し、D/Aコンバータ314をサンプリング周波数fs=160MHzで動作させれば良い。バンドパスフィルタ315の低域遮断周波数と高域遮断周波数は、それぞれ80MHzと160MHzとし、中心周波数が127.72MHzのエイリアスを通過させる。なお、fo=32.28MHzとfs=160MHz、低域遮断周波数=80MHz、および高域遮断周波数=160MHzは一例であって、それぞれ他の周波数を用いても良いことは言うまでもない。
図7は、本発明の他の実施形態に係るRFパルスの生成方法を示す図である。この実施形態では、サンプリング周波数がfs、基本波の中心周波数がfoであるとき、fs+foの周波数に生じるエイリアスからRFパルスが生成される。fs+foの周波数に生じるエイリアスは、fs−foのエイリアスと異なり、エイリアスの形状と基本波の形状が一致する。基本波の形状と比べて低周波数側と高周波数側が反転することはない。アパーチャ効果による波形ひずみの補正だけを考慮すれば良い。
具体的には、まず包絡線形状g(f)の中心周波数をfoにシフトする。シフトされた形状をg(x)で示す。g(x)は、中心周波数がfoであって周波数の最小値がfo−a、最大値がfo+aである。ここで、g(x)について中心周波数が0Hzである座標系xを考えると、周波数の最小値が−a、最大値がaであり、g(x)の形状自体は包絡線形状g(f)と同一である。
次に、アパーチャ効果による波形のひずみを打ち消すために、g(x)を、エイリアスの周波数におけるシンク関数a(f)の値で除算する補正を行う。ただし、逆シンク関数、すなわちシンク関数の逆数1/a(f)をg(x)に掛け合わすことで補正しても良い。
図8は、g(x)の補正方法を示す図である。図8(a)は、RFパルスg(x)の形状を中心座標が0である座標系xで表したものである。座標系xで見ると、RFパルスg(x)は最小値が−a、最大値がaの方形であり、周波数fとxの間には次式の関係がある。
Figure 0005171021
図8(b)は、アパーチャ効果の影響を打ち消す方法を示す。RFパルスg(x)をa(f)で割ることにより、アパーチャ効果によるゲインの減少を打ち消すための形状を求めることができる。アパーチャ効果の影響を打ち消すための形状は次式で示される。
Figure 0005171021
従って、g(x)を上式で補正し、ディジタルからアナログに変換すると、図7に示すように、RFパルスg(y)の形状が得られる。
ただし、D/Aコンバータに入力されるのは周波数領域における形状ではなく、時間領域における波形である。そこで、g(x)/a(fs+fo+x)を逆フーリエ変換し、時間領域の波形を求める。具体的には、まず包絡線形状g(f)の値と、シンク関数a(f)または逆シンク関数1/a(f)の値を予め計算して記憶しておく。次に、xを−aからaまで変化させて、g(x)/a(fs+fo+x)の値を算出する。最後に、x=−aの値は周波数fo−aに対応し、x=aの値は周波数fo+aに対応することに留意して、逆フーリエ変換する。
なお、図7と図8ではRFパルスg(y)の形状が方形である場合の例を示したが、RFパルスg(y)の形状は方形に限られず、任意の形状とすることができる。
本実施形態も、図6に示した周波数シンセサイザ30でRFパルスを生成することができる。ただし、包絡線形状生成部311は包絡線形状g(x)を記憶しており、包絡線形状g(x)を生成する。包絡線形状g(x)はRFパルスの形状g(y)と同一である。なお、図7では、包絡線形状をg(f)とし、包絡線形状g(f)の中心周波数がfoにシフトされた形状をg(x)としたが、g(f)とg(x)の形状は同一であるため、包絡線形状生成部311には包絡線形状g(x)が記憶されているとしても良い。
包絡線形状補正部312は、g(x)をシンク関数a(f)=sinc(πf/fs)で補正する。逆フーリエ変換部313は、g(x)/a(fs+fo+x)を逆フーリエ変換し、時間領域の波形を求める。バンドパスフィルタ315は、中心周波数fs+foに生じるエイリアスのみ通過させ、その他のエイリアスと中心周波数foの基本波を減衰させる。DDS31からは、RFパルスとして中心周波数fs+foに生じるエイリアスが出力される
例えば、4.7T超高磁場MRI装置の共鳴周波数は200MHzである。これを中心周波数とするRFパルスをDDS31から出力させるためには、D/Aコンバータ314にfo=40MHzの基本波を入力し、D/Aコンバータ314をサンプリング周波数fs=160MHzで動作させれば良い。バンドパスフィルタ315の低域遮断周波数と高域遮断周波数は、それぞれ160MHzと240MHzとし、中心周波数が200MHzのエイリアスを通過させる。なお、fo=40MHz、fs=160MHz、低域遮断周波数=160MHz、および高域遮断周波数=240MHzは一例であって、それぞれ他の周波数を用いても良いことは言うまでもない。
サンプリング周波数がfs、基本波の周波数がfoのとき、エイリアスはn×fs±fo(nは自然数)の周波数に現れる。上記では、エイリアスの周波数がfs±foである場合の例を示したが、これら以外の周波数のエイリアスについて本発明を適用し、RFパルスを生成することもできる。
図9は、本発明の一実施形態であるRFパルス生成方法を示す図である。本RFパルス生成方法では、周波数領域における包絡線形状をテーブルに記憶しておき、テーブルから包絡線形状を読み出すことによって包絡線形状を生成する。(ステップST1)。次に、シンク関数の値で包絡線形状を補正する(ステップST2)。ステップST2では、サンプリング周波数fs、基本波の中心周波数foのとき、n×fs−fo(nは自然数)のエイリアスの形状は、包絡線形状に対して低周波数側と高周波数側が反転することが考慮される。そして、補正された包絡線形状を逆フーリエ変換し、時間領域における基本波の波形のディジタル値を求める(ステップST3)。D/Aコンバータを用いて、この基本波の波形のディジタル値をアナログ波形に変換し(ステップST4)、バンドパスフィルタを用いて、アナログ波形に含まれる複数のエイリアスの中から所定のエイリアスを取り出す(ステップST5)。取り出された所定のエイリアスは増幅され、RFコイルからRFパルスとして送信される。
上述した各実施の形態によれば、低速のD/Aコンバータを用いて高い周波数のRFパルスを生成することが可能となる。また、従来はD/Aコンバータの性能の限界のため実現が困難であった超高磁場のMRI装置を容易に実現することができる。
本発明の一実施形態であるMRI装置を示す図である。 撮像対象であるスライスと磁場の関係を示す図である。 時間領域におけるRFパルスの波形と周波数領域におけるRFパルスの形状の例を示す図である。 本発明の一実施形態に係るRFパルスの生成方法を示す図である。 g(−x)の補正方法を示す図である。 本発明の一実施形態である周波数シンセサイザの構成を示すブロック図である。 本発明の他の実施形態に係るRFパルスの生成方法を示す図である。 g(x)の補正方法を示す図である。 本発明の一実施形態であるRFパルス生成方法を示す図である。 従来のDDSの構成を示すブロック図である。 波形テーブルに正弦波の波形のディジタル値が記憶されている場合にD/Aコンバータから出力されるアナログ信号の波形を示す図である。 周波数領域で表したD/Aコンバータの出力を示す図である。 D/Aコンバータの出力に含まれるエイリアスを出力するDDSの構成を示すブロック図である。
符号の説明
10…MRI装置、1141…RFコイル、30…周波数シンセサイザ、31…DDS、311…包絡線形状生成部、312…包絡線形状補正部、313…逆フーリエ変換部、314…D/Aコンバータ、315…バンドパスフィルタ

Claims (7)

  1. MRI装置で用いられるRFコイルのためのRFパルス用周波数シンセサイザであって、
    RFパルスの形状に対して低周波数側と高周波数側が反転した包絡線形状を生成する包絡線形状生成部と、
    上記包絡線形状を上記RFパルスの周波数におけるシンク関数の値で補正する包絡線形状補正部と、
    上記補正された包絡線形状を逆フーリエ変換し、基本波の波形のディジタル値を出力する逆フーリエ変換部と、
    サンプリング周波数の半分であるナイキスト周波数より低い周波数の上記基本波の波形のディジタル値をアナログ波形に変換するD/Aコンバータと、
    上記アナログ波形に含まれるナイキスト周波数より高い周波数のエイリアス群の中の所定のエイリアスのみを通過させるバンドパスフィルタとを有し、
    上記バンドパスフィルタを通過した上記所定のエイリアスが上記RFコイルからRFパルスとして送信される
    RFパルス用周波数シンセサイザ。
  2. 上記RFパルスの中心周波数は、上記サンプリング周波数がn倍(nは自然数)された周波数から上記基本波の中心周波数が減算された周波数であり、
    上記包絡線形状は、RFパルスの形状の低周波数側と高周波数側が反転された形状と一致する
    請求項1に記載のRFパルス用周波数シンセサイザ。
  3. 上記RFパルスの中心周波数は、上記サンプリング周波数がn倍(nは自然数)された周波数に上記基本波の中心周波数を加算した周波数であり、
    上記包絡線形状は、RFパルスの形状と一致する
    請求項1に記載のRFパルス用周波数シンセサイザ。
  4. RFパルスを生成する請求項1から請求項3のいずれかに記載のRFパルス用周波数シンセサイザと、
    上記RFパルスを送信するためのRFコイルとを有する
    MRI装置。
  5. MRI装置で用いられるRFコイルのためのRFパルス生成方法であって、
    RFパルスの形状に対して低周波数側と高周波数側が反転した包絡線形状を生成する包絡線形状生成ステップと、
    上記包絡線形状を上記RFパルスの周波数におけるシンク関数の値で補正する包絡線形状補正ステップと、
    上記補正された包絡線形状を逆フーリエ変換し、基本波の波形のディジタル値を出力する逆フーリエ変換ステップと、
    D/Aコンバータが、サンプリング周波数の半分であるナイキスト周波数より低い周波数の上記基本波の波形のディジタル値をアナログ波形に変換するステップと、
    バンドパスフィルタが、上記アナログ波形に含まれるナイキスト周波数より高い周波数のエイリアス群の中の所定のエイリアスのみを通過させるステップとを有し、
    上記バンドパスフィルタを通過した上記所定のエイリアスが上記RFコイルからRFパルスとして送信される
    RFパルス生成方法。
  6. 上記RFパルスの中心周波数は、上記サンプリング周波数がn倍(nは自然数)された周波数から上記基本波の中心周波数が減算された周波数であり、
    上記包絡線形状は、RFパルスの形状の低周波数側と高周波数側が反転された形状と一致する
    請求項5に記載のRFパルス生成方法。
  7. 上記RFパルスの中心周波数は、上記サンプリング周波数がn倍(nは自然数)された周波数に上記基本波の中心周波数を加算した周波数であり、
    上記包絡線形状は、RFパルスの形状と一致する
    請求項5に記載のRFパルス生成方法。
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