JP5166295B2 - 光ファイバアレイおよびその製造方法 - Google Patents
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A.S.Morris III,"In search of transparent networks",IEEE Spectrum,pp47-51(Oct.2001) D. T. Neilson, et. al., "Fully provisioned 112x112 micro-mechanical optical cross connect with 35.8Tb/s demonstrated capacity", OFC2000. paper-PD12-1, (2000)
(1)まず、V溝基板122を積層する場合、同基板上に配列された光ファイバ121の中心位置を、上下の基板間で基板に対し水平な方向(X方向)について±1〜2μm以内の精度で位置合わせする必要がある。このため、V溝基板122の外形精度を前記と同程度に高めて基板端部を治具等に当接させるか、そうでない場合はV溝基板122そのものに何らかの位置決め機構を設け、あるいは光ファイバ121の端面が露出する側のV溝基板端面を観察しながら同基板間の相対位置を微調整して位置合わせを行うことになり、高精度な機械加工あるいは実装技術が要求される。さらに、位置合わせした後に同基板間を接着固定するため、接着材による硬化収縮の影響を考慮する必要があり、この収縮による位置の制御は困難である。また、V溝を作製する基板自体にも±3〜5μm程度の厚さのバラツキが存在する。このため、二次元の光ファイバアレイ120では、光ファイバ121の配列精度、特にV溝基板の積層方向(Y方向)に対する前記配列精度の向上に限界がある。
(2)また、規模の拡大に伴って、光ファイバ121の数をV溝基板122と平行な方向(X方向)に増やすと、V溝基板122の反りによって光ファイバ121の配列誤差が生じやすくなり、また、V溝基板122の積層数を増やすと、V溝基板122の厚さや接着剤の厚さのバラツキに起因して光ファイバ121の配列誤差が生じやすくなってしまう。V溝基板122を高い寸法精度で形成したとしても、接着剤の厚さバラツキや硬化収縮により、全体の配列誤差が大きくなってしまう。接着剤層を薄くして厚さバラツキや硬化収縮の影響を抑制したとしても、適切な厚みを保持しなければ接着特性が不十分になって長期信頼性を確保できなくなることがあり、その厚みの制御は容易ではない。
(3)一般に、V溝基板122は、半導体やガラスやセラミックス等の基板に精密機械加工やエッチングプロセスでV字形の溝部を形成することにより作製されるが、このような高精度な機械加工やプロセスを伴う製造方法は、大量生産に適さず、製造コストの低減を図ることが困難である。
(4)また、V溝基板122に整列させる光ファイバ121の外径は50μm〜125μmと非常に細く、かつ表面を保護する被覆が取り除かれた状態であるため破断しやすい。あるいは破断しないまでも微小な傷が表面に付いて将来的に断線の原因となることがあるため、取り扱いには注意を要する。また、V溝基板122の外側に引き出された光ファイバには、一般に外径250μmの一次被覆が施されており表面は保護されているが、機械強度が低いため、わずかな張力が掛かったり、V溝基板122の端部に応力が集中したりするだけで折れることがある。このため、光ファイバ121をアレイ化した後に断線が発生するなどして製造歩留まりを下げることがあり、図10に示す二次元の光ファイバアレイ120の組み立てコストの削減は難しい。
(5)また、反射損失を十分小さくするためには、斜め研磨コネクタのように光ファイバ端面を光軸に対して斜めにし、反射戻り光が光ファイバコアへ結合することを防ぐ方法が有効であるが、先に述べたような細い外径の光ファイバ121を個々に斜め研磨することは、光ファイバ先端に欠け等が発生しやすく非常に困難である。個々に斜め研磨された光ファイバの研磨方向を全て揃えてアレイ化することは、光ファイバ単体の取り扱い、および研磨面を揃えて組み立てる実装の観点から、さらに困難であることは明らかである。この問題を回避するため、光ファイバ121をV溝基板122に整列・固定して一次元の光ファイバアレイ化した後に、V溝基板毎同基板を積層する方向(Y方向)に所定の角度を成すよう光ファイバ端面を斜め研磨し、それを積層して二次元化する方法も提案されている。しかしながら、二次元の光ファイバアレイ120に配列された光ファイバ121の配列間隔は、可能な限りの高密度化に対応できることが望ましく、このためV溝基板122の積層方向(Y方向)に対する光ファイバ配列間隔を制約するV溝基板122の厚みは、500μm〜1mmにすることが要求される。このように薄い基板の研磨は、基板の保持や研磨時の押圧力の調整が難しい。さらに、積層する複数のV溝基板を同時に斜め研磨しない限り、斜め研磨面の傾斜角度(Y−Z平面上でY軸に対し研磨面が成す傾き)や、当該研磨面の端面角度誤差(理想的な研磨においてはX−Z平面上で研磨端面とZ軸が垂直となる)がV溝基板毎にばらつくため、安定した光学特性を保証することが難しくなる。
以上の理由により、図10に例示した二次元の光ファイバアレイ120について、反射損失を防止するための傾斜端面を設けることは技術的に困難である。
[第1の実施の形態]
図1に全体を符号1で示す光ファイバアレイは、複数の光ファイバ2と、各光ファイバ2を保持するフェルール3およびフランジ4からなる光ファイバ継ぎ口手段5と、フェルール3を介して光ファイバ2を互いに平行にかつ所定の間隔をおいて保持する整列基板6とによって概ね構成されている。図2に示すように、フェルール3には、光ファイバ2の先端部の被覆が取り除かれて、コアとクラッドとからなる導波路の露出した部分が嵌入されている。また、フェルール3の光ファイバ2が挿入される側には、フェルール3から光ファイバ2にかけてこれらを保護するフランジ4が設けられている。フランジ4の中心に設けられた貫通孔は内径の太い部分と細い部分とから構成され、内径の太い部分にフェルール3の一部が嵌入され、細い部分に被覆付きの光ファイバ2が嵌入されている。
θ´=|sin-1(1.46×sinθ)−θ|
フェルール単体に予め傾斜面を形成して置き、整列基板に挿入する場合、各々のフェルールの傾斜面を同一の方向に揃える必要が生じるが、これについては、フェルールに傾斜面の方向を示す突起状のキーあるいはキー溝を設け、整列基板のガイド孔に、前記キーあるいはキー溝に適合するキー溝あるいはキーを設けて、両者が嵌合するよう挿入することで容易に解決することができる。なお、フェルールの傾斜面の方向を示す突起状のキーあるいはキー溝はフランジに設けてもよく、この場合、整列基板と概ね等しい配置で、前記キーあるいはキー溝を設けたフランジの外形状に適合するキー溝あるいはキーを備えたガイド孔を有する基板を用意し、これを前記フェルールの傾斜面が露出する面と反対側の面に装着して、フェルールを整列基板のガイド孔に挿入する際のガイドとしてフェルールの傾斜面を揃えることもできる。
次に、図7を用いて本発明の第3の実施の形態における光ファイバアレイについて説明する。なお、同図において、上述した図1ないし図6に示す第1および第2の実施の形態において説明した同一または同等の部材については同一の符号を付し詳細な説明は省略する。
次に、図8を用いて本発明の第4の実施の形態について説明する。この第3の実施の形態でも、上述した第3の実施の形態と同様に、整列基板21を、フェルール3との間で当該フェルール3の端面3aの傾きの方向を揃えるキー手段を有する配向基板20と、フェルール3のそれぞれが嵌合される貫通孔17aを有し各フェルール3を配列する貫通孔基板17とからなることを特徴としている。そして、図8に示すように、この第3の実施の形態では、フェルール3の端面3aの傾きを揃えるキー手段として、フランジ4の外周部の一部を平面で切り落とした形状の平坦部4bを設けている。一方、配向基板20には、フランジ4の平坦部4bが係合する図中左右方向に延在するキー手段としての長方形の孔20aが上下に四段設けられている。このようなキー手段の構造では、配向基板20の孔20aの形状が簡易となり、かつ行単位当たり一つの孔20aを形成すればよいから、加工の簡略化が可能になる。 また、上述した光ファイバアレイのいずれかの構成において、整列基板がトランスファー成型法により作製すれば、光ファイバの配列誤差を低コストで極めて小さくすることが容易である。
Claims (3)
- 複数の光ファイバと、
これら光ファイバのそれぞれが嵌入されて保持される光ファイバ用貫通孔が中心に設けられ、前記光ファイバを保持するフェルールとこのフェルールを保護するフランジとによって構成された複数の光ファイバ継ぎ口手段と、
これら光ファイバ継ぎ口手段のそれぞれが嵌合される複数の貫通ガイド孔が設けられた整列基板とを備え、
前記光ファイバの前記整列基板から露出した光入出射端面が光ファイバの中心軸と直交する面に対して所定角度だけ傾斜され、
前記光ファイバ継ぎ口手段のフランジは、その外周部の一部を平面で切り落とした形状の平坦部が設けられ、
前記整列基板は、前記光ファイバ継ぎ口手段との間で前記各光ファイバの光入出射端面の傾きの方向を揃えるため前記フランジの平坦部と係合する長方形の孔が設けられた配向基板と、前記光ファイバ継ぎ口手段のそれぞれが嵌合される貫通孔を有し前記各光ファイバを配列する貫通孔基板とからなることを特徴とする光ファイバアレイ。 - 請求項1記載の光ファイバアレイにおいて、
前記光ファイバの光入出射端面を無反射コート膜で被覆したことを特徴とする光ファイバアレイ。 - 請求項1または2記載の光ファイバアレイにおいて、
前記整列基板をトランスファー成型法によって形成したことを特徴とする光ファイバアレイ。
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