JP5164354B2 - 有機el素子 - Google Patents

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本発明は、陽極および陰極から成る一対の電極間に挟持された発光層と電子注入層を有する有機EL素子に関する。
有機EL素子の電子注入効率を向上させるために、ドナー(電子供与性)ドーパントとして機能する金属を有する電子注入層を設けているものがある(例えば、特許文献1参照)。同じ目的で金属酸化物あるいは金属塩をドナードーパントとして有する電子注入層が設けられているものもある(例えば、特許文献2参照)。
さらに、特許文献3、4には、特許文献1、2のようなドナードーパントを用いた有機EL素子において発光効率の経時的な低下(放置劣化)が起こり得ることが述べられている。
特開平10−270171号公報(2頁、9−13行、第1図) 特開平10−270172号公報(2頁、2−7行、第1図) 特開2005−063910号公報(3頁、25−30行) 特開2005−332690号公報(2頁、44−46行)
上述のようにドナードーパントを用いた有機EL素子の中には、経時的に発光効率が低下するものがある(放置劣化現象)。放置劣化現象は、電子注入層に含まれるドナードーパントが、あるいはドナードーパント由来の成分(以下、まとめて塩成分と呼ぶ)が発光層へ拡散し、これら塩成分が発光層の消光を引き起こすために発生すると考えられる。従ってドナードーパントを使用しなければ放置劣化現象を回避することはできるが、陰極からの電子注入性が低下し駆動電圧が上昇してしまう。
また、ドナードーパントを使用した場合においてもドーパント濃度を低くするか、あるいは発光層と電子注入層を空間的に隔離することによって放置劣化現象を抑制可能であることが特許文献3、4に記載されている。しかし、膜厚やドーパント濃度を制限することなく、しかも放置劣化を完全に防止できる方法はなかった。
そこで本発明は、電子注入性に優れたドナードーパントを使用した場合において放置劣化を完全に防止することができる有機EL素子を提供することを目的とする。
上記背景技術の課題を解決するための手段として、発明に係る有機EL素子の第1の態様は、陰極と、陽極と、前記陰極と前記陽極との間に配置される、発光層と前記陰極に電気的に接している電子注入層とを有し、前記電子注入層が、有機化合物からなるホストとアルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩からなるドナードーパントと、を有し、
前記電子注入層と前記発光層との間に、有機化合物層を有し、前記有機化合物層を構成する有機化合物は、
Figure 0005164354
で表わされる環状イミン構造を含まない芳香族環化合物のみから成ることを特徴とする
また本発明に係る有機EL素子の第2の態様は、陰極と、陽極と、前記陰極と前記陽極との間に配置される、発光層と前記陰極に電気的に接している電子注入層とを有し、前記電子注入層が、有機化合物からなるホストと、セシウム化合物からなるドナードーパントと、を有し、
前記電子注入層と前記発光層との間に、有機化合物層を有し、前記有機化合物層を構成する有機化合物は、
Figure 0005164354
で表わされる環状イミン構造を含まない芳香族環化合物のみから成ることを特徴とする。
また本発明に係る有機EL素子の第3の態様は、陰極と、陽極と、前記陰極と前記陽極との間に配置される、発光層と前記陰極に電気的に接している電子注入層とを有し、前記電子注入層が、有機化合物からなるホストと、少なくともアルカリ金属又はアルカリ土類金属又はアルカリ金属化合物又はアルカリ土類金属化合物からなるドナードーパントと、を有し、
前記電子注入層と前記発光層との間に、有機化合物層を有し、前記有機化合物層を構成する有機化合物は、
Figure 0005164354
で表わされる環状イミン構造を含まない芳香族環化合物のみから成り、
前記芳香族環化合物が、下記(i)又は(ii)を満たす芳香族環化合物であることを特徴とする。
(i)ピレン又はペリレンを部分構造として含む芳香族環化合物
(ii)下記式に示される芳香族環化合物のいずれか
Figure 0005164354
本発明によれば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物の何れかをドナードーパントとして使用した時に発生する放置劣化現象を防止することができる。具体的には、塩成分が拡散しない、あるいは拡散しにくい有機材料を電子注入層と発光層の間に挿入することにより塩成分の拡散を阻止し、これにより経時的な発光効率低下を防止することができる。
図1は本発明の有機EL素子の積層構造の一例を示す模式図である。図中、11は陽極側の基板であり、12は正孔注入用の陽極であり反射電極であるクロム(Cr)層を示している。13は正孔輸送層、14は発光層、15は有機化合物層、16は電子注入層、17は電子注入用の陰極であり発光取り出し用の透明電極であるインジウム錫酸化物(ITO)層を示している。
陰極17と電気的に接している電子注入層16はアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物の何れかをドナードーパントとして含有する有機層である。
ドナードーパントは無機塩、有機塩の何れであってもよく、特許文献1〜4に例示されている材料を用いることもできる。例えば電子注入性に優れるセシウム化合物や、取り扱いが容易な炭酸塩などが好適に用いられる。また、ドナードーパントの種類によっては拡散性のものと拡散しないものがあることも考えられるが、本発明の技術は拡散性の有無に関わらず好適に用いることができる。
電子注入層16のホスト材料として用いる有機化合物は、電子輸送性を有することが好ましい。例えばフェナントロリン系化合物やトリス[8−ヒドロキシキノリナト]アルミニウム(アルミキノリノール)などの金属錯体が好適に用いられる。
有機化合物層15は、塩成分の拡散を阻止し、本発明の効果を発現する層である。
具体的には、
Figure 0005164354
で表される環状イミン構造を含まない芳香族環化合物のみから成る。環状イミン構造を含まない芳香族環化合物が塩成分の拡散を阻止するメカニズムは現時点で明確ではないが、塩成分との親和性・結合力が小さいため塩成分の移動経路(ホッピングサイト)となりにくく、その結果拡散を抑制することができると考えられる。よって、放置劣化の発生を有効に防止することができる。
ちなみに、芳香族環化合物は、C、H、Si、Bから選択される元素のみから成ると、塩成分の移動をより有効に抑制することができる。また、電子注入・輸送に寄与しない極性基によって素子駆動電圧が上昇する影響も軽減することができる。よって、放置劣化の発生を有効に防止するとともに、より低電圧で駆動する有機EL素子を実現することができる。
また、芳香族環化合物は、ナフタレン、アントラセン、ペリレン、ピレンに代表されるような芳香族縮合環基を含有すると、電子輸送性に優れるので良い。放置劣化の発生を有効に防止するとともに、塩成分が拡散した場合と同等の低電圧駆動が可能な有機EL素子を実現することができる。
発光層14には、公知の発光材料を何れも好適に用いることができる。発光材料は、単体で発光層として機能する材料を用いても良いし、ホスト材料と発光ドーパントや電荷輸送ドーパント、発光補助ドーパントなどとの混合系として機能する材料を用いても良い。発光領域は発光層14内の正孔注入側界面に存在するもの、電子注入側界面に存在するもの、さらに発光層14全体に広がっているものなどが考えられるが、前述のように発光領域は発光層14内のどの部位にあっても本発明の技術を好適に用いることができる。また、発光材料の性質により塩成分を拡散させるものと拡散させないものがあることも考えられるが、本発明の技術は発光層14における塩成分の拡散性の有無に関わらず好適に用いることができる。
ここで、ドナードーパントをドープした発光層14のPL強度を調べた結果、発光層14の材料やドナードーパントの種類によっても異なるが、概ね0.01〜0.1vol%以上ドープするとPL発光が低下した。
一方、陰極17から電子注入層16への良好な電子注入性を達成するためには、電子注入層16におけるドナードーパントのドープ濃度は概ね1vol%(概ね1〜5wt%)程度含有されることが好ましい
従って、電子注入に必要なドナードーパント(>1vol%)をドープしつつ放置劣化を防止する(<0.01vol%)ために、発光層14の側端面における塩成分濃度が、電子注入層16の側端面における塩成分濃度の1/100以下であることが好ましい。さらに本発明の有機化合物層15は、塩成分の濃度勾配が10nmあたり1/100以上であればなお良い。なぜなら、10nm以下の膜厚で塩成分の拡散を阻止できれば、より低電圧での駆動が可能になり、光学設計上も有利なためである。
なお、陰極17は、例示した図1のようにITOなどの透明電極を使用してトップエミッション素子としても良いし、図4のようにアルミニウム(Al)などの反射電極を使用してボトムエミッション素子としても良い。
以下、本発明の具体的な実施例として、有機EL素子の作製手順、測定した同有機EL素子の特性を示す。なお、芳香族環化合物は以下の実施例に例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。
<実施例1>
図1の模式図に示す積層構造を有する有機EL素子を以下の手順により作製した。
基板11上にクロム(Cr)をスパッタ法にて200nmの膜厚で成膜し、陽極12を形成した。その後、該基板にUV/オゾン洗浄処理を施した。続いて真空蒸着装置に洗浄処理済みの基板と材料を取り付け1×10-3Paまで排気した後、陽極12上にN,N’−ビス(1−ナフチル)−N,N’−ビス−ジフェニルベンジジン(α−NPD)を50nmの膜厚となるように成膜して正孔輸送層13を形成した。
その上に、
Figure 0005164354
で表されるトリス[8−ヒドロキシキノリナト]アルミニウム(アルミキノリノール)と、
Figure 0005164354
で表されるクマリン6(1.0wt%)との共蒸着膜を30nmの膜厚となるように成膜して発光層14を形成した。
前記発光層14の上に、
Figure 0005164354
で表される有機化合物を10nmの膜厚となるように成膜して有機化合物層15を形成した。
そして、
Figure 0005164354
で表されるフェナントロリン化合物と炭酸セシウム(Cs2CO3)とを膜厚比92.5:7.5の割合で混合されるよう各々の蒸着速度を調節して40nmの膜厚となるように成膜し、電子注入層16を形成した。
電子注入層16まで成膜した基板を別のチャンバーへ移動させ、前記電子注入層16上にITOをスパッタ法にて150nmの膜厚となるように成膜し、陰極17を形成した。
最後に窒素雰囲気下で基板11にガラスキャップを貼り付けて封止し、有機EL素子を作製した。
上記作製手順により得られた有機EL素子に直流電圧を印加し、発光特性を調べた。また、この有機EL素子の発光効率の経時変化を調べた。その結果この有機EL素子は、電流密度が20mA/cm2の時の電流効率が約2.3cd/Aであり、40日経過後の劣化率は0%で、放置劣化は見られなかった。
また、この有機EL素子に電流を10mA/cm2流すために必要な印加電圧は8.8Vであった。
<比較例1>
実施例1と同様な条件にて、<化4>の有機化合物の代わりに<化5>で表されるフェナントロリン化合物を10nmの膜厚となるように成膜して有機化合物層を形成したことを除いては、実施例1と同様の方法で有機EL素子を作製した。
この有機EL素子は、電流密度が20mA/cm2の時の電流効率が約4.6cd/Aであり、26日経過後の劣化率は91%、126日経過後の劣化率は約96%で、明確な放置劣化が見られた(図2参照)。
また、この有機EL素子に電流を10mA/cm2流すために必要な印加電圧は3.4Vであり、塩成分が有機化合物層に拡散することによって駆動電圧が低電圧化していると考えられる。
<実施例2>
実施例1と同様な条件にて、<化4>の有機化合物の代わりに、
Figure 0005164354
で表される有機化合物を10nmの膜厚となるように成膜して有機化合物層を形成したことを除いては、実施例1と同様の方法で有機EL素子を作製した。
この有機EL素子は、電流密度が20mA/cm2の時の電流効率が約6.7cd/Aであり、112日経過後の劣化率は0%で、放置劣化は見られなかった。
また、この有機EL素子に電流を10mA/cm2流すために必要な印加電圧は5.2Vであった。
<実施例3>
実施例1と同様な条件にて、<化4>の有機化合物の代わりに、
Figure 0005164354
で表される有機化合物を10nmの膜厚となるように成膜して有機化合物層を形成したことを除いては、実施例1と同様の方法で有機EL素子を作製した。
この有機EL素子は、電流密度が20mA/cm2の時の電流効率が約5.0cd/Aであり、126日経過後の劣化率は0%で、放置劣化は見られなかった(図3参照)。
また、この有機EL素子に電流を10mA/cm2流すために必要な印加電圧は3.9Vであり、比較例1の塩成分が有機化合物層に拡散した有機EL素子と同等の低電圧で電流を流すことができた。
<比較例2>
実施例1と同様な条件にて、<化4>の有機化合物の代わりにアルミキノリノールを10nmの膜厚となるように成膜して有機化合物層を形成したことを除いては、実施例1と同様の方法で有機EL素子を作製した。
この有機EL素子は、電流密度が20mA/cm2の時の電流効率が約6.3cd/Aであり、55日経過後の劣化率は約58%で、明確な放置劣化が見られた。
<実施例4>
次に、ボトムエミッション構造の有機EL素子における本発明の適用例を示す。
図4は本発明の有機EL素子の積層構造の一例を示す模式図である。図中、21は陽極側の基板であり、22は正孔注入用の陽極であり透明電極であるITO層を示し、23は正孔輸送層、24は発光層、25は有機化合物層、26は電子注入層、27は電子注入用の陰極であり反射電極であるアルミニウム(Al)層を示している。
図示した有機EL素子を以下の手順により作製した。
基板21上にITOをスパッタ法にて200nmの膜厚となるように成膜し、陽極22を形成した。その後、該基板にUV/オゾン洗浄処理を施した。続いて真空蒸着装置に洗浄処理済みの基板と材料を取り付け1×10-3Paまで排気した後、陽極22上にN,N’−ビス(1−ナフチル)−N,N’−ビス−ジフェニルベンジジン(α−NPD)を50nmの膜厚となるように成膜して正孔輸送層23を形成した。
その上にアルミキノリノールとクマリン6(1.0wt%)との共蒸着膜を30nmの膜厚となるように成膜して発光層24を形成した。
前記発光層24上に上記<化7>で表される有機化合物を10nmの膜厚となるように成膜して有機化合物層25を形成した。
そして上記<化5>で表されるフェナントロリン化合物と炭酸セシウム(Cs2CO3)とを膜厚比97:3の割合で混合されるよう各々の蒸着速度を調節して40nmの膜厚となるように成膜し、電子注入層26を形成した。
前記電子注入層26上にAlを150nmの膜厚となるように成膜し、陰極27を形成した。
最後に窒素雰囲気下で基板21にガラスキャップを貼り付けて封止し、有機EL素子を作製した。
上記作製手順により得られた有機EL素子に直流電圧を印加し、発光特性を調べた。また、この有機EL素子の発光効率の経時変化を調べた。その結果この有機EL素子は、電流密度が20mA/cm2の時の電流効率が約7.7cd/Aであり、100日経過後の劣化率は0%で、放置劣化は見られなかった。
<比較例3>
実施例4と同様な条件にて、上記<化7>の有機化合物の代わりに上記<化5>で表されるフェナントロリン化合物を10nmの膜厚となるように成膜して有機化合物層を形成したことを除いては、実施例4と同様の方法で有機EL素子を作製した。
この有機EL素子は、電流密度が20mA/cm2の時の電流効率が約7.0cd/Aであり、100日経過後の劣化率は約88%で、明確な放置劣化が見られた。
本発明の有機EL素子は、照明やディスプレイや電子写真方式の画像形成装置の露光光源としても利用できる。照明に用いる場合、有機EL素子は1つで用いても良い。ディスプレイや電子写真方式の画像形成装置の露光光源には複数の有機EL素子を利用することが好ましい。ディスプレイとはテレビやパソコンの表示部や電子機器に搭載される表示部といった画像表示装置のことである。電子機器に搭載される表示部として好ましくは車内の表示部であったり、デジタルカメラの画像表示部であったり、あるいは複写機やレーザービームプリンタといった事務機器の操作パネルを挙げることができる。
本発明および比較例の有機EL素子の積層構造例を示す模式図である。 比較例1の有機EL素子の発光効率の経時変化を示すグラフである。 実施例3の有機EL素子の発光効率の経時変化を示すグラフである。 本発明および比較例の有機EL素子の積層構造例を示す模式図である。
符号の説明
11 基板
12 陽極
13 正孔輸送層
14 発光層
15 有機化合物層
16 電子注入層
17 陰極
21 基板
22 陽極
23 正孔輸送層
24 発光層
25 有機化合物層
26 電子注入層
27 陰極

Claims (9)

  1. 陰極と、陽極と、前記陰極と前記陽極との間に配置される、発光層と前記陰極に電気的に接している電子注入層とを有し、前記電子注入層が、有機化合物からなるホストとアルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩からなるドナードーパントと、を有し、
    前記電子注入層と前記発光層との間に、有機化合物層を有し、前記有機化合物層を構成する有機化合物は、
    Figure 0005164354
    で表わされる環状イミン構造を含まない芳香族環化合物のみから成ることを特徴とする有機EL素子。
  2. 陰極と、陽極と、前記陰極と前記陽極との間に配置される、発光層と前記陰極に電気的に接している電子注入層とを有し、前記電子注入層が、有機化合物からなるホストと、セシウム化合物からなるドナードーパントと、を有し、
    前記電子注入層と前記発光層との間に、有機化合物層を有し、前記有機化合物層を構成する有機化合物は、
    Figure 0005164354
    で表わされる環状イミン構造を含まない芳香族環化合物のみから成ることを特徴とする有機EL素子。
  3. 前記ドナードーパントは、炭酸セシウムであることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL素子。
  4. 前記芳香族環化合物は、C、H、Si、Bから選択される元素のみから成ることを特徴とする請求項1乃至のいずれか一項に記載の有機EL素子。
  5. 前記芳香族環化合物は、芳香族縮合環基を部分構造として含むことを特徴とする請求項1乃至のいずれか一項に記載の有機EL素子。
  6. 陰極と、陽極と、前記陰極と前記陽極との間に配置される、発光層と前記陰極に電気的に接している電子注入層とを有し、前記電子注入層が、有機化合物からなるホストと、少なくともアルカリ金属又はアルカリ土類金属又はアルカリ金属化合物又はアルカリ土類金属化合物からなるドナードーパントと、を有し、
    前記電子注入層と前記発光層との間に、有機化合物層を有し、前記有機化合物層を構成する有機化合物は、
    Figure 0005164354
    で表わされる環状イミン構造を含まない芳香族環化合物のみから成り、
    前記芳香族環化合物が、下記(i)又は(ii)を満たす芳香族環化合物であることを特徴とする有機EL素子。
    (i)ピレン又はペリレンを部分構造として含む芳香族環化合物
    (ii)下記式に示される芳香族環化合物のいずれか
    Figure 0005164354
  7. 前記電子注入層において、前記ドナードーパントのドープ濃度は、1wt%〜5wt%であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の有機EL素子。
  8. 前記発光層の前記有機化合物層側端面における前記ドナードーパント成分の濃度は、前記電子注入層の前記有機化合物層側端面における前記ドナードーパント成分の濃度の1/100以下であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の有機EL素子。
  9. 前記有機化合物層に含まれる前記ドナードーパント成分は、10nmあたり1/100以上の濃度勾配を有することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の有機EL素子。
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