JP5162139B2 - 露光装置用狭帯域レーザ装置 - Google Patents
露光装置用狭帯域レーザ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5162139B2 JP5162139B2 JP2007027751A JP2007027751A JP5162139B2 JP 5162139 B2 JP5162139 B2 JP 5162139B2 JP 2007027751 A JP2007027751 A JP 2007027751A JP 2007027751 A JP2007027751 A JP 2007027751A JP 5162139 B2 JP5162139 B2 JP 5162139B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- polarized light
- light
- stage laser
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
露光装置用光源のArFレーザ光源の要求を以下に示す。
1.高ドーズ安定性の確保と、高スループット化に伴い40W以上の出力が要求されている。
2.投影レンズの高解像度化のために投影レンズの高NA化が進められている。高NA化にともなって、色収差が発生し、超狭帯域化(半値全幅0.2pm以下、または、全エネルギーの95%が入る線幅0.5pm以下)が要求される。
3.レーザ光源の長寿命化が要求されている。
上記光源の要求を満たすために、ダブルチャンバ方式(2ステージ方式)のArFレーザが実用化されている。ダブルチャンバ方式のレーザ装置の形態としては、アンプ側に共振器ミラーを設けないMOPA(Master Oscillator Power Amprifier )方式と共振器ミラーを設けるMOPO(Master Oscillator Power Oscillator)方式とに大別される。
しかし、出力90Wのような高出力化のために、増幅器(PA)または増幅段レーザ(PO)の光学素子(特にチャンバウインドやOC)負荷が大きくなり、これら光学素子の寿命が課題となっており、レーザ光源の長寿命化が要求されるようになってきている。
特許文献1に記載のものは、発振段レーザ(MO)に狭帯域化するための狭帯域化モジュールを搭載し、スペクトル幅が非常に狭いレーザ光を出力し、このシード光を増幅器(PA)のチャンバの放電領域に注入してパワーを増幅することにより、超狭帯域かつ高出力を実現している。
また、特許文献2には、発振段レーザ(MO)からのシード光を、増幅段レーザ(PO)の低コヒーレンス共振器に注入するMOPO方式のレーザ装置が提案されている。
低空間コヒーレンスのMOPO方式を採用することにより、MOPA方式に比べて、ビーム品位をMOPAと同等に維持した状態で、高い増幅効率と長いパルス幅を実現している。
同図において、発振段レーザ(MO)10から放出されるレーザビームはシードレーザビームとして機能し、増幅段レーザ(PO)20はそのシードレーザ光を増幅する機能を有する。発振段レーザ(MO)10、増幅段レーザ(PO)20は各々レーザチャンバ11,21を有し、それぞれ内部には対向し、かつ所定距離だけ離間した一対の電極1a、2aが設置される。
また、発振段レーザ10と増幅段レーザ20のチャンバ11,21には、レーザ発振光に対して透過性がある材料によって作られたウィンドウ部材12a,12b,22a,22bがそれぞれ設置されている。
発振段レーザ(MO)10はスペクトル線幅を狭くするため、拡大プリズム3aとグレーティング(回折格子)3bによって構成された狭帯域化モジュール(LNM)3を有し、この狭帯域化モジュール3内の光学素子と出力結合ミラー(OC)14とでレーザ共振器を構成する。
レーザチャンバ11内にはバッファガスとArガスとF2 ガスが満たされており、図示しない電源から電極1a間に電圧を印加することで放電し、この放電により励起されArFエキシマが形成される。
このArFエキシマからArガスとFに分離する時に193nmの波長の光を発光する。193nmの光をLNM3で波長選択することにより、スペクトル幅(半値全幅)約400pm→0.2pmまで狭帯域化して、発振段レーザ(MO)10のOC14から出力される。
発振段レーザ10からのMOレーザ光(シード光)は高反射ミラー4a,4bで反射され、増幅段レーザ(PO)20のリアミラー26から注入される。このシード光に同期して、図示しない電源から放電電極2a間に電圧が印加され放電する。そして放電空間を透過したシード光は増幅され、増幅した光の一部は出力結合ミラー(OC)24を透過してレーザとして出力し、OC24の反射光は再びチャンバ21内にフィードバックされ共振する。
以上のように図7に示した従来のMOPO方式のレーザ装置は、MOレーザ光の注入効率は、比較的低かった。
発振段レーザ(MO)10の構成及び動作は上記図7で説明したのと同様であり、発振段レーザ(MO)10のOC14からは、狭帯域化されたMOレーザ光が出力される。 発振段レーザ10からのMOレーザ光(シードレーザビーム)は高反射ミラー4a,4b,4cを介して増幅段レーザ(PO)20へ導かれ注入される。
増幅段レーザ(PO)20は図8(b)に示すように、光入射側に反射防止(AR)膜が施された部分反射(PR)ミラーであるOC24と、高反射ミラー5a,5b,5cで構成されるリング共振器を有する。
(1)増幅段レーザ(PO)20のリング共振器を構成するミラーのアライメント調整が困難である。
(2)リング共振器の往路と復路でレーザウインドを通過する光路が異なるため、増幅段レーザ(PO)20のレーザチャンバ21のウインドを大きくする必要があり高価となっていた。
(3)ミラーの端部まで有効な研磨及びコートを必要としていた。
本発明は上述した従来の問題点を解決するためになされたものであって、高い注入効率でMOレーザ光を増幅段レーザ(PO)に注入することができ、ミラーのアライメントが容易な露光装置用レーザ装置を提供することを目的とする。
(1)実施形態の一態様による露光装置用狭帯域レーザ装置は、狭帯域発振段レーザと共振器を配置した増幅段レーザとからなる注入同期式放電励起レーザ装置であって、前記増幅段レーザのレーザチャンバの出力側に、P偏光を部分反射し且つS偏光を高反射する反射膜でコートされた出力結合ミラーと、直線偏光を円偏光に及び円偏光を直線偏光に変換する第1のλ/4板と、第1の高反射ミラーとが配置され、前記増幅段レーザのレーザチャンバのリア側に、直線偏光を円偏光に及び円偏光を直線偏光に変換する第2のλ/4板と、第2の高反射ミラーとが配置され、前記発振段レーザからのレーザ光は、当該発振段レーザから直線偏光で出力され、該レーザ光は、前記出力結合ミラーにS偏光またはP偏光で導かれ、上記出力結合ミラーを介して上記第1のλ/4板および前記第1の高反射ミラーに順に入射し、前記第1の高反射ミラーで反射した前記レーザ光は、前記第1のλ/4板及び前記出力結合ミラーを介して上記共振器内に注入されてもよい。
(2)実施形態の他の態様による露光装置用狭帯域レーザ装置は、狭帯域発振段レーザと共振器を配置した増幅段レーザとからなる注入同期式放電励起レーザ装置であって、前記増幅段レーザのレーザチャンバの出力側に、P偏光を部分反射する反射膜でコートされた出力結合ミラーと、直線偏光の偏波面を90度回転させるλ/2板と、第1の高反射ミラーと、P偏光を透過し且つS偏光を高反射するビームスプリッタとが配置され、前記増幅段レーザのレーザチャンバのリア側に、直線偏光を円偏光に及び円偏光を直線偏光に変換するλ/4板と、第2の高反射ミラーとが配置され、前記発振段レーザからのレーザ光は、当該発振段レーザから直線偏光で出力され、該レーザ光は、前記出力結合ミラーにS偏光またはP偏光で導かれ、上記出力結合ミラーを介して上記λ/2板および前記第1の高反射ミラーに順に入射し、前記第1の高反射ミラーで反射した前記レーザ光は、上記ビームスプリッタを介して上記共振器内に注入されてもよい。
また、前記図8に示したようなリング共振器を用いていないので、増幅段レーザ(PO)の共振器のアライメントが容易であり、安定して動作させることができる。
図1(a)はレーザの側面図、図1(b)は増幅段レーザ(PO)の上面図である。
図1(a)において、発振段レーザ(MO)10は、スペクトル線幅を狭くするため、拡大プリズム3aとグレーティング(回折格子)3bによって構成された狭帯域化モジュール(LNM)3を有する。
LNM3の拡大プリズム3a及び発振段レーザ(MO)のチャンバ11のウインド12a,12bは、ブリュースタ角で設置されており、図1(a)の紙面に対して垂直な偏波面でレーザ発振する。
この発振段レーザ(MO)10から出力されたレーザ光は偏波面を維持した状態で高反射ミラー4aにより反射し、このレーザ光はシード光としてビームスプリッタ(以下、BSという)25に45度で入射する。BS25の片面(チャンバ21側)には、入射角度45度でP、S偏光を分離するPS分離膜がコートされ、他の片面(出力側)には反射防止(AR)膜がコートされている。
OC24の共振器側の片面には部分反射(PR)膜がコートされ、他の片面(出力側)には反射防止(AR)膜がコートされている。
上記シード光は増幅段レーザ(PO)20のチャンバ21のウインド22aを介して、放電電極ギャップ間を透過して増幅される。
このレーザ光はチャンバ21のウインド22bを透過して高反射膜がコートされたリアミラー26に入反射して再びチャンバ21のウインド22bを透過して、放電電極ギャップ間を透過して増幅される。そして、OC24により一部が反射されて再び増幅段レーザ(PO)20の共振器内に戻される。円偏光でOC24から出力したレーザ光は再びλ/4板27により、図1(a)の紙面を含む偏波面に変換される。この偏光状態の光はBS25に対してP偏光成分の光なのでほとんど全てBS25を透過し出力レーザ光として取り出される。
本実施例のメリットは、増幅段レーザ(PO)20のOC24の反射率が20%から30%で動作するので、注入効率が70%から80%の高い効率を得ることができることである。また、前記図8に示したリング共振器を用いたもと比べ、共振器のアライメントが容易であり、動作も安定している。
図1に示した実施例と異なる点は、レーザの最終出力ビームの偏波面が図2(a)の側面図において紙面に対して垂直に出力されるように、発振段レーザ(MO)10から出力されたビームの偏波面をλ/2板を透過させることにより、図2(a)の紙面を含む偏波面に変換して、BS25のPS分離膜に対してS偏光として入射させている点である。
図2(a)において、前述したように発振段レーザ(MO)10のLNM3の拡大プリズム3a及びチャンバ11のウインド11a,11bがブリュースタ角で設置されており、図2(a)の紙面に対して垂直な偏波面の直線偏光でレーザ発振する。
この発振段レーザ(MO)10から出力されたレーザ光は偏波面を維持した状態で高反射ミラー4a及び4bを介して、λ/2板28に入射する。
そして、高入射角度で高反射ミラー4cを入射して反射し、前述した片面(チャンバ21側)にPS分離膜、他の片面(出力側)に反射防止(AR)膜をコートしたBS25に高入射角度で入射する。
このBS25のPS分離膜に対してS偏光(図2(b)の紙面に対して垂直な偏光)は全反射する。この反射光はλ/4板27を透過し円偏光に変換される。この円偏光に変換されたレーザ光は、増幅段レーザ(PO)20の共振器のOC24に入射する。OC24の共振器側の片面には前述したように部分反射(PR)膜がコートされ、他の片面(出力側)には反射防止(AR)膜がコートされている。
円偏光でOC24から出力したレーザ光は再びλ/4板27により、図2(b)の紙面を含む偏波面の直線偏光に変換される。この直線偏光はBS25に対してP偏光成分の光であり、ほとんど全てBS25を透過し出力レーザ光として取り出される。
この場合の偏光方向は、前記図1に示した第1の実施例に対して、90度変化した状態となっている。
本実施例のメリットは、前記実施例と同様、増幅段レーザ(PO)20のOC24の反射率が20%から30%で動作するので、注入効率が70%から80%の高い効率を得ることができる。また、増幅段レーザ(PO)の共振器のアライメントが容易であり、その動作は安定している。
また、上述した図1に示した実施例に対するメリットは、発振段レーザ(MO)と同じ偏波面の直線偏光を出力することが可能となることである。本実施例では、このような発振段レーザ(MO)と同じ偏波面の直線偏光を出力することが可能であるので、出力レーザ光の先の光路にλ/2板を配置して、偏光方向を元に戻す必要がなくなる。
また、一般に短波長域でのP、S偏光を分離する膜の入射角度は60から70度とすることで、耐久性及び効率(P偏光に対して高い透過率、S偏光に対して高い反射率)を維持することができる。図2の実施例では、高反射ミラー4cをS偏光に対して高反射角度の多層膜をコートして、この高反射ミラー4cにより反射させて、高入射角度60から70度でBS25に入射させることができるため、効率よく出力レーザ光を取り出すことが可能となるとともに、耐久性を高めることができる。
図3(a)にレーザの側面図を示し、図3(b)に増幅段レーザ(PO)の上面図を示す。
図3(a)において、前述したように発振段レーザ(MO)10はLNM3の拡大プリズム3a及びチャンバ11のウインド11a.11bがブリュースタ角で設置されており、図3(a)の紙面に対して垂直な偏波面の直線偏光でレーザ発振する。この発振段レーザ(MO)10から出力されたレーザ光は偏波面を維持した状態で高反射ミラー4a及び4bを介して、λ/2板28に入射し、λ/2板28を透過して、図3(a)の紙面に平行な直線偏光に変換される。
BS25のPS分離膜を透過したP偏光のシード光は、λ/4板27により円偏光に変換され、増幅段レーザ(PO)の共振器のOC24に入射する。OC24には前述したように共振器側の片面には部分反射(PR)膜がコートされ、他の片面(出力側)には反射防止(AR)膜がコートされている。
このOC24から増幅段レーザ(PO)20の共振器中にシード光が注入されチャンバ21のウインド22aを介して、放電電極2aのギャップ間を透過して増幅され、ウインド22bを透過して高反射膜がコートされたリアミラー26に入反射して再びチャンバ21のウインド22bを透過する。そして、放電電極2aのギャップ間を透過して増幅され、OC24により一部が反射されて、再び共振器内に戻される。
一方、円偏光でOC24から出力したレーザ光は再びλ/4板27により、図3(a)の紙面に対して垂直な直線偏光に変換され、BS25のPS分離膜にS偏光として入射し、BS25で高反射する。そして、高反射ミラー4cにより高反射されて、出力レーザ光として出力される。
本実施例のメリットは、前記した実施例と同様、増幅段レーザ(PO)20のOC24の反射率が20%から30%で動作するので、注入効率が70%から80%の高い効率を得ることができ、PO共振器のアライメントが容易で安定していることである。
また、図1の実施例に対するメリットは、図2の実施例と同様、発振段レーザ(MO)10の出力と同じ偏波面の直線偏光を出力することが可能となることである。これにより、互換性を維持するために、出力レーザ光の先の光路にλ/2板を配置して、偏光方向を元に戻す必要がなくなる。
さらに、図2の実施例に対するメリットとしては、エネルギの弱いP偏光の注入光をBS25のPS分離膜を透過させて、エネルギの高いS偏光の出力光をBS25で反射させるように構成しているため、BS25のPS分離膜の耐久性が図2の実施例に比べて高くなることである。
図4は、増幅段レーザ(PO)20の上面図を示し、発振段レーザ(MO)を含む側面図は図2、図3と同じである。
図4において、前述したように発振段レーザ(MO)の出力光は偏波面を維持した状態で高反射ミラー4aおよび4bで反射し、高反射ミラー4cにより、図4の紙面を含む面と同一偏波面の直線偏光でOC24に入射する。
ここで、OC24は、片面(チャンバ21側)に入射角度45度でP偏光透過、S偏光を高反射する膜がコートされており、もう一方の片面(出力側)には、P偏光を20%から30%反射する膜がコートされている。
このOC24では、S偏光が高反射され、シード光はチャンバ21のウインド22aを介して、放電電極2aのギャップ間を透過して増幅され、ウインド22bを透過して、λ/4板27bを透過して円偏光に変換される。この光は高反射膜がコートされたリアミラー26に入反射して再びλ/4板27bを透過して、紙面を含む面の偏波面の直線偏光に変換される。
この直線偏光はチャンバ21のウインド22bを透過して、放電電極2aのギャップ間を透過増幅してOC24にP偏光として入射し、PS分離膜を透過する。そして、OC24のP偏光を部分反射する膜で一部が反射されてフィードバック光として再びλ/4板1に入射して共振する。
また、この実施例ではOC24として、片面にPS分離膜(P偏光透過、S偏光高反射)、もう片面はP偏光部分反射膜をコートしたがこれに限定されることなく、片面P偏光30%反射、かつS偏光高反射膜をコートし、もう片面を反射防止(AR)膜のコートをしてもよい。
本実施例のメリットは、前述した実施例と同様、増幅段レーザ(PO)20のOC24の反射率が20%から30%で動作するので、注入効率が70%から80%の高い効率を得ることができ、また、増幅段レーザ(PO)の共振器のアライメントが容易で安定していることである。
図5は、増幅段レーザ(PO)20の上面図を示し、発振段レーザ(MO)を含む側面図は図2、図3と同じである。
図5において、前述したように発振段レーザ(MO)の出力光は偏波面を維持した状態で高反射ミラー4aおよび4bで反射し、高反射ミラー4cにより、図4の紙面を含む面と同一偏波面の直線偏光でOC24に入射する。
ここで、OC24は、片面(チャンバ21側)に入射角度30度でP偏光に対する反射防止(AR)膜がコートされ、もう一方の片面(出力側)には、P偏光を20%から30%反射する膜がコートされている。
このOC24を透過したシード光はλ/2板28を透過し、紙面に対して垂直な偏波面の直線偏光に変換され高反射ミラー4dにより、入射角度30度で高反射される。そして、BS25に入射角度60度でS偏光として入射する。
この光は高反射膜がコートされたリアミラー26に入反射して再びλ/4板27を透過して、紙面に平行な面の偏波面の直線偏光に変換される。この直線偏光はチャンバ21のウインド22bを透過して、放電電極ギャップ2a間を透過して増幅され、ウインド22aを介してBS25にP偏光として入射する。そしてPS分離膜を透過する。そして、P偏光に対して部分反射するOC24で一部が反射されてフィードバック光として再びλ/2板28に入射して共振する。
本実施例のメリットは、前述した実施例と同様、増幅段レーザ(PO)20のOC24の反射率が20%から30%で動作するので、注入効率が70%から80%の高い効率を得ることができ、また、増幅段レーザ(PO)の共振器のアライメントが容易で安定していることである。
また、前述した実施例に対するメリットは、リング共振器のように注入光軸と出力されるレーザ光軸がクロスしているので、増幅段レーザ(PO)20で増幅された出力光が発振段レーザ(MO)10まで戻ることがなく、発振段レーザ(MO)10が安定に発振することができる点にある。
なお、高純度で欠陥の少ない低光吸収のCaF2 結晶の110面の真性複屈折を利用した波長板、あるいは、MgF2 とGdF3 等のようなフッ化物の誘電体多層膜による反射型の波長板でもよい。さらに、全反射によるフレネル反射を利用した波長板(CaF2 等)でもよい。
図6(a)に、エアギャップ式の0次オーダのλ/4板の例を示す。
例えば、同図(a−1)に示すようにMgF2 から形成される厚みをコントロールした基板31a,31bを2枚平行にホルダ32に設置して、同図(a−2)に示すように直線偏光の光を光学軸に対して45度の角度で、入射させる。これにより、波長板を透過した光は円偏光に変換される。
MgF2 結晶は複屈折性をもつ結晶であり、例えば、屈折率の高い結晶軸方向の偏光成分の屈折率はne=1.448、低い結晶軸の方向偏光成分の屈折率はno= 1.434である。ここで、MgF2 の厚みをdとすると、位相のずれの次数mは次式(1)であらわされる。
m=2(ne−no)d/λ…(1)
例えば、波長はArFレーザの波長193.4nm、結晶の厚みd= 97.71μmで作成したとすると、位相のずれの次数はm=24.25となり、一枚の基板で構成してもλ/4板として機能する。ただし、この場合マルチオーダの波長板となるため、高出力のArFレーザの場合MgF2 材料の光の吸収により熱が発生し、熱応力により応力複屈折が発生して、波長板の位相差が変化し、λ/4板としての機能を果たさなくなる。
この例として例えば、1枚目のMgF2 基板の厚みd1= 97.71μmとして、2枚目のMgF2 基板の厚みd2=96.70μmで製作する。2枚目の結晶の位相差の次数mは24となる。
そして、1枚目のMgF2 基板と2枚目のMgF2 基板の光学軸を直交させて配置することにより、2枚のMgF2 基板を透過すると24.25−24=0.25の位相差となり、0次オーダの波長板を製作できる。
この場合高出力のレーザ光を吸収して熱応力が発生して位相差の次数が多少変化したとしても、2枚のMgF2 板でキャンセルするので、高出力ArFレーザに使用できる。また、各MgF2 基板の両面には反射防止(AR)膜がコートされており、フレネル反射によるロスを低減している。
CaF2 結晶の193.4nmにおける真性複屈折Δnは、[110]軸の屈折率n[110]と[001]軸の屈折率n[001]とすると次式(2)のようになる。
Δn=n[110]−n[001]=3.4nm/cm…(2)
そこで、ファーストオーダのλ/4=193.4/4=48.5nm、として機能するための結晶の厚みLはL=48.35/3.4=14.22cmとなる。
図6(b−1)に示すようにCaF2 結晶で、[110]軸方向長さLの結晶33を製作する。そして、図6(b−2)に示すように、この結晶に[110]軸方向入射光とこの結晶に入射する直線偏光の偏光面の角度が45度になるように入射させることにより、この結晶を透過した光は円偏光に変換されλ/4板として機能する。
近年CaF2 結晶の193nmに対して低吸収の材料が開発されてきているので、結晶の厚みが厚くなっても熱応力による位相差の変化は小さくできる。
例えば、CaF2 基板上に45度の入射角度で高反射し、λ/8位相を変化させる誘電帯多層膜を施す。このミラー34に、同図に示すように、直線偏光で45度の入射角度で入射反射させる。
このとき、このミラー34を入反射する光を含む面と、入射した直線偏光の偏光方向が45度の角度をつけて高反射する反射光はλ/8だけ位相がずれた楕円偏光となる。
そして、同様にもう一枚のCaF2 基板34上に45度の入射角度で高反射し、λ/8位相を変化させる高反射膜で同様な入射角度で反射させることにより、さらにλ/8位相がずれて、円偏光に変換される。
このようにして、2枚のλ/8板を2枚使用することにより、トータルとしてλ/4板としての機能を果たしている。
また、この例では、誘電帯多層膜による波長板の例を示したが、これに限定されることなく、CaF2 結晶のフレネル反射を利用した光学素子で波長板を構成してもよい。
3 LMN
4a〜4d 高反射ミラー
10 発振段レーザ(MO)
11,21 チャンバ
12a,12bウィンドウ部材
22a,22bウィンドウ部材
13,23 スリット
14 OC(出力結合ミラー)
20 増幅段レーザ(PO)
24 OC(出力結合ミラー)
25 ビームスプリッタ(BS)
26 リアミラー
27 λ/4板
28 λ/2板
Claims (2)
- 狭帯域発振段レーザと共振器を配置した増幅段レーザとからなる注入同期式放電励起レーザ装置であって、
前記増幅段レーザのレーザチャンバの出力側に、P偏光を部分反射し且つS偏光を高反射する反射膜でコートされた出力結合ミラーと、直線偏光を円偏光に及び円偏光を直線偏光に変換する第1のλ/4板と、第1の高反射ミラーとが配置され、
前記増幅段レーザのレーザチャンバのリア側に、直線偏光を円偏光に及び円偏光を直線偏光に変換する第2のλ/4板と、第2の高反射ミラーとが配置され、
前記発振段レーザからのレーザ光は、当該発振段レーザから直線偏光で出力され、該レーザ光は、前記出力結合ミラーにS偏光またはP偏光で導かれ、上記出力結合ミラーを介して上記第1のλ/4板および前記第1の高反射ミラーに順に入射し、
前記第1の高反射ミラーで反射した前記レーザ光は、前記第1のλ/4板及び前記出力結合ミラーを介して上記共振器内に注入される
露光装置用狭帯域レーザ装置。 - 狭帯域発振段レーザと共振器を配置した増幅段レーザとからなる注入同期式放電励起レーザ装置であって、
前記増幅段レーザのレーザチャンバの出力側に、P偏光を部分反射する反射膜でコートされた出力結合ミラーと、直線偏光の偏波面を90度回転させるλ/2板と、第1の高反射ミラーと、P偏光を透過し且つS偏光を高反射するビームスプリッタとが配置され、
前記増幅段レーザのレーザチャンバのリア側に、直線偏光を円偏光に及び円偏光を直線偏光に変換するλ/4板と、第2の高反射ミラーとが配置され、
前記発振段レーザからのレーザ光は、当該発振段レーザから直線偏光で出力され、該レーザ光は、前記出力結合ミラーにS偏光またはP偏光で導かれ、上記出力結合ミラーを介して上記λ/2板および前記第1の高反射ミラーに順に入射し、
前記第1の高反射ミラーで反射した前記レーザ光は、上記ビームスプリッタを介して上記共振器内に注入される
露光装置用狭帯域レーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007027751A JP5162139B2 (ja) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | 露光装置用狭帯域レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007027751A JP5162139B2 (ja) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | 露光装置用狭帯域レーザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008192957A JP2008192957A (ja) | 2008-08-21 |
JP5162139B2 true JP5162139B2 (ja) | 2013-03-13 |
Family
ID=39752747
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007027751A Active JP5162139B2 (ja) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | 露光装置用狭帯域レーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5162139B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10732524B2 (en) | 2015-07-31 | 2020-08-04 | Asml Holding N.V. | Optical system of an alignment system |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5775486A (en) * | 1980-10-28 | 1982-05-12 | Mitsubishi Electric Corp | Laser device |
US4734911A (en) * | 1986-03-14 | 1988-03-29 | Hughes Aircraft Company | Efficient phase conjugate laser |
JP2592938B2 (ja) * | 1988-11-11 | 1997-03-19 | 株式会社東芝 | パルスレーザ発振装置 |
JPH09181375A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-11 | Toshiba Corp | パルスガスレーザ装置 |
US8116347B2 (en) * | 2003-04-22 | 2012-02-14 | Komatsu Ltd. | Two-stage laser system for aligners |
US20050276300A1 (en) * | 2004-05-25 | 2005-12-15 | Nat'l Inst Of Info & Comm Tech Inc Admin Agency | Laser device using two laser media |
JP2006203008A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Komatsu Ltd | 2ステージレーザシステム |
JP5506194B2 (ja) * | 2005-11-01 | 2014-05-28 | サイマー インコーポレイテッド | レーザシステム |
-
2007
- 2007-02-07 JP JP2007027751A patent/JP5162139B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008192957A (ja) | 2008-08-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0402570B1 (en) | Narrow-band laser apparatus | |
US8804778B2 (en) | Laser apparatus and extreme ultraviolet light source apparatus | |
US6154470A (en) | Molecular fluorine (F2) laser with narrow spectral linewidth | |
US5150370A (en) | Narrow-band laser apparatus | |
US20090316746A1 (en) | Slab type laser apparatus | |
US20020141471A1 (en) | Resonator arrangement for bandwidth control | |
WO2006028078A1 (ja) | 受動qスイッチレーザ装置 | |
JP2014225700A (ja) | ガス放電チャンバ | |
US7158553B2 (en) | Master oscillator/power amplifier excimer laser system with pulse energy and pointing control | |
JP2002198588A (ja) | フッ素分子レーザ | |
US20080117948A1 (en) | Narrow-band laser device for exposure apparatus | |
JP4907865B2 (ja) | 多段増幅型レーザシステム | |
JP5162139B2 (ja) | 露光装置用狭帯域レーザ装置 | |
JP5393725B2 (ja) | 多段増幅型レーザシステム | |
JP5243716B2 (ja) | 露光装置用狭帯域レーザ装置 | |
JP2006073921A (ja) | 紫外線ガスレーザ用光学素子及び紫外線ガスレーザ装置 | |
JP4912125B2 (ja) | 露光装置用狭帯域レーザ装置 | |
US20020018506A1 (en) | Line selection of molecular fluorine laser emission | |
WO2018229854A1 (ja) | レーザ装置及び光学素子の製造方法 | |
US20230375847A1 (en) | Optical isolator, ultraviolet laser device, and electronic device manufacturing method | |
WO2004102752A1 (ja) | 固体レーザ装置 | |
US20230378713A1 (en) | Ultraviolet laser apparatus and electronic device manufacturing method | |
WO2014094262A1 (zh) | 准分子激光器复合腔 | |
US11978996B2 (en) | Tunable external cavity laser with dual gain chips | |
JP5096752B2 (ja) | 露光装置用狭帯域レーザ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091209 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111012 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111025 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20111108 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120403 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120531 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121115 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20121122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121211 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121217 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5162139 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151221 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |