JP5158072B2 - 金属含有塗料塗布物の電気特性解析装置 - Google Patents
金属含有塗料塗布物の電気特性解析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5158072B2 JP5158072B2 JP2009501137A JP2009501137A JP5158072B2 JP 5158072 B2 JP5158072 B2 JP 5158072B2 JP 2009501137 A JP2009501137 A JP 2009501137A JP 2009501137 A JP2009501137 A JP 2009501137A JP 5158072 B2 JP5158072 B2 JP 5158072B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- paint
- electrical
- analysis
- wave source
- physical property
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R29/00—Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
- G01R29/08—Measuring electromagnetic field characteristics
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
- Investigating And Analyzing Materials By Characteristic Methods (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
(解析モデル)
図3は、本実施例に係る電気特性解析装置100で解析する解析モデルの斜視図である。
(物性値)
本実施例に係るメタリック塗料301、筐体302、容量センサ303、ASIC304及び導体305の物性値は、表1のデータを使用する。
(電気特性解析処理)
図7は、本実施例に係る電気特性解析装置100の具体的な処理を示すフローチャートである。
Claims (6)
- 所定の割合で金属を含有する塗料が塗布された物質に対して、波源から与えた電気的又は磁気的な信号に応じた観測点における電気特性を解析する電気特性解析装置において、
前記塗料を塗布された物質を含む解析対象となる領域を定義する解析モデル情報を記憶手段から読み出す解析モデル取得手段と、
前記波源から与えられる信号情報を記憶手段から読み出す波源情報取得手段と、
前記解析対象となる領域内の物質の物性値であって、前記塗料の導電率を含む物性値を記憶手段から読み出す物性値取得手段と、
解析対象となる領域に含まれる前記塗料をメッシュ分割した各格子における電界と磁界を、マクスウェルの方程式に基づいて前記導電率の導電性を有する誘電体として解析的に計算することにより、波源から与えられる電気的又は磁気的な信号に応じた観測点における電界及び磁界の変化を求める電磁界解析手段と、
を備える電気特性解析装置。 - 前記解析モデル情報は、前記塗料及び前記物質の形状と、該塗料を塗布された物質を含む解析対象となる領域と、該領域をメッシュ分割した格子のサイズと、解析時間の最小単位である刻み時間幅と、少なくとも含むことを特徴とする請求項1に記載の電気特性解析装置。
- あらかじめ計測された前記塗料の抵抗値から該塗料の導電率を算出して記憶部に記憶する導電率算出手段をさらに備える、ことを特徴とする請求項1に記載の電気特性解析装置。
- 前記電磁界解析手段は、前記塗料を導電性を有する誘電体として解析的に計算する、ことを特徴とする請求項1に記載の電気特性解析装置。
- 所定の割合で金属を含有する塗料が塗布された物質に対して、波源から与えた電気的又は磁気的な信号に応じた観測点における電気特性を解析する電気特性解析方法において、
前記塗料を塗布された物質を含む解析対象となる領域を定義する解析モデル情報を記憶する解析モデル情報記憶手段から該解析モデル情報を読み出す解析モデル取得処理と、
前記波源から与えられる信号情報を記憶する信号情報記憶手段から該信号情報を読み出す波源情報取得処理と、
前記解析対象となる領域内の物質の物性値であって、前記塗料の導電率を含む物性値を記憶する物性値記憶手段から該物性値を読み出す物性値取得処理と、
解析対象となる領域に含まれる前記塗料をメッシュ分割した各格子における電界と磁界を、マクスウェルの方程式に基づいて前記導電率の導電性を有する誘電体として解析的に計算することにより、波源から与えられる電気的又は磁気的な信号に応じた観測点における電界及び磁界の変化を求める電磁界解析処理と、
を情報処理装置に行わせる電気特性解析方法。 - 所定の割合で金属を含有する塗料が塗布された物質に対して、波源から与えた電気的又は磁気的な信号に応じた観測点における電気特性を解析する電気特性解析処理を情報処理装置に行わせるプログラムにおいて、
前記塗料を塗布された物質を含む解析対象となる領域を定義する解析モデル情報を記憶する解析モデル情報記憶手段から該解析モデル情報を読み出す解析モデル取得処理と、
前記波源から与えられる信号情報を記憶する信号情報記憶手段から該信号情報を読み出す波源情報取得処理と、
前記解析対象となる領域内の物質の物性値であって、前記塗料の導電率を含む物性値を記憶する物性値記憶手段から該物性値を読み出す物性値取得処理と、
解析対象となる領域に含まれる前記塗料をメッシュ分割した各格子における電界と磁界を、マクスウェルの方程式に基づいて前記導電率の導電性を有する誘電体として解析的に計算することにより、波源から与えられる電気的又は磁気的な信号に応じた観測点における電界及び磁界の変化を求める電磁界解析処理と、
を情報処理装置に行わせるプログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009501137A JP5158072B2 (ja) | 2007-02-28 | 2008-02-27 | 金属含有塗料塗布物の電気特性解析装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007048949 | 2007-02-28 | ||
JP2007048949 | 2007-02-28 | ||
JP2009501137A JP5158072B2 (ja) | 2007-02-28 | 2008-02-27 | 金属含有塗料塗布物の電気特性解析装置 |
PCT/JP2008/000364 WO2008105177A1 (ja) | 2007-02-28 | 2008-02-27 | 金属含有塗料塗布物の電気特性解析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008105177A1 JPWO2008105177A1 (ja) | 2010-06-03 |
JP5158072B2 true JP5158072B2 (ja) | 2013-03-06 |
Family
ID=39721019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009501137A Expired - Fee Related JP5158072B2 (ja) | 2007-02-28 | 2008-02-27 | 金属含有塗料塗布物の電気特性解析装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090306916A1 (ja) |
JP (1) | JP5158072B2 (ja) |
DE (1) | DE112008000440T5 (ja) |
WO (1) | WO2008105177A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5353180B2 (ja) * | 2008-10-24 | 2013-11-27 | トヨタ紡織株式会社 | 車両用シート |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10307160A (ja) * | 1997-03-05 | 1998-11-17 | Fujitsu Ltd | 電磁波解析装置及び電磁波解析プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2001282767A (ja) * | 2000-03-28 | 2001-10-12 | Seiko Instruments Inc | 電磁場解析装置、電磁場解析方法およびその方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2002327294A (ja) * | 2001-04-26 | 2002-11-15 | C Uyemura & Co Ltd | 電着塗膜の膜厚算出方法 |
JP2002353733A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-06 | Sony Corp | 無線端末装置 |
JP2004038774A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Japan Science & Technology Corp | 電磁環境解析方法、電磁環境解析プログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体 |
JP2004279292A (ja) * | 2003-03-18 | 2004-10-07 | Ricoh Co Ltd | 電磁界解析装置と電磁界解析方法及び記録媒体 |
JP2004294241A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Fujitsu Ltd | 電磁界強度算出装置、電磁界強度算出方法および電磁界強度算出プログラム |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2941653B2 (ja) * | 1994-06-29 | 1999-08-25 | 株式会社日立製作所 | 解析用メッシュ作成装置 |
US6226599B1 (en) * | 1997-03-05 | 2001-05-01 | Fujitsu Limted | Electromagnetic wave analyzer apparatus |
JP2002180295A (ja) | 2000-12-20 | 2002-06-26 | Fuji Heavy Ind Ltd | 電着塗装解析方法および電着塗装解析装置 |
JP4520822B2 (ja) * | 2004-10-29 | 2010-08-11 | 富士通株式会社 | 電磁波解析装置、電磁波解析方法および電磁波解析プログラム |
JP4984586B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2012-07-25 | 富士通株式会社 | 電磁界シミュレータ、及び電磁界シミュレートプログラム |
-
2008
- 2008-02-27 JP JP2009501137A patent/JP5158072B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-02-27 WO PCT/JP2008/000364 patent/WO2008105177A1/ja active Application Filing
- 2008-02-27 DE DE112008000440T patent/DE112008000440T5/de not_active Withdrawn
-
2009
- 2009-08-20 US US12/544,683 patent/US20090306916A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10307160A (ja) * | 1997-03-05 | 1998-11-17 | Fujitsu Ltd | 電磁波解析装置及び電磁波解析プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2001282767A (ja) * | 2000-03-28 | 2001-10-12 | Seiko Instruments Inc | 電磁場解析装置、電磁場解析方法およびその方法をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2002327294A (ja) * | 2001-04-26 | 2002-11-15 | C Uyemura & Co Ltd | 電着塗膜の膜厚算出方法 |
JP2002353733A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-06 | Sony Corp | 無線端末装置 |
JP2004038774A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Japan Science & Technology Corp | 電磁環境解析方法、電磁環境解析プログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体 |
JP2004279292A (ja) * | 2003-03-18 | 2004-10-07 | Ricoh Co Ltd | 電磁界解析装置と電磁界解析方法及び記録媒体 |
JP2004294241A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Fujitsu Ltd | 電磁界強度算出装置、電磁界強度算出方法および電磁界強度算出プログラム |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6012026212; 山ケ城尚志 他: 'エレクトロニクス実装のためのシミュレーション技術 2. 電気設計 四重積分の解析解を用いたモーメント法に' エレクトロニクス実装学会誌 Vol.4 No.5, 2001, pp.360-363 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE112008000440T5 (de) | 2010-04-01 |
JPWO2008105177A1 (ja) | 2010-06-03 |
US20090306916A1 (en) | 2009-12-10 |
WO2008105177A1 (ja) | 2008-09-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8352233B2 (en) | Electromagnetic field simulation apparatus | |
JP5332731B2 (ja) | 電磁界シミュレータ及び電磁界シミュレーション装置 | |
JP4450751B2 (ja) | メッシュモデル作成方法、シミュレーション装置及びプログラム | |
Park | Design sensitivity analysis and optimization of electromagnetic systems | |
JP5886314B2 (ja) | 解析計算方法、解析計算プログラムおよび記録媒体 | |
Yin et al. | 3-D modeling for airborne EM using the spectral-element method | |
Afify et al. | Classical molecular dynamics simulation of microwave heating of liquids: The case of water | |
US7539961B2 (en) | Library-based solver for modeling an integrated circuit | |
Holzer et al. | Tortuosity and microstructure effects in porous media: classical theories, empirical data and modern methods | |
JP5158072B2 (ja) | 金属含有塗料塗布物の電気特性解析装置 | |
JP2007156572A (ja) | 設計支援システム、および設計支援方法 | |
Boularas et al. | Multi-dimensional modelling of electrostatic force distance curve over dielectric surface: Influence of tip geometry and correlation with experiment | |
JP6733509B2 (ja) | 磁性材料シミュレーションプログラム、磁性材料シミュレーション方法および磁性材料シミュレーション装置 | |
JP2007334775A (ja) | 回路解析装置、回路解析方法および回路解析プログラム | |
Jithesh et al. | A review on computational EMI modelling techniques | |
CN113609816B (zh) | 多层大规模集成电路电磁仿真失效频率确定方法及系统 | |
JP4684188B2 (ja) | 回路モデル作成プログラム、回路モデル作成プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体および回路モデル作成装置 | |
JP6829385B2 (ja) | 磁性材料シミュレーションプログラム、磁性材料シミュレーション方法および磁性材料シミュレーション装置 | |
JP4614094B2 (ja) | 共振周波数算出装置および共振周波数算出方法 | |
Ioan et al. | Reduced order models of on-chip passive components and interconnects, workbench and test structures | |
Spitzer | Electromagnetic modeling using adaptive grids–Error estimation and geometry representation | |
JP4266362B2 (ja) | 電磁界シミュレータおよび電磁界シミュレートプログラム | |
Wagner et al. | Error evaluation of surface impedance boundary conditions with magnetic vector potential formulation on a cylindrical test problem | |
JP2008242724A (ja) | シミュレーション装置、シミュレーションプログラム、シミュレーションプログラムが格納された記録媒体およびシミュレーション方法 | |
JP2010225041A (ja) | 電磁界解析装置、電磁界解析方法および電磁界解析プログラム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120529 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120828 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121018 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121113 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121126 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151221 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |