JP5153565B2 - 排水処理方法 - Google Patents
排水処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5153565B2 JP5153565B2 JP2008272739A JP2008272739A JP5153565B2 JP 5153565 B2 JP5153565 B2 JP 5153565B2 JP 2008272739 A JP2008272739 A JP 2008272739A JP 2008272739 A JP2008272739 A JP 2008272739A JP 5153565 B2 JP5153565 B2 JP 5153565B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- side region
- wastewater
- chlorine
- anode
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 title claims description 14
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims description 63
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 54
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 49
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 19
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 17
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 12
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 10
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 6
- XKMRRTOUMJRJIA-UHFFFAOYSA-N ammonia nh3 Chemical compound N.N XKMRRTOUMJRJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N hypobromite Chemical compound Br[O-] JGJLWPGRMCADHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002013 dioxins Chemical class 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- KVGZZAHHUNAVKZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxin Chemical compound O1C=COC=C1 KVGZZAHHUNAVKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000010791 domestic waste Substances 0.000 description 1
- 239000003657 drainage water Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N hypobromous acid Chemical compound BrO CUILPNURFADTPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 is generated Chemical compound 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010815 organic waste Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012476 oxidizable substance Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000009182 swimming Effects 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Description
すなわち、地域のポンプ場から地下水が工業用水として工場へと送水されてくる。このうち半分弱は空調用冷却塔へと供給され、冷房用の冷水を作る装置で発生する熱を大気への蒸発により放散し、その後活性炭濾過をし必要に応じて希釈して河川などへ放流される。一方、工場へ供給された用水のうち残りの半分強は工場内の工水処理設備に供給され、シリカやカルシウム、マグネシウムなどの成分が除去され、純水製造・供給設備へと送られて超純水が製造される。
この超純水は液晶の製造工程でのガラス基板の洗浄、スクラバー排気の洗浄、冷却水製造装置などに使用される。そして、使用後に出る有機排水は次亜塩素酸ナトリウムを添加することにより、被酸化物質を分解・浄化してCODやTOCを所定値未満まで低減する。ところで、排水の浄化処理後には余剰の有効塩素が残留しているので重亜硫酸ソーダなどの還元剤で潰すこととなるが、このような薬剤の使用によりランニング・コストが高くついてしまうという問題があった。
前記のような還元剤処理の問題は、液晶製造工場の排水に限らずスイミング・プールの水質管理や食品加工場の排水、汚染土壌の洗浄排水その他各種の水にも広くみられるものである。
(1)この発明の排水処理方法は、排水を有隔膜電解機構の陽極側領域に供給し塩素の共存下で電気分解することによって汚れ成分を分解する陽極側処理工程と、陰極側領域に供給して残留塩素を低減する陰極側処理工程を有することを特徴とする。
前記陽極側領域で共存させる塩素(元素Cl)の供給源として、食塩のような塩化物や次亜塩素酸を例示することができる。また臭化ナトリウム、臭化カリウム、次亜臭素酸などのように臭素を共存させておくと、有効塩素の活性領域を中性領域からアルカリ性領域にまで拡大させることができる。
その後、陽極側領域に供給する排水の水量とほぼ同量を循環流路から排出側流路へと最終的に引き出し、放流したり或いは再利用のサイクルに供給したりする。
陽極側処理工程からは酸性の排水が送り出されるが、陰極側領域(電気分解によりアルカリ性となる)の循環流路の排水と併せることによって中和されて中性雰囲気となる。ところで、水素イオン濃度が酸性のときに水中に溶存している塩素ガスは、中性雰囲気になると次亜塩素酸の形態に変化する性質を有している。よって、陽極側処理工程で生成した溶存塩素ガスを中性雰囲気とし、次亜塩素酸の形態に変化させた状態として陰極側領域へ供給することができる。すると前記次亜塩素酸は、陰極側領域において陰極還元されて分解し或いはアルカリ性雰囲気下で不活性化される。これにより、溶存塩素ガス(Cl2)の形態のままで陰極側処理工程に到り水酸基(OH)と化合して新たに次亜塩素酸(HOCl)が生成してしまうことを防止することができる。
このように構成し、陽極側領域と陰極側領域の間の気液混合槽に塩素ガス分離槽で分離した塩素ガスを供給すると、陽極側領域を通過して余剰の残留塩素を有する排水にさらに塩素ガスが溶け込んで残留塩素濃度が増大する。そして、残留塩素濃度が増大した排水を処理前の排水に添加することにより、陽極側領域に供給する以前に前もって排水中の汚れ成分を或る程度分解しておくことができる。ここで、気液混合槽で排水を循環して噴霧すると排水への塩素ガスの溶け込みが経時的に進展していくこととなる。
これはCODやBOD、TOC、アンモニア性窒素などの汚れ成分の指標値が高い排水に有効であり、有隔膜電解機構が有する分解適性に応じた程度にまで予め浄化を行っておく。前記次亜ハロゲン酸として次亜塩素酸や次亜臭素酸を使用することができ、次亜ハロゲン酸処理槽内の排水に対してポンプなどで供給する。供給する次亜ハロゲン酸として次亜塩素酸ナトリウム水溶液の他に、食塩や臭化ナトリウムの共存下で水を電気分解することによって次亜塩素酸や次亜臭素酸を生成させた水溶液を使用することができる。
前記陰極側領域の陰極電極、陽極側領域の陽極電極として、複数本の柱状の電極から成る列が配設されたこととしてもよい。このようにすると、通常の板状電極のような平板状の面ではなく、複数本の柱状の電極から成る列によって三次元的に表面積を拡大し得ることにより、電解効率を増大させることができる。
ここで、前記柱状の電極は、短尺の電極を長手方向に複数個を連接して形成することができる。このような短尺の連接構造とすると長尺体と比べてセラミックス製とした場合の焼成時の歩留まりが向上する。前記柱状の電極の形状として、円柱状や円筒状、局部放電防止のため角部を滑らかにした断面多角形状、断面楕円形状、球状電極を柱状に連設したものなどを例示することができる。
残留塩素のうち次亜塩素酸は陰極側領域において陰極還元されて分解され或いはアルカリ性雰囲気下で不活性化されるので、還元剤ではない他の方法で残留塩素の低減ができる排水の処理方法を提供することができる。
図1に示すように、この実施形態の排水処理方法は、排水1を有隔膜電解機構2の陽極側領域3に供給し塩素の共存下で電気分解(電流48A、電極面積2.1dm2、排水の供給量180cc/分)することによって汚れ成分を分解する陽極側処理工程(有効塩素の製造サイクル)と、陰極側領域4に供給して残留塩素を低減する陰極側処理工程(残留塩素の低減サイクル)を有する。図中5は有隔膜電解機構2の隔膜であり、Pはポンプを示す。
前記汚れ成分として通常の有機成分(ホルムアルデヒドなど)や、ベンゼン、トルエン、ダイオキシン類、PCBなどの難分解性有機化合物、人体の皮膚表面などから溶出した汚れ成分、またアンモニア性窒素その他の無機成分を分解することができる。
前記陽極側領域3で共存させる塩素(元素Cl)の供給源として、食塩や次亜塩素酸などを使用することができる。
陽極側処理工程において、排水1を有隔膜電解機構2の陽極側領域3に供給し塩素の共存下で電気分解することにより、溶存塩素ガスや次亜塩素酸などの有効塩素が生成して汚れ成分(被酸化物質)が酸化分解されると共に、汚れ成分は陽極電極から直接酸化されることによって分解されて微細化され究極的には二酸化炭素や窒素ガスに行き着き、CODやBOD、TOC、アンモニア性窒素が低減されて清浄化される。
具体的には、前記残留塩素のうち次亜塩素酸が陰極側領域4において陰極還元されて分解され或いはアルカリ性雰囲気下で不活性化されるので、還元剤ではない他の方法で残留塩素の低減ができ、薬剤代のランニング・コストを削減することができる。
(1)陽極側処理工程の前処理として、陽極側領域3の前に次亜ハロゲン酸処理槽50を設け、この槽で排水1中の汚れ成分を前もって分解しておくようにしている。これはCODやBOD、TOC、アンモニア性窒素(汚れ成分の指標値)が高い排水(例えばCOD1000ppm)に有効であり、有隔膜電解機構2が有する分解適性に応じた程度(例えばCOD100ppm)にまで予め浄化を行っておく。具体的には、次亜ハロゲン酸処理槽50へ次亜塩素酸6を電解装置7により電気分解して供給しており、供給水は活性ラジカル種(OH・ラジカル、活性酸素、活性オゾン)が発生しより分解能に優れたものとなっている。ここで、この次亜塩素酸6は陽極側領域3で電気分解する際に共存させる塩素の供給源ともなる。
また、次亜ハロゲン酸処理槽50と有隔膜電解機構2の陽極側領域3の間には砂濾過器51を介在させており、この砂濾過器51で排水1中の微粒子ss成分を予め除去しておくようにしている。これにより、有隔膜電解機構2などで目詰まりが発生することを防止する。
ところで、陽極側処理工程からは(後述の気液混合槽11を介して陰極側処理工程へと)酸性の排水が送り出されるが、陰極側領域4(電気分解によりアルカリ性となる)の循環流路8の排水と併せることによって中和されて中性雰囲気となる。ところで、水素イオン濃度が酸性のときに水中に溶存している塩素ガス(Cl2)は、中性雰囲気になると次亜塩素酸(HOCl)の形態に変化する性質を有している。よって、陽極側処理工程で生成した溶存塩素ガスを中性雰囲気とし、次亜塩素酸の形態に変化させた状態として陰極側領域4へ供給することができる。すると前記次亜塩素酸は、陰極側領域4において陰極還元されて分解し或いはアルカリ性雰囲気下で不活性化される。これにより、溶存塩素ガス(Cl2)の形態のままで陰極側処理工程に到り水酸基(OH)と化合して新たに次亜塩素酸(HOCl)が生成してしまうことを防止することができる。
ところで、陽極側領域3と陰極側領域4の間の気液混合槽11に塩素ガス分離槽10で分離した塩素ガスを供給すると、陽極側領域3を通過して余剰の残留塩素を有する排水にさらに塩素ガスが溶け込んで残留塩素濃度が増加する。そして、残留塩素濃度が増加した排水を処理前の排水1(次亜ハロゲン酸処理槽50)に添加することにより、陽極側領域3に供給する以前の排水1中の汚れ成分の分解を促進しておくことができる。気液混合槽11では排水を循環して噴霧するようにしており、排水への塩素ガスの溶け込みが経時的に進展していくようにしている。
また、次亜ハロゲン酸処理槽50(密閉槽)で気化した塩素ガスも、ファンFで気液混合槽11に供給するようにしている。このように、気液混合槽11は処理時に気化した塩素ガスを収集して気液混合により再度排水中に溶解させる塩素濃縮槽として機能させるようにしており、濃縮された塩素含有水を次亜ハロゲン酸処理槽50にフィードバックして排水1の汚れ成分の分解を促進させる。これにより処理中に排水から気化した塩素ガスを無駄にすることなく排水の浄化に役立たせることができ、次亜ハロゲン酸の利用効率の高い排水処理システムとなっている。なお、次の陰極側処理工程では逆に残留塩素を低減して排出するようにしている。
ここで、陽極側領域3の出口(X)と気液混合槽11の出口(Y)における残留塩素濃度は大体3500ppm前後であるのに対し、陰極側領域4の循環流路8の排出側流路(Z)における残留塩素濃度は2000ppm程度に低減されていた。なお後工程の要求水質に鑑み、薄めた還元剤を排出側流路(Z)の後に添加して残留塩素をさらに低減してもよい。前記残留塩素は陰極側領域4で一旦低減された後であるので、添加する還元剤のランニング・コストは低く処理することができる。一方、陽極側領域3の入口(A)における排水のCODが100ppm程度であったのが、陰極側領域4の循環流路8の排出側流路(Z)においては5ppm以下(推定0ppm)に低減されていた。
陰極側領域4内の陰極電極、陽極側領域3内の陽極電極として、複数本の柱状の電極から成る列が配設されたこととしており、通常の板状電極のような平板状の面ではなく、複数本の柱状の電極から成る列によって三次元的に表面積を拡大し得ることにより、電解効率を増大させることができる。また、排水が板状電極のように電極面に沿った単なる層流としてただ舐めるように流れるのではなく、柱状の電極列の周りを乱流となり流れる方向を複雑に変化させるように挙動することによる排水の攪拌作用によって領域内の混合が促進されることとなる。
2 有隔膜電解機構
3 陽極側領域
4 陰極側領域
8 循環流路
10 塩素ガス分離槽
11 気液混合槽
Claims (2)
- 排水1を有隔膜電解機構2の陽極側領域3に供給し塩素の共存下で電気分解することによって汚れ成分を分解する陽極側処理工程と、陰極側領域4に供給して残留塩素を低減する陰極側処理工程を有し、前記陰極側領域4には排水の循環流路8が形成され、陽極側領域3からの排水と併せて陰極側領域4へ循環させるようにし、前記陰極側領域4の排水の循環流路8に塩素ガス分離槽10が形成されたことを特徴とする排水処理方法。
- 前記陽極側領域3と陰極側領域4の間に気液混合槽11が形成され、ここに塩素ガス分離槽10で分離された塩素ガスを供給すると共に、気液混合槽11の排水を処理前の排水1に添加するようにした請求項1記載の排水処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008272739A JP5153565B2 (ja) | 2008-10-23 | 2008-10-23 | 排水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008272739A JP5153565B2 (ja) | 2008-10-23 | 2008-10-23 | 排水処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010099581A JP2010099581A (ja) | 2010-05-06 |
JP5153565B2 true JP5153565B2 (ja) | 2013-02-27 |
Family
ID=42290701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008272739A Expired - Fee Related JP5153565B2 (ja) | 2008-10-23 | 2008-10-23 | 排水処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5153565B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5649110B2 (ja) * | 2010-05-10 | 2015-01-07 | 株式会社オメガ | 被処理水浄化の遠隔管理方法 |
CN102583659B (zh) * | 2012-01-18 | 2013-06-12 | 山东大学 | 一种粒状防板结酸碱两用三元微电解填料及其制备方法 |
JP5238899B1 (ja) * | 2012-07-13 | 2013-07-17 | 稔 菅野 | 殺菌水生成装置および殺菌洗浄方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06182344A (ja) * | 1991-12-04 | 1994-07-05 | Fumio Nakamura | 塩分、無機窒素化合物含有溶液の分解・利用方法と装置 |
RU2064440C1 (ru) * | 1992-06-04 | 1996-07-27 | Научно-производственное объединение "Экран" | Способ обработки воды |
JP2002320970A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電解水生成装置 |
JP2004025123A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排水処理装置及び排水処理方法 |
JP2004202283A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-22 | Kurita Water Ind Ltd | 有機化合物含有水の処理方法および処理装置 |
JP2005218983A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電解酸化を利用した廃水処理方法及び装置 |
-
2008
- 2008-10-23 JP JP2008272739A patent/JP5153565B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010099581A (ja) | 2010-05-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Serrano | Indirect electrochemical oxidation using hydroxyl radical, active chlorine, and peroxodisulfate | |
JP2002531704A (ja) | 電気分解装置、水溶液の精製方法及び化学物質の合成方法 | |
EP1295853B1 (en) | Method of treating water and apparatus therefor | |
JP2003190976A (ja) | 廃水処理装置および方法 | |
JP5153565B2 (ja) | 排水処理方法 | |
KR102052039B1 (ko) | 전기-페록손 반응 기반 수처리 장치 | |
JP2005218983A (ja) | 電解酸化を利用した廃水処理方法及び装置 | |
JP5137259B2 (ja) | 水処理システム | |
JP2010137151A (ja) | 電解装置及び水処理システム | |
KR101070828B1 (ko) | 물 처리 방법 및 기구 | |
JP5545841B2 (ja) | 排水の処理機構 | |
KR101070827B1 (ko) | 물 처리 방법 및 기구 | |
TWI481567B (zh) | Drainage treatment method | |
JP4641435B2 (ja) | 内分泌撹乱化学物質分解方法及び装置 | |
JP6319719B2 (ja) | 排水処理方法及び排水処理装置 | |
JP2010069457A (ja) | 排水処理方法 | |
JP6319720B2 (ja) | 排水処理方法及び排水処理装置 | |
JP2001017832A (ja) | 排ガス除害装置 | |
JP2006239590A (ja) | 被酸化性物質含有排水の処理方法および処理装置 | |
JP3906180B2 (ja) | 有機性廃水中のリン分離方法 | |
KR101290737B1 (ko) | 배수 처리 기구 | |
CN115066401A (zh) | 废水处理系统及废水处理方法 | |
JP2001079544A (ja) | 紫外線照射水処理方法 | |
JP2010063985A (ja) | ハロゲン酸類の低減方法及び低減機構 | |
JP2006239545A (ja) | 汚泥の処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110428 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120924 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121112 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121204 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121204 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151214 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5153565 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |