JP2001079544A - 紫外線照射水処理方法 - Google Patents
紫外線照射水処理方法Info
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Landscapes
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外線照射と他の酸化剤とを併用する促進酸
化法による水処理を工業的プロセスとして構築する。ま
た、次亜塩素酸ソーダを系外に排出することなく閉鎖系
で循環使用し酸化能に優れる次亜塩素酸ソーダの適用を
可能とする。 【解決手段】 溶解含有有機物を分解する水処理方法で
あって、紫外線照射処理した処理水の一部又は処理前の
被処理水をろ過及びイオン交換処理した後、電解過酸化
水素発生装置に供給して過酸化水素含有水として紫外線
照射処理に循環して処理することを特徴とする紫外線照
射水処理方法。
化法による水処理を工業的プロセスとして構築する。ま
た、次亜塩素酸ソーダを系外に排出することなく閉鎖系
で循環使用し酸化能に優れる次亜塩素酸ソーダの適用を
可能とする。 【解決手段】 溶解含有有機物を分解する水処理方法で
あって、紫外線照射処理した処理水の一部又は処理前の
被処理水をろ過及びイオン交換処理した後、電解過酸化
水素発生装置に供給して過酸化水素含有水として紫外線
照射処理に循環して処理することを特徴とする紫外線照
射水処理方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は紫外線照射水処理法
に関し、詳しくは紫外線照射により被処理水中の有機化
合物、特に有害な有機ハロゲン化合物等の酸化除去が促
進される紫外線照射水処理法に関する。
に関し、詳しくは紫外線照射により被処理水中の有機化
合物、特に有害な有機ハロゲン化合物等の酸化除去が促
進される紫外線照射水処理法に関する。
【0002】
【従来の技術】排水等の水浄化処理として紫外線照射に
よる酸化浄化法はよく知られている。また、オゾン等の
酸化剤を用いた排水の浄化処理等も実施されている。更
に、例えば実公昭57−8958号公報に提案されるよ
うに紫外線照射とオゾン等の酸化剤とを併用する水浄化
処理も実用化されている。近年、半導体工業等電子産業
の進展に伴い、洗浄剤として多量に使用されている塩素
系有機化合物等の溶解性有機ハロゲン化合物が排水とし
て排出され環境への影響が問題となっている。特に、こ
れら溶解性有機ハロゲン化合物は、従来から排水の浄化
処理として行われている通常の生物的処理では十分に除
去できない。このため残存して水の循環系に入り易く人
体に及ぼす影響が指摘され、排水中に含有する溶解性有
機ハロゲン化合物を除去する各種方法が検討され提案さ
れている。それらの中で紫外線照射と酸化剤とを組合せ
て排水を処理するいわゆる促進酸化法が注目され検討さ
れている。促進酸化法において紫外線照射と併用される
酸化剤としては上記オゾンの他に過酸化水素、塩素、過
マンガン酸等が使用される。
よる酸化浄化法はよく知られている。また、オゾン等の
酸化剤を用いた排水の浄化処理等も実施されている。更
に、例えば実公昭57−8958号公報に提案されるよ
うに紫外線照射とオゾン等の酸化剤とを併用する水浄化
処理も実用化されている。近年、半導体工業等電子産業
の進展に伴い、洗浄剤として多量に使用されている塩素
系有機化合物等の溶解性有機ハロゲン化合物が排水とし
て排出され環境への影響が問題となっている。特に、こ
れら溶解性有機ハロゲン化合物は、従来から排水の浄化
処理として行われている通常の生物的処理では十分に除
去できない。このため残存して水の循環系に入り易く人
体に及ぼす影響が指摘され、排水中に含有する溶解性有
機ハロゲン化合物を除去する各種方法が検討され提案さ
れている。それらの中で紫外線照射と酸化剤とを組合せ
て排水を処理するいわゆる促進酸化法が注目され検討さ
れている。促進酸化法において紫外線照射と併用される
酸化剤としては上記オゾンの他に過酸化水素、塩素、過
マンガン酸等が使用される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記したように紫外線
照射と他の酸化剤とを組合せた促進酸化法が種々検討さ
れ提案され、各提案において排水中の汚染物質の酸化除
去が促進されることは示されるものの、実用性に優れる
水処理法として現実的に適用されるまでには至っていな
い。その理由としては、使用する酸化剤の供給システム
とが効果的に組合せられた効率的な一連のプロセスとし
て構築されていないためである。従来、紫外線照射と併
用する酸化剤の殆どが、処理系外で製造されて処理系に
輸送貯蔵して用いることから、輸送時の事故の危険性や
貯蔵時の分解消失等による利用効率の低下が問題にされ
ている。本発明は、同一システム系内に紫外線と併用す
る酸化剤製造プロセスと水処理システムとを効率的に組
込み、簡便な操作性で促進酸化法による水処理を工業的
プロセスとして構築することを目的とする。また、塩素
系の酸化剤の使用は極力抑制されているが、次亜塩素酸
ソーダを系外に排出することなく閉鎖系で循環使用し酸
化剤としての次亜塩素酸ソーダの適用も可能とする。
照射と他の酸化剤とを組合せた促進酸化法が種々検討さ
れ提案され、各提案において排水中の汚染物質の酸化除
去が促進されることは示されるものの、実用性に優れる
水処理法として現実的に適用されるまでには至っていな
い。その理由としては、使用する酸化剤の供給システム
とが効果的に組合せられた効率的な一連のプロセスとし
て構築されていないためである。従来、紫外線照射と併
用する酸化剤の殆どが、処理系外で製造されて処理系に
輸送貯蔵して用いることから、輸送時の事故の危険性や
貯蔵時の分解消失等による利用効率の低下が問題にされ
ている。本発明は、同一システム系内に紫外線と併用す
る酸化剤製造プロセスと水処理システムとを効率的に組
込み、簡便な操作性で促進酸化法による水処理を工業的
プロセスとして構築することを目的とする。また、塩素
系の酸化剤の使用は極力抑制されているが、次亜塩素酸
ソーダを系外に排出することなく閉鎖系で循環使用し酸
化剤としての次亜塩素酸ソーダの適用も可能とする。
【0004】発明者は上記目的を達成するべく、従来の
紫外線照射方法、各酸化剤の供給方法及びそれらの製法
について検討した。その結果、出願人が開発し提案して
いる種々の電解法によれば電力エネルギーを用いること
のみで外部に汚染物質を排出することなく所定の酸化剤
を高純度で得ることができる。また、紫外線照射工程と
電解工程との間を被処理水等を循環させ得ることから、
各工程間が容易に連絡され工業的プロセス構築の可能性
を見出し本発明に至った。
紫外線照射方法、各酸化剤の供給方法及びそれらの製法
について検討した。その結果、出願人が開発し提案して
いる種々の電解法によれば電力エネルギーを用いること
のみで外部に汚染物質を排出することなく所定の酸化剤
を高純度で得ることができる。また、紫外線照射工程と
電解工程との間を被処理水等を循環させ得ることから、
各工程間が容易に連絡され工業的プロセス構築の可能性
を見出し本発明に至った。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、溶解含
有有機物を分解する水処理方法であって、紫外線照射処
理した処理水の一部又は処理前の被処理水をろ過及びイ
オン交換処理した後、電解過酸化水素発生装置に供給し
て過酸化水素含有水として紫外線照射処理に循環して処
理することを特徴とする紫外線照射水処理方法が提供さ
れる。
有有機物を分解する水処理方法であって、紫外線照射処
理した処理水の一部又は処理前の被処理水をろ過及びイ
オン交換処理した後、電解過酸化水素発生装置に供給し
て過酸化水素含有水として紫外線照射処理に循環して処
理することを特徴とする紫外線照射水処理方法が提供さ
れる。
【0006】また、本発明によれば、溶解含有有機物を
分解する水処理方法であって、被処理水をろ過及びイオ
ン交換処理した後、電解過酸化水素発生装置に供給し過
酸化水素含有水として紫外線照射処理に供することを特
徴とする紫外線照射水処理方法が提供される。
分解する水処理方法であって、被処理水をろ過及びイオ
ン交換処理した後、電解過酸化水素発生装置に供給し過
酸化水素含有水として紫外線照射処理に供することを特
徴とする紫外線照射水処理方法が提供される。
【0007】更に、本発明は、溶解含有有機物を分解す
る水処理方法であって、電解次亜塩素酸ソーダ製造装置
に食塩水を供給して得られる次亜塩素酸ソーダ溶解含有
水を被処理水に添加して紫外線照射処理して被処理水を
浄化すると共に、紫外線照射により生成し処理水中に含
有する食塩を取出し食塩水として電解次亜塩素酸ソーダ
製造装置へ循環使用することを特徴とする紫外線照射水
処理方法を提供する。
る水処理方法であって、電解次亜塩素酸ソーダ製造装置
に食塩水を供給して得られる次亜塩素酸ソーダ溶解含有
水を被処理水に添加して紫外線照射処理して被処理水を
浄化すると共に、紫外線照射により生成し処理水中に含
有する食塩を取出し食塩水として電解次亜塩素酸ソーダ
製造装置へ循環使用することを特徴とする紫外線照射水
処理方法を提供する。
【0008】本発明は上記のように構成され、排水等被
処理水中に溶解含有される有機物を紫外線照射により酸
化分解して除去浄化する際に、処理水や被処理水を電解
処理することにより酸化剤である過酸化水素又は次亜塩
素酸ソーダを生成して安定して連続的に被処理水中に含
有させることができることから、簡便で且つ効率的に被
処理水中の有機物を酸化除去して浄化処理できる。ま
た、水処理する現場にて上記酸化剤を生成することから
輸送・貯蔵が不要であり、輸送時の危険性や貯蔵時の消
失もなく有効性も向上する。特に、電解過酸化水素水
は、ガス拡散電極電解槽と純水電解槽とを所定に組合せ
ることで効果的に過酸化水素が生成されることから、一
連の紫外線照射水処理を円滑に進行させることができ
る。また、次亜塩素酸ソーダは食塩水を電解して生成で
き、得られた次亜塩素酸ソーダは紫外線照射により再び
食塩に変換されることから、処理水中の食塩を回収し再
度電解して次亜塩素酸ソーダとして循環使用できること
から塩素分を系外に排出せずに安全に用いることがで
き、環境保全に効果的である。
処理水中に溶解含有される有機物を紫外線照射により酸
化分解して除去浄化する際に、処理水や被処理水を電解
処理することにより酸化剤である過酸化水素又は次亜塩
素酸ソーダを生成して安定して連続的に被処理水中に含
有させることができることから、簡便で且つ効率的に被
処理水中の有機物を酸化除去して浄化処理できる。ま
た、水処理する現場にて上記酸化剤を生成することから
輸送・貯蔵が不要であり、輸送時の危険性や貯蔵時の消
失もなく有効性も向上する。特に、電解過酸化水素水
は、ガス拡散電極電解槽と純水電解槽とを所定に組合せ
ることで効果的に過酸化水素が生成されることから、一
連の紫外線照射水処理を円滑に進行させることができ
る。また、次亜塩素酸ソーダは食塩水を電解して生成で
き、得られた次亜塩素酸ソーダは紫外線照射により再び
食塩に変換されることから、処理水中の食塩を回収し再
度電解して次亜塩素酸ソーダとして循環使用できること
から塩素分を系外に排出せずに安全に用いることがで
き、環境保全に効果的である。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。但し、本発明の下記実施例により限定
されるものでない。図1は、本発明の一実施例のフロー
説明図である。図1において、紫外線照射水処理装置1
0は、主に紫外線照射装置1、電解過酸化水素発生装置
2、ろ過装置3及びイオン交換装置4から構成される。
被処理水は、先ずラインL1からろ過装置3に導入さ
れ、処理水中の浮遊懸濁物(SS)や夾雑物が除去され
る。ろ過装置3を流出したろ過処理水は、ラインL2に
よりイオン交換装置4に流入され不純物イオンが除去さ
れる。イオン交換装置4で不純物イオンを除去され流出
した被処理水は、ラインL3により次いで電解過酸化水
素発生装置2の過酸化水素が生成される電極間に流入
し、過酸化水素を含有して流出する。その後、ラインL
4を経て紫外線照射装置1に送入され、電解過酸化水素
発生装置2で含有同伴した過酸化水素と共に紫外線照射
により溶存する有機性物質が分解除去され浄化される。
浄化処理水は紫外線照射装置1からラインL5で系外に
流出する。この場合、図1において破線で示したライン
L1’のようにラインL1を紫外線照射装置1に連絡し
被処理水を先ず紫外線照射処理し、その後、紫外線照射
処理水の一部をろ過装置3に破線で示したラインL6に
より送入して循環系を形成させて処理することができ
る。上記循環系を形成して処理することは、被処理水を
ラインL1で全量供給する場合、ろ過装置3やイオン交
換装置4の負荷を下げることができる等で好ましい。
づいて説明する。但し、本発明の下記実施例により限定
されるものでない。図1は、本発明の一実施例のフロー
説明図である。図1において、紫外線照射水処理装置1
0は、主に紫外線照射装置1、電解過酸化水素発生装置
2、ろ過装置3及びイオン交換装置4から構成される。
被処理水は、先ずラインL1からろ過装置3に導入さ
れ、処理水中の浮遊懸濁物(SS)や夾雑物が除去され
る。ろ過装置3を流出したろ過処理水は、ラインL2に
よりイオン交換装置4に流入され不純物イオンが除去さ
れる。イオン交換装置4で不純物イオンを除去され流出
した被処理水は、ラインL3により次いで電解過酸化水
素発生装置2の過酸化水素が生成される電極間に流入
し、過酸化水素を含有して流出する。その後、ラインL
4を経て紫外線照射装置1に送入され、電解過酸化水素
発生装置2で含有同伴した過酸化水素と共に紫外線照射
により溶存する有機性物質が分解除去され浄化される。
浄化処理水は紫外線照射装置1からラインL5で系外に
流出する。この場合、図1において破線で示したライン
L1’のようにラインL1を紫外線照射装置1に連絡し
被処理水を先ず紫外線照射処理し、その後、紫外線照射
処理水の一部をろ過装置3に破線で示したラインL6に
より送入して循環系を形成させて処理することができ
る。上記循環系を形成して処理することは、被処理水を
ラインL1で全量供給する場合、ろ過装置3やイオン交
換装置4の負荷を下げることができる等で好ましい。
【0010】本発明の上記図1の紫外線照射水処理装置
10において、紫外線照射装置1は槽内部に一般的な水
銀ランプ11を具備した装置であり、水銀ランプにより
100〜400nmの波長の紫外線を照射できればよ
い。この場合、図1に示したように内管12と外管13
とからなる二重管構造に形成して外管13側に被処理水
を流通させ内管12内に水銀ランプ11を配置し、要す
れば外管13を流通する被処理水を紫外線照射処理する
と同時に内管12に空気等酸素含有ガスを送入して紫外
線によりオゾンを発生させ、一点鎖線で示したラインL
7を経て外管13下部に設けた散気管14から散気させ
ることもできる。この場合は、内管12で発生したオゾ
ンが更に酸化剤として作用することから被処理水中の汚
染物をより酸化除去することができる。
10において、紫外線照射装置1は槽内部に一般的な水
銀ランプ11を具備した装置であり、水銀ランプにより
100〜400nmの波長の紫外線を照射できればよ
い。この場合、図1に示したように内管12と外管13
とからなる二重管構造に形成して外管13側に被処理水
を流通させ内管12内に水銀ランプ11を配置し、要す
れば外管13を流通する被処理水を紫外線照射処理する
と同時に内管12に空気等酸素含有ガスを送入して紫外
線によりオゾンを発生させ、一点鎖線で示したラインL
7を経て外管13下部に設けた散気管14から散気させ
ることもできる。この場合は、内管12で発生したオゾ
ンが更に酸化剤として作用することから被処理水中の汚
染物をより酸化除去することができる。
【0011】本発明の過酸化水素を生成する電解過酸化
水素発生装置2としては、従来公知の過酸化水素の電解
製造装置を用いることができる。例えば、特開平6−8
8273号、同6−200389号、同6−33678
7号、同8−120476号、同8−120476号、
同9−78281号、同9−157880号、同10−
140383号の各公報に開示されるように、ガス拡散
陰極中に酸素含有ガスを供給して還元することにより過
酸化水素を得るものであり、一般に陽極室と陰極室とが
陽イオンまたは陰イオンのいずれかのイオン交換膜で区
画された電解槽を用い過酸化水素が製造される。供給す
る酸素含有ガスとしては酸素ガスや空気を設定条件に応
じて選択する。空気は予め二酸化炭素を除去して用いる
ことが好ましい。酸素ガスとしては液体酸素を用いるこ
ともできるし、PSA装置により得られる酸素富化ガス
を用いてもよい。また、別に設置した電解槽で電気分解
で生成した酸素を用いてもよい。
水素発生装置2としては、従来公知の過酸化水素の電解
製造装置を用いることができる。例えば、特開平6−8
8273号、同6−200389号、同6−33678
7号、同8−120476号、同8−120476号、
同9−78281号、同9−157880号、同10−
140383号の各公報に開示されるように、ガス拡散
陰極中に酸素含有ガスを供給して還元することにより過
酸化水素を得るものであり、一般に陽極室と陰極室とが
陽イオンまたは陰イオンのいずれかのイオン交換膜で区
画された電解槽を用い過酸化水素が製造される。供給す
る酸素含有ガスとしては酸素ガスや空気を設定条件に応
じて選択する。空気は予め二酸化炭素を除去して用いる
ことが好ましい。酸素ガスとしては液体酸素を用いるこ
ともできるし、PSA装置により得られる酸素富化ガス
を用いてもよい。また、別に設置した電解槽で電気分解
で生成した酸素を用いてもよい。
【0012】本発明で用いるガス拡散電極電解過酸化水
素発生装置2について説明する。ガス拡散電極電解過酸
化水素発生装置2の一例の縦断面図を、上記図1に過酸
化水素製造電解ユニット21として示した。図1の過酸
化水素製造電解ユニット21は、陽極給電体22を介し
て接続されるガス拡散陽極23、例えばカーボン材製電
極と、陰極給電体24を介して過酸化水素を選択的に電
解製造できる過酸化水素製造用ガス拡散陰極25、例え
ば、酸化イリジウム等の電極物質が担持された電極や炭
素繊維材製電極とが、陽イオン交換膜26で区画され離
間して配置される。過酸化水素電解ユニット21の陰極
室底部には被処理水導入口27及び酸素導入口28が、
上部には被処理水流出口29がそれぞれ設置される。上
記のように構成された電解過酸化水素発生装置2におい
て、被処理水導入口27からろ過装置3及びイオン交換
装置4を経た被処理水を過酸化水素電解ユニット21に
導入すると同時に、電解過酸化水素ユニット21の酸素
導入口28に所定の酸素含有ガスを導入しガス拡散陰極
25に供給し各給電体22、24を介してそれぞれのガ
ス拡散電極に給電することにより過酸化水素が製造され
る。
素発生装置2について説明する。ガス拡散電極電解過酸
化水素発生装置2の一例の縦断面図を、上記図1に過酸
化水素製造電解ユニット21として示した。図1の過酸
化水素製造電解ユニット21は、陽極給電体22を介し
て接続されるガス拡散陽極23、例えばカーボン材製電
極と、陰極給電体24を介して過酸化水素を選択的に電
解製造できる過酸化水素製造用ガス拡散陰極25、例え
ば、酸化イリジウム等の電極物質が担持された電極や炭
素繊維材製電極とが、陽イオン交換膜26で区画され離
間して配置される。過酸化水素電解ユニット21の陰極
室底部には被処理水導入口27及び酸素導入口28が、
上部には被処理水流出口29がそれぞれ設置される。上
記のように構成された電解過酸化水素発生装置2におい
て、被処理水導入口27からろ過装置3及びイオン交換
装置4を経た被処理水を過酸化水素電解ユニット21に
導入すると同時に、電解過酸化水素ユニット21の酸素
導入口28に所定の酸素含有ガスを導入しガス拡散陰極
25に供給し各給電体22、24を介してそれぞれのガ
ス拡散電極に給電することにより過酸化水素が製造され
る。
【0013】本発明において、ろ過装置3としては、被
処理水中のSSを除去できものであればよく、一般に、
砂、アンスラサイト等の固形濾材を用いる急速濾過器、
中空糸膜等のろ過膜カートリッジを用いる膜濾過器等の
各種濾過器を用いることができる。被処理水の水質及び
浄化処理水の所望水質に応じて公知の濾過器から適宜選
択して用いる。また、イオン交換装置4としては、被処
理水中の不純物イオン成分のカルシウム、マグネシウム
等を除去できる交換基としてスルホン酸基や第4級アン
モニウム基のような官能基を導入した化学構造を有する
合成樹脂等のイオン交換樹脂を充填した装置であればよ
く、特に制限されない。本発明において、イオン交換装
置4で不純物イオンを除去して純水とすることにより次
工程の電解過酸化水素発生装置への悪影響を低減し、ま
た電解処理効率を向上させることができ、紫外線照射水
処理全体の処理効率も向上させることができる。
処理水中のSSを除去できものであればよく、一般に、
砂、アンスラサイト等の固形濾材を用いる急速濾過器、
中空糸膜等のろ過膜カートリッジを用いる膜濾過器等の
各種濾過器を用いることができる。被処理水の水質及び
浄化処理水の所望水質に応じて公知の濾過器から適宜選
択して用いる。また、イオン交換装置4としては、被処
理水中の不純物イオン成分のカルシウム、マグネシウム
等を除去できる交換基としてスルホン酸基や第4級アン
モニウム基のような官能基を導入した化学構造を有する
合成樹脂等のイオン交換樹脂を充填した装置であればよ
く、特に制限されない。本発明において、イオン交換装
置4で不純物イオンを除去して純水とすることにより次
工程の電解過酸化水素発生装置への悪影響を低減し、ま
た電解処理効率を向上させることができ、紫外線照射水
処理全体の処理効率も向上させることができる。
【0014】本発明の紫外線照射水処理装置で浄化する
被処理水としては、一般産業排水、半導体工場排水、原
子力発電排水、上水、下水、中水道、リサイクル水、冷
水塔循環水、排ガス処理循環水、産業廃棄物滲出水等の
各種排水及び用水が挙げられる。これら被処理水中に含
有される有機性溶解物、特に、COD除去、脱色、殺
菌、また、ダイオキシン等の難分解性有機ハロゲン化合
物の分解除去に効果的に適用できる。
被処理水としては、一般産業排水、半導体工場排水、原
子力発電排水、上水、下水、中水道、リサイクル水、冷
水塔循環水、排ガス処理循環水、産業廃棄物滲出水等の
各種排水及び用水が挙げられる。これら被処理水中に含
有される有機性溶解物、特に、COD除去、脱色、殺
菌、また、ダイオキシン等の難分解性有機ハロゲン化合
物の分解除去に効果的に適用できる。
【0015】図2は、本発明の他の実施例のフロー説明
図である。図2において、紫外線照射水処理装置50
は、主に紫外線照射装置51、電解次亜塩素ソーダ製造
装置52及びろ過装置53から構成される。被処理水は
先ずラインL51からろ過装置53に導入され、前記図
1の装置と同様に処理水中の浮遊懸濁物(SS)や夾雑
物が除去される。また、電解次亜塩素酸ソーダ製造装置
52では、食塩水を電気分解することにより陽極で生成
される塩素と、陰極で生成される水酸化ナトリウムとに
より次亜塩素酸ソーダを得る。ろ過装置53を流出した
ろ過処理水には、ラインL52により電解次亜塩素酸ソ
ーダ製造装置52で得られた次亜塩素酸ソーダ(NaC
lO)が供給される。次亜塩素酸ソーダを含有したろ過
処理水は、次いでラインL53から紫外線照射装置51
に送入され、紫外線エネルギーにより次亜塩素酸ソーダ
から下記化学式(1)及び(2)で生成されるヒドロキ
シラジカル又は酸素ラジカルと紫外線照射により溶存す
る有機性物質が分解除去され浄化される。紫外線照射装
置51からラインL54で流出する浄化処理水には、下
記の化学式(1)及び(2)で生成される食塩が含有さ
れる。このためラインL54から流出する浄化処理水の
一部を電解次亜塩素酸ソーダ製造装置52へ食塩水とし
て送入し、再び次亜塩素酸ソーダに変換して循環再使用
できる。残余の浄化処理水は、ラインL54下流に逆浸
透膜等の食塩回収装置57を設けて食塩を除去した後系
外に排出する。また、浄化処理水を分岐することなく全
部を食塩回収装置57に流入し、除去回収した食塩を、
適宜、電解次亜塩素酸ソーダ製造装置52へ食塩水とし
て送入して循環使用してもよい。上記したように、図2
の実施態様においては、塩素系の次亜塩素酸ソーダを用
いるものの系内で循環使用することから塩素分が系外に
排出せず環境への影響がない。
図である。図2において、紫外線照射水処理装置50
は、主に紫外線照射装置51、電解次亜塩素ソーダ製造
装置52及びろ過装置53から構成される。被処理水は
先ずラインL51からろ過装置53に導入され、前記図
1の装置と同様に処理水中の浮遊懸濁物(SS)や夾雑
物が除去される。また、電解次亜塩素酸ソーダ製造装置
52では、食塩水を電気分解することにより陽極で生成
される塩素と、陰極で生成される水酸化ナトリウムとに
より次亜塩素酸ソーダを得る。ろ過装置53を流出した
ろ過処理水には、ラインL52により電解次亜塩素酸ソ
ーダ製造装置52で得られた次亜塩素酸ソーダ(NaC
lO)が供給される。次亜塩素酸ソーダを含有したろ過
処理水は、次いでラインL53から紫外線照射装置51
に送入され、紫外線エネルギーにより次亜塩素酸ソーダ
から下記化学式(1)及び(2)で生成されるヒドロキ
シラジカル又は酸素ラジカルと紫外線照射により溶存す
る有機性物質が分解除去され浄化される。紫外線照射装
置51からラインL54で流出する浄化処理水には、下
記の化学式(1)及び(2)で生成される食塩が含有さ
れる。このためラインL54から流出する浄化処理水の
一部を電解次亜塩素酸ソーダ製造装置52へ食塩水とし
て送入し、再び次亜塩素酸ソーダに変換して循環再使用
できる。残余の浄化処理水は、ラインL54下流に逆浸
透膜等の食塩回収装置57を設けて食塩を除去した後系
外に排出する。また、浄化処理水を分岐することなく全
部を食塩回収装置57に流入し、除去回収した食塩を、
適宜、電解次亜塩素酸ソーダ製造装置52へ食塩水とし
て送入して循環使用してもよい。上記したように、図2
の実施態様においては、塩素系の次亜塩素酸ソーダを用
いるものの系内で循環使用することから塩素分が系外に
排出せず環境への影響がない。
【0016】上記図2の実施態様における紫外線照射装
置51及びろ過装置53は、前記図1において用いる装
置と同様の装置を用いることができる。また、図1と同
様に二重管構造として内管54側に空気や酸素等の酸素
含有ガスを流通させてオゾンを生成して被照射処理水が
流通する外管55側の散気部56から供給してもよい。
また、本発明において用いる電解次亜塩素酸ソーダ製造
装置52は、食塩水を電気分解して次亜塩素酸ソーダを
生成する装置として公知の電解装置を用いることがで
き、無隔膜電解槽でもイオン交換膜電解槽のいずれでも
よく被処理水の性状や要求される処理水の性状等の条件
により適宜選択することができる。また、電解次亜塩素
酸ソーダ製造装置52において、次亜塩素酸ソーダは通
電電流を調整することにより必要な生成量を得ることが
できる。
置51及びろ過装置53は、前記図1において用いる装
置と同様の装置を用いることができる。また、図1と同
様に二重管構造として内管54側に空気や酸素等の酸素
含有ガスを流通させてオゾンを生成して被照射処理水が
流通する外管55側の散気部56から供給してもよい。
また、本発明において用いる電解次亜塩素酸ソーダ製造
装置52は、食塩水を電気分解して次亜塩素酸ソーダを
生成する装置として公知の電解装置を用いることがで
き、無隔膜電解槽でもイオン交換膜電解槽のいずれでも
よく被処理水の性状や要求される処理水の性状等の条件
により適宜選択することができる。また、電解次亜塩素
酸ソーダ製造装置52において、次亜塩素酸ソーダは通
電電流を調整することにより必要な生成量を得ることが
できる。
【0017】
【発明の効果】本発明は、促進酸化法の水処理法におい
て、紫外線照射と併用する酸化剤を、同一水処理プロセ
ス系内に電解装置を組込み発生させ使用することから、
輸送時の事故の危険性や貯蔵時の分解消失等による利用
有効率の低下がない。また、酸化剤発生装置の電解装置
と紫外線照射装置とを被処理水を循環させて連絡し得る
ことから一連のプロセスとして構築でき、操作も簡便で
容易である。従って、溶解性有機ハロゲン化合物、特
に、塩素系有機化合物を含有する排水等を効率的に処理
して有害な汚染物を除去できる。更に、次亜塩素酸ソー
ダを系外に排出することなく閉鎖系で循環使用すること
ができ酸化性に優れる次亜塩素酸ソーダの適用が可能で
ある。
て、紫外線照射と併用する酸化剤を、同一水処理プロセ
ス系内に電解装置を組込み発生させ使用することから、
輸送時の事故の危険性や貯蔵時の分解消失等による利用
有効率の低下がない。また、酸化剤発生装置の電解装置
と紫外線照射装置とを被処理水を循環させて連絡し得る
ことから一連のプロセスとして構築でき、操作も簡便で
容易である。従って、溶解性有機ハロゲン化合物、特
に、塩素系有機化合物を含有する排水等を効率的に処理
して有害な汚染物を除去できる。更に、次亜塩素酸ソー
ダを系外に排出することなく閉鎖系で循環使用すること
ができ酸化性に優れる次亜塩素酸ソーダの適用が可能で
ある。
【図1】本発明の一実施例で用いる紫外線照射水処理装
置の概要説明図
置の概要説明図
【図2】本発明の他の実施例で用いる紫外線照射水処理
装置の概要説明図
装置の概要説明図
10、50・・紫外線照射水処理装置 1、51・・紫外線照射装置 11・・水銀ランプ 12、54・・内管 13、55・・外管 14、56・・散気管 2・・電解過酸化水素発生装置(21・・過酸化水素製
造用ユニット) 22・・陽極給電体 23・・ガス拡散陽極 24・・陰極給電体 25・・ガス拡散陰極 26・・陽イオン交換膜 27・・被処理水導入口 28・・酸素導入口 29・・処理水流出口 52・・電解次亜塩素酸ソーダ発生装置 3、53・・ろ過装置 4・・イオン交換装置 57・・食塩回収装置
造用ユニット) 22・・陽極給電体 23・・ガス拡散陽極 24・・陰極給電体 25・・ガス拡散陰極 26・・陽イオン交換膜 27・・被処理水導入口 28・・酸素導入口 29・・処理水流出口 52・・電解次亜塩素酸ソーダ発生装置 3、53・・ろ過装置 4・・イオン交換装置 57・・食塩回収装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4D037 AA11 AB02 AB14 BA18 CA04 CA12 CA13 4D050 AA12 AB11 BB06 BB09 BD02 CA08 CA10 CA14 CA15 4D061 DA08 DB19 DC08 EA03 EB04 EB13 EB17 EB19 ED02 ED13 FA08 FA13
Claims (3)
- 【請求項1】 溶解含有有機物を分解する水処理方法で
あって、紫外線照射処理した処理水の一部又は処理前の
被処理水をろ過及びイオン交換処理した後、電解過酸化
水素発生装置に供給して過酸化水素含有水として紫外線
照射処理に循環して処理することを特徴とする紫外線照
射水処理方法。 - 【請求項2】 溶解含有有機物を分解する水処理方法で
あって、被処理水をろ過及びイオン交換処理した後、電
解過酸化水素発生装置に供給し過酸化水素含有水として
紫外線照射処理に供することを特徴とする紫外線照射水
処理方法。 - 【請求項3】 溶解含有有機物を分解する水処理方法で
あって、電解次亜塩素酸ソーダ製造装置に食塩水を供給
して得られる次亜塩素酸ソーダ溶解含有水を被処理水に
添加して紫外線照射処理して被処理水を浄化すると共
に、紫外線照射により生成し処理水中に含有する食塩を
取出し食塩水として電解次亜塩素酸ソーダ製造装置へ循
環使用することを特徴とする紫外線照射水処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26206199A JP2001079544A (ja) | 1999-09-16 | 1999-09-16 | 紫外線照射水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26206199A JP2001079544A (ja) | 1999-09-16 | 1999-09-16 | 紫外線照射水処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001079544A true JP2001079544A (ja) | 2001-03-27 |
Family
ID=17370495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26206199A Pending JP2001079544A (ja) | 1999-09-16 | 1999-09-16 | 紫外線照射水処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001079544A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011229405A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Permelec Electrode Ltd | 養殖魚に寄生する外部寄生虫の駆除方法 |
CN114269691A (zh) * | 2019-08-02 | 2022-04-01 | 懿华水处理技术有限责任公司 | 用于紫外线高级氧化工艺控制的过氧化氢的现场电化学生成的调节 |
-
1999
- 1999-09-16 JP JP26206199A patent/JP2001079544A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011229405A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-17 | Permelec Electrode Ltd | 養殖魚に寄生する外部寄生虫の駆除方法 |
CN114269691A (zh) * | 2019-08-02 | 2022-04-01 | 懿华水处理技术有限责任公司 | 用于紫外线高级氧化工艺控制的过氧化氢的现场电化学生成的调节 |
JP7566867B2 (ja) | 2019-08-02 | 2024-10-15 | エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシー | 紫外線促進酸化プロセス制御のための過酸化水素のオンサイト電気化学的生成の制御 |
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