JP5153081B2 - Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents

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Description

本発明は分子配向性の高いエポキシ樹脂であって、その硬化物において強靭性、耐湿性に優れた特性を有するエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物に関する。   The present invention relates to an epoxy resin having a high molecular orientation and an epoxy resin, an epoxy resin composition and a cured product thereof having excellent properties of toughness and moisture resistance in the cured product.

一般にエポキシ樹脂組成物は架橋反応によってランダムな網目構造を形成し、耐熱性、耐水性、絶縁性などに優れた硬化物となることが知られている。更に近年ではエポキシ樹脂組成物を硬化させる際、外部から物理的な力を加えエポキシ樹脂組成物を特定の方向に配向させることによって、硬化物の特性を向上させる試みがなされている。例えば、特許文献1においては分子内にメソゲン基を有するエポキシ樹脂が、その硬化物において高い熱伝導率を示すことが記載されている。また、特許文献2においてはメソゲン基を有するエポキシ樹脂に磁場を印加して配向させた後に硬化させることにより熱伝導性に優れた硬化物が得られることが報告されている。また、熱可塑性樹脂の分野においては、液晶性を有する高分子は融点以上の温度において加工することにより機械強度に優れた成型物が得られることが特許文献3などに記載されている。   In general, it is known that an epoxy resin composition forms a random network structure by a crosslinking reaction and becomes a cured product excellent in heat resistance, water resistance, insulation and the like. Furthermore, in recent years, when an epoxy resin composition is cured, an attempt has been made to improve the properties of the cured product by applying an external physical force to orient the epoxy resin composition in a specific direction. For example, Patent Document 1 describes that an epoxy resin having a mesogenic group in the molecule exhibits high thermal conductivity in the cured product. In Patent Document 2, it is reported that a cured product having excellent thermal conductivity can be obtained by applying a magnetic field to an epoxy resin having a mesogenic group and then curing it. Further, in the field of thermoplastic resins, Patent Document 3 describes that a polymer having liquid crystallinity can be processed at a temperature equal to or higher than the melting point to obtain a molded product having excellent mechanical strength.

特開2003−268070号公報JP 2003-268070 A 特開2004−175926号公報JP 2004-175926 A 特許2664405号公報Japanese Patent No. 2664405

しかしながら上記特許文献に記載されているようなメソゲン基を有するエポキシ樹脂は、一般に分子構造が複雑であり、製造が困難であるという欠点を有する。また、エポキシ樹脂組成物全体に磁場などを印加する場合、大掛かりな装置が必要になるといった問題点がある。また、通常熱可塑性の液晶高分子はその融点が250〜350℃であり、成型条件が熱硬化性樹脂に比べて非常に厳しいのが一般的である。   However, an epoxy resin having a mesogenic group as described in the above-mentioned patent document generally has a drawback that it has a complicated molecular structure and is difficult to produce. Moreover, when applying a magnetic field etc. to the whole epoxy resin composition, there exists a problem that a large apparatus is needed. In general, a thermoplastic liquid crystal polymer has a melting point of 250 to 350 ° C., and the molding conditions are generally very strict as compared with a thermosetting resin.

本発明者らはこうした実状に鑑み、製造が容易であり、しかも簡単に分子が配向した状態を実現することが可能なエポキシ樹脂組成物を求めて鋭意研究した結果、本発明を完成させるに到った。   In light of these circumstances, the present inventors have eagerly studied for an epoxy resin composition that is easy to manufacture and that can easily realize a state in which molecules are oriented. As a result, the present invention has been completed. It was.

すなわち本発明は
(1)下記式(1)

Figure 0005153081
(式中、複数存在するRは独立して水素原子もしくはフェニル基を表す。複数存在する基
Figure 0005153081
は、炭素数a個の置換または非置換のシクロアルキル基を表し、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。aは3〜17(アルキリデン結合の炭素を含む)を表す。nは平均値であり0.5<n≦20を表す。)
で表されるエポキシ樹脂、
(2)下記式(1’)
Figure 0005153081
(式中、複数存在するRは独立して水素原子もしくはフェニル基を表す。複数存在する基
Figure 0005153081
は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。a'は2〜16を表す。nは平均値であり0.5<n≦20を表す。)
で表されるエポキシ樹脂、
(3)前記式(1’)においてa'が3〜8であることを特徴とする前記(1)に記載のエポキシ樹脂、
(4)前記(1)〜(3)のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂及び硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物、
(5)前記(4)に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物、
(6)下記式(2) That is, the present invention provides (1) the following formula (1)
Figure 0005153081
(In the formula, plural Rs independently represent a hydrogen atom or a phenyl group.
Figure 0005153081
Represents a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having a carbon number, and may be the same or different from each other. a represents 3 to 17 (including alkylidene-bonded carbon). n is an average value and represents 0.5 <n ≦ 20. )
Epoxy resin represented by
(2) The following formula (1 ′)
Figure 0005153081
(In the formula, plural Rs independently represent a hydrogen atom or a phenyl group.
Figure 0005153081
May be the same as or different from each other. a 'represents 2-16. n is an average value and represents 0.5 <n ≦ 20. )
Epoxy resin represented by
(3) In the formula (1 ′), a ′ is 3 to 8, the epoxy resin according to (1),
(4) An epoxy resin composition containing the epoxy resin according to any one of (1) to (3) and a curing agent,
(5) Hardened | cured material formed by hardening | curing the epoxy resin composition as described in said (4),
(6) The following formula (2)

Figure 0005153081
(式中、Rは水素原子もしくはフェニル基を表す。基
Figure 0005153081
は、炭素数a個の置換または非置換のシクロアルキル基を表し、aは3〜17(アルキリデン結合の炭素を含む)を表す。)
で表されるフェノール系化合物をエピハロヒドリンとアルカリ金属水酸化物の存在下で反応させて、低分子量のエポキシ樹脂を得、該エポキシ樹脂とさらに前記式(2)のフェノール系化合物を反応させ、次いで貧溶媒を添加し結晶を析出させることを特徴とする前記(1)に記載のエポキシ樹脂の製造方法、
(7)下記式(2’)
Figure 0005153081
(式中、Rは水素原子もしくはフェニル基を表す。aは2〜16を表す。)
で表されるフェノール系化合物をエピハロヒドリンとアルカリ金属水酸化物の存在下で反応させて、低分子量のエポキシ樹脂を得、該エポキシ樹脂とさらに前記式(2’)のフェノール系化合物を反応させ、次いで貧溶媒を添加し結晶を析出させることを特徴とする前記(2)または(3)に記載のエポキシ樹脂の製造方法
を、提供するものである。
Figure 0005153081
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a phenyl group.
Figure 0005153081
Represents a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having a carbon number, and a represents 3 to 17 (including carbon of an alkylidene bond). )
Is reacted with an epihalohydrin in the presence of an alkali metal hydroxide to obtain a low molecular weight epoxy resin, and the epoxy resin is further reacted with the phenolic compound of formula (2), The method for producing an epoxy resin according to (1), wherein a crystal is precipitated by adding a poor solvent,
(7) The following formula (2 ′)
Figure 0005153081
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a phenyl group. A represents 2 to 16.)
Is reacted in the presence of an epihalohydrin and an alkali metal hydroxide to obtain a low molecular weight epoxy resin, and the epoxy resin is further reacted with the phenolic compound of the formula (2 ′), Next, the method for producing an epoxy resin according to the above (2) or (3) is provided, wherein a crystal is precipitated by adding a poor solvent.

本発明のエポキシ樹脂は分子配向性が非常に高いエポキシ樹脂であって、その硬化物において強靭性、耐湿性に優れた特性を有し、コンポジット材料や、電気・電子材料、特にプリント配線基板、ソルダーレジスト、半導体封止材、位相差フィルム、成形材料、接着剤などに有用である。   The epoxy resin of the present invention is an epoxy resin having a very high molecular orientation, and has a property excellent in toughness and moisture resistance in the cured product, and is a composite material, an electric / electronic material, particularly a printed wiring board, It is useful for solder resists, semiconductor encapsulants, retardation films, molding materials, adhesives and the like.

本発明のエポキシ樹脂原料としては式(2)   The epoxy resin raw material of the present invention is represented by the formula (2)

Figure 0005153081
(式中、Rは水素原子もしくはフェニル基を表す。aは3〜17を表す。)で表されるフェノール系化合物が挙げられる。式(2)の化合物は環状ケトンとフェノールやフェニルフェノールとの重縮合反応により得ることが出来る。
Figure 0005153081
(Wherein, R represents a hydrogen atom or a phenyl group, a represents 3 to 17). The compound of formula (2) can be obtained by a polycondensation reaction between a cyclic ketone and phenol or phenylphenol.

式(2)の化合物において、基

Figure 0005153081
としては、シクロプロピリデン基、シクロブチリデン基、シクロヘキシリデン基、シクロペンチリデン基、アダマンチル基、フルオレニル基、3、3−ジメチル−5−メチルシクロヘキシリデン基、などが挙げられるが、結晶性の面から下記式 In the compound of formula (2), a group
Figure 0005153081
Examples thereof include cyclopropylidene group, cyclobutylidene group, cyclohexylidene group, cyclopentylidene group, adamantyl group, fluorenyl group, 3,3-dimethyl-5-methylcyclohexylidene group, etc. The following formula from the aspect of sex

Figure 0005153081
で表される基が好ましく、a’が3〜8であるシクロアルキリデン基が特に好ましい。
Figure 0005153081
The cycloalkylidene group whose a 'is 3-8 is especially preferable.

式(2)の化合物は市販品も入手可能で、例えば慣用名ではビスフェノールZ、ビスフェノールCP、ビスフェノールTMC、ビスフェノールフルオレンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。   The compound of Formula (2) can also obtain a commercial item, for example, bisphenol Z, bisphenol CP, bisphenol TMC, bisphenol fluorene etc. are mentioned by a common name. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明のエポキシ樹脂の製法は大別して、1段法とフュージョン法(Advanced法、二段法とも言う。新エポキシ樹脂 垣内弘編著 24−25、30−31ページ参照)がある。本発明においては1段法、フュージョン法いずれを用いてもかまわないが、製造法の簡便さから、フュージョン法を選択することが好ましい。以下、これらのうち、フュージョン法につき詳細に説明する。   The production method of the epoxy resin of the present invention is roughly classified into a one-step method and a fusion method (also referred to as an advanced method or a two-step method. See, New Epoxy Resins Hiroshi Kakiuchi, pages 24-25 and 30-31). In the present invention, either the one-stage method or the fusion method may be used, but it is preferable to select the fusion method from the viewpoint of the simplicity of the production method. Hereinafter, the fusion method will be described in detail.

フュージョン法では、前記式(2)で表されるフェノール系化合物をエピハロヒドリンとアルカリ金属水酸化物の存在下で反応させて、低分子量のエポキシ樹脂を得、さらに前記式(2)で表される化合物を反応させる。本発明のエポキシ樹脂は、この反応終了後、溶融状態からそのまま冷却し、樹脂状のエポキシ樹脂として取り出すことができるが、必要により、結晶状化合物として取り出すことができる。具体的には溶液中で貧溶媒、あるいは温度差により、晶析させることができる。   In the fusion method, the phenolic compound represented by the formula (2) is reacted in the presence of epihalohydrin and an alkali metal hydroxide to obtain a low molecular weight epoxy resin, and further represented by the formula (2). The compound is reacted. After completion of this reaction, the epoxy resin of the present invention can be cooled as it is from the molten state and taken out as a resinous epoxy resin, but can be taken out as a crystalline compound if necessary. Specifically, it can be crystallized by a poor solvent or a temperature difference in the solution.

前記フュージョン法においてエピハロヒドリンとしてはエピクロルヒドリンやエピブロムヒドリンを用いることが出来る。エピハロヒドリンの量は式(2)の化合物の水酸基1モルに対し通常2〜15モル、好ましくは3〜12モルである。   In the fusion method, epichlorohydrin or epibromohydrin can be used as the epihalohydrin. The amount of epihalohydrin is usually 2 to 15 mol, preferably 3 to 12 mol, per 1 mol of the hydroxyl group of the compound of formula (2).

アルカリ金属水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ固体でも、その水溶液を使用しても良く、水溶液を使用する場合は連続的に反応系内に添加すると同時に減圧下、または常圧下水及びエピハロヒドリンを留出させ更に分液し、水は除去しエピハロヒドリンは反応系内に連続的に戻す方法でもよい。アルカリ金属水酸化物の使用量は式(2)の化合物の水酸基1当量に対して、通常0.9〜1.2モル、好ましくは0.95〜1.15モルである。反応温度は通常20〜110℃、好ましくは25〜100℃である。反応時間は通常0.5〜15時間、好ましくは1〜10時間である。   Examples of the alkali metal hydroxide include sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like, and may be solid or an aqueous solution thereof. When an aqueous solution is used, it is continuously added to the reaction system and simultaneously under reduced pressure, or A method may be employed in which normal-pressure sewage and epihalohydrin are distilled and separated, water is removed, and epihalohydrin is continuously returned to the reaction system. The usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.9-1.2 mol normally with respect to 1 equivalent of hydroxyl groups of the compound of Formula (2), Preferably it is 0.95-1.15 mol. The reaction temperature is usually 20 to 110 ° C, preferably 25 to 100 ° C. The reaction time is usually 0.5 to 15 hours, preferably 1 to 10 hours.

メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、或いはジメチルスルホキシド、ジメチルスルホンなどの非プロトン性極性溶媒を添加することは反応を促進させる上で好ましい。   Addition of alcohols such as methanol, ethanol, propanol and butanol, or aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethyl sulfone is preferable for promoting the reaction.

アルコール類を使用する場合、その使用量はエピクロルヒドリンの量に対し通常3〜30重量%、好ましくは5〜20重量%である。非プロトン性極性溶媒を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対して通常10〜150重量%、好ましくは15〜120重量%である。   When using alcohol, the amount of its use is 3-30 weight% normally with respect to the quantity of epichlorohydrin, Preferably it is 5-20 weight%. When an aprotic polar solvent is used, the amount used is usually 10 to 150% by weight, preferably 15 to 120% by weight, based on the amount of epihalohydrin.

また、エピハロヒドリンと式(2)の化合物の反応は、両者の混合物にテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの4級アンモニウム塩触媒として添加し30〜110℃で0.5〜8時間反応させて得られる、式(2)の化合物のハロヒドリンエーテル化合物にアルカリ金属水酸化物の固体または水溶液を加え20〜100℃で1〜10時間反応させ脱ハロゲン化水素(閉環)させる方法でもよい。   In addition, the reaction between the epihalohydrin and the compound of the formula (2) was added to the mixture of both as a quaternary ammonium salt catalyst such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium chloride and the like at 0.5 to 30 ° C. Hydrogen halide solid or aqueous solution of halohydrin ether compound of the formula (2) obtained by reacting for ˜8 hours is added and reacted at 20-100 ° C. for 1-10 hours for dehydrohalogenation (ring closure) ).

次いで、これらのエポキシ化反応の反応物を水洗後、或いは水洗無しに加熱減圧下で過剰のエピハロヒドリン及び溶剤などを除去する。また更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂とするために、回収したエポキシ樹脂をトルエン、メチルイソブチルケトンなどに溶解させ、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて閉環を確実にすることも出来る。この場合、アルカリ金属水酸化物の使用量は式(2)化合物の水酸基1モルに対して、通常0.01〜0.3モル、好ましくは0.05〜0.2モルである。反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5〜2時間である。   Subsequently, excess epihalohydrin, a solvent, etc. are removed under the heat-reduced pressure after washing these epoxidation reaction products with water or without washing with water. Furthermore, in order to make an epoxy resin with less hydrolyzable halogen, the recovered epoxy resin is dissolved in toluene, methyl isobutyl ketone, etc., and an aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added to perform ring closure. Can also be ensured. In this case, the usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.01-0.3 mol normally with respect to 1 mol of hydroxyl groups of a compound of Formula (2), Preferably it is 0.05-0.2 mol. The reaction temperature is usually 50 to 120 ° C., and the reaction time is usually 0.5 to 2 hours.

反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し加熱減圧下で溶剤を除去することにより低分子量のエポキシ樹脂(A)(前記式(1)で表されnが平均値で0.5以下程度)が得られる。このエポキシ樹脂(A)のエポキシ当量は通常170〜270g/eqであり、ジグリシジルエーテル体を主成分として70%(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにおける面積%)以上含有する。   After completion of the reaction, the produced salt is removed by filtration, washing with water, etc., and the solvent is removed by heating under reduced pressure to give a low molecular weight epoxy resin (A) (represented by the above formula (1), n is an average value of 0.5) Or less). The epoxy equivalent of this epoxy resin (A) is usually 170 to 270 g / eq, and contains 70% (area% in gel permeation chromatography) of diglycidyl ether as a main component.

次にエポキシ樹脂(A)とさらに前記式(2)で表される化合物を反応させる。エポキシ樹脂(A)と前記式(2)のフェノール系化合物との仕込み比率は、エポキシ樹脂(A)のエポキシ基1モルに対し、式(2)の化合物の水酸基が通常0.05〜0.95モル、好ましくは0.1〜0.9モルとなる割合である。   Next, the epoxy resin (A) is further reacted with the compound represented by the formula (2). The charging ratio of the epoxy resin (A) to the phenolic compound of the formula (2) is generally 0.05 to 0. 0 with respect to 1 mol of the epoxy group of the epoxy resin (A). The ratio is 95 mol, preferably 0.1 to 0.9 mol.

この鎖延長反応は無触媒で行うことも出来るが、反応を促進させる上では触媒を用いることが好ましい。用い得る触媒としてはトリフェニルホスフィン、テトラメチルアンモニウムクロライド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ベンジルトリフェニルホスフォニウムクロライド、ブチルトリフェニルホスフォニウム、エチルトリフェニルホスフォニウムヨーダイド、エチルトリフェニルホスフォニウムブロマイドなどが挙げられる。触媒の使用量としてはエポキシ樹脂(A)のエポキシ基1モルに対して通常0.01〜10重量部、好ましくは0.05〜5重量部である。   Although this chain extension reaction can be carried out without a catalyst, it is preferable to use a catalyst for promoting the reaction. Catalysts that can be used include triphenylphosphine, tetramethylammonium chloride, sodium hydroxide, potassium hydroxide, benzyltriphenylphosphonium chloride, butyltriphenylphosphonium, ethyltriphenylphosphonium iodide, ethyltriphenylphosphine. Examples include phonium bromide. The amount of the catalyst used is usually 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0.05 to 5 parts by weight, based on 1 mol of the epoxy group of the epoxy resin (A).

鎖延長反応においては必要に応じて溶剤を使用する。特に反応温度を制御するという意味合いで溶剤を用いることが好ましい。用い得る溶剤としてはシクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素などが挙げられる。溶剤の使用量としてはエポキシ樹脂(A)と式(2)の化合物の合計重量に対して、通常5〜150重量%、好ましくは10〜100重量%である。   In the chain extension reaction, a solvent is used as necessary. In particular, it is preferable to use a solvent in the sense of controlling the reaction temperature. Solvents that can be used include ketones such as cyclopentanone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, and acetone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, butyl lactate, and γ-butyrolactone, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. Etc. The amount of the solvent used is usually 5 to 150% by weight, preferably 10 to 100% by weight, based on the total weight of the epoxy resin (A) and the compound of the formula (2).

反応温度は通常60〜180℃、好ましくは70〜160℃である。反応の進行はGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)などで追跡することが出来、式(2)の化合物が完全に検出されなくなるまで行う。また反応の終了はエポキシ当量の変化を追うことによっても追跡可能である。反応時間は通常0.5〜15時間、好ましくは1〜10時間である。   The reaction temperature is usually 60 to 180 ° C, preferably 70 to 160 ° C. The progress of the reaction can be followed by GPC (gel permeation chromatography) or the like, and is performed until the compound of formula (2) is not completely detected. The completion of the reaction can also be traced by following the change in epoxy equivalent. The reaction time is usually 0.5 to 15 hours, preferably 1 to 10 hours.

反応終了後、得られた反応混合物から必要に応じて触媒を除去した後、以下の処方により本発明のエポキシ樹脂(B)を単離することが出来る。なお、反応混合物は用途によっては、このままワニスとして使用することができる。
(a)本発明のエポキシ樹脂の融点あるいは軟化点以上の温度で溶融した後、樹脂として取り出す。(溶剤を使用した場合、溶剤を加熱減圧下、留去した後、溶融、樹脂化を行う)
(b)晶析により結晶状樹脂として取り出す。
After completion of the reaction, the catalyst is removed from the obtained reaction mixture as necessary, and then the epoxy resin (B) of the present invention can be isolated by the following formulation. The reaction mixture can be used as it is as a varnish depending on the application.
(A) After melting at a temperature equal to or higher than the melting point or softening point of the epoxy resin of the present invention, it is taken out as a resin. (If a solvent is used, the solvent is distilled off under reduced pressure and then melted and resinated)
(B) Take out as a crystalline resin by crystallization.

以下に前記(b)について具体的に説明を行う。
前記(b)の処方では、反応混合物に貧溶媒を加え冷却することにより本発明のエポキシ樹脂を析出させる。貧溶媒としてはメチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、トルエン、メタノール、エタノール、水などが挙げられる。加える貧溶媒の使用量は、エポキシ樹脂(A)と式(2)の化合物の合計重量に対して、通常50〜400重量%、好ましくは100〜300重量%である。結晶を析出させた後、濾別し乾燥させることにより本発明のエポキシ樹脂(B)を結晶粉体として得ることが出来る。
The above (b) will be specifically described below.
In the formula (b), the epoxy resin of the present invention is precipitated by adding a poor solvent to the reaction mixture and cooling. Examples of the poor solvent include methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, acetone, toluene, methanol, ethanol, water and the like. The amount of the poor solvent to be added is usually 50 to 400% by weight, preferably 100 to 300% by weight, based on the total weight of the epoxy resin (A) and the compound of the formula (2). After the crystals are precipitated, the epoxy resin (B) of the present invention can be obtained as a crystal powder by filtering and drying.

また、無溶媒で縮合反応を行った場合は、反応終了後、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのエポキシ樹脂(B)の良溶媒に本発明のエポキシ樹脂(B)を溶解させ、次いでメタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトンなどの水溶性の貧溶媒を加え、更に水を加えることによって収率良く結晶状の本発明のエポキシ樹脂を得ることが出来る。この場合、良溶媒の使用量はエポキシ樹脂(A)と式(2)の化合物の合計重量に対して、通常5〜200重量%、好ましくは10〜150重量%である。水溶性貧溶媒の使用量としてはエポキシ樹脂の理論収量に対して、通常5〜200重量%、好ましくは10〜150重量%である。水の使用量はエポキシ樹脂(A)と式(2)の化合物の合計重量に対して、通常50〜400重量%、好ましくは100〜300重量%である。   In addition, when the condensation reaction is carried out without a solvent, after completion of the reaction, a good solvent for epoxy resin (B) such as N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, etc. Dissolving the epoxy resin (B) of the present invention, and then adding a water-soluble poor solvent such as methanol, ethanol, isopropanol, and acetone, and further adding water to obtain a crystalline epoxy resin of the present invention with high yield. I can do it. In this case, the amount of the good solvent used is usually 5 to 200% by weight, preferably 10 to 150% by weight, based on the total weight of the epoxy resin (A) and the compound of formula (2). The amount of the water-soluble poor solvent used is usually 5 to 200% by weight, preferably 10 to 150% by weight, based on the theoretical yield of the epoxy resin. The amount of water used is usually 50 to 400% by weight, preferably 100 to 300% by weight, based on the total weight of the epoxy resin (A) and the compound of formula (2).

こうして得られる結晶状のエポキシ樹脂(B)は通常、融点が70〜180℃である。通常のエポキシ樹脂は分子量分布を有することで結晶性がなくなり、アモルファスになるが、本発明のエポキシ樹脂は分子量分布が広いものが結晶性を有し、非常に分子の配向性が強くなる。この配向性は物性の向上に寄与するものである。
得られるエポキシ樹脂のエポキシ当量は通常200〜2000g/eq、好ましくは250〜1500g/eq、より好ましくは300〜1000g/eqである。
The crystalline epoxy resin (B) thus obtained usually has a melting point of 70 to 180 ° C. A normal epoxy resin loses crystallinity due to the molecular weight distribution and becomes amorphous, but the epoxy resin of the present invention has a crystallinity when the molecular weight distribution is wide, and the orientation of the molecules is very strong. This orientation contributes to the improvement of physical properties.
The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin is usually 200 to 2000 g / eq, preferably 250 to 1500 g / eq, more preferably 300 to 1000 g / eq.

得られたエポキシ樹脂(B)はそのエポキシ樹脂組成物の調製においてワニス、樹脂状固体、結晶状樹脂の形状のいずれを用いてもかまわない。   The obtained epoxy resin (B) may be used in the form of varnish, resinous solid, or crystalline resin in the preparation of the epoxy resin composition.

以下、本発明のエポキシ樹脂組成物について説明する。本発明のエポキシ樹脂は硬化剤、硬化促進剤、シアネート樹脂などと組み合わせることにより、硬化性樹脂組成物として使用することが出来る。具体的な用途例としては、プリント配線基板、ソルダーレジスト、半導体封止材、位相差フィルム、成形材料、接着剤などが挙げられる。   Hereinafter, the epoxy resin composition of the present invention will be described. The epoxy resin of the present invention can be used as a curable resin composition by combining with a curing agent, a curing accelerator, a cyanate resin and the like. Specific examples of applications include printed wiring boards, solder resists, semiconductor encapsulants, retardation films, molding materials, and adhesives.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明のエポキシ樹脂及び硬化剤を必須成分として含有する。本発明のエポキシ樹脂組成物において、本発明のエポキシ樹脂は単独で、または他のエポキシ樹脂と併用して用いることが出来る。併用する場合、本発明のエポキシ樹脂の全エポキシ樹脂中に占める割合は30重量%以上が好ましく、特に40重量%以上が好ましい。   The epoxy resin composition of the present invention contains the epoxy resin of the present invention and a curing agent as essential components. In the epoxy resin composition of the present invention, the epoxy resin of the present invention can be used alone or in combination with other epoxy resins. When used in combination, the proportion of the epoxy resin of the present invention in the total epoxy resin is preferably 30% by weight or more, particularly preferably 40% by weight or more.

本発明のエポキシ樹脂と併用し得る他のエポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノール類(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ビフェノール、ビスフェノールAD等)、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、芳香族置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置換ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)と各種アルデヒド(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトアルデヒド、グルタルアルデヒド、フタルアルデヒド、クロトンアルデヒド、シンナムアルデヒド等)との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物(ジシクロペンタジエン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、ノルボルナジエン、ビニルノルボルネン、テトラヒドロインデン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニルビフェニル、ブタジエン、イソプレン等)との重合物、フェノール類とケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ジメタノール類(ベンゼンジメタノール、α,α,α’,α’−ベンゼンジメタノール、ビフェニルジメタノール、α,α,α’,α’−ビフェニルジメタノール等)との重縮合物、フェノール類と芳香族ジクロロメチル類(α,α’−ジクロロキシレン、ビスクロロメチルビフェニル等)との重縮合物、ビスフェノール類と各種アルデヒドの重縮合物、アルコール類等をグリシジル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられるが、通常用いられるエポキシ樹脂であればこれらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。   Specific examples of other epoxy resins that can be used in combination with the epoxy resin of the present invention include bisphenols (bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, biphenol, bisphenol AD, etc.), phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, aromatic substitution). Phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, alkyl-substituted dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and various aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, alkylaldehyde, benzaldehyde, alkyl-substituted benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, naphthaldehyde, glutaraldehyde, phthalaldehyde, croton Polycondensates with aldehydes, cinnamaldehyde, etc., phenols and various diene compounds (disic) Polymers of pentadiene, terpenes, vinylcyclohexene, norbornadiene, vinylnorbornene, tetrahydroindene, divinylbenzene, divinylbiphenyl, diisopropenylbiphenyl, butadiene, isoprene, etc., phenols and ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone) , Acetophenone, benzophenone, etc.), phenols and aromatic dimethanol (benzenedimethanol, α, α, α ', α'-benzenedimethanol, biphenyldimethanol, α, α, α', polycondensates with α'-biphenyldimethanol, etc., polycondensates with phenols and aromatic dichloromethyls (α, α'-dichloroxylene, bischloromethylbiphenyl, etc.), polycondensates of bisphenols and various aldehydes. Condensation Glycidyl ether epoxy resins, alicyclic epoxy resins, glycidyl amine epoxy resins, glycidyl ester epoxy resins, etc., which are glycidylated products, alcohols, etc. It is not something. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明のエポキシ樹脂組成物が含有する硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノ−ル系化合物などが挙げられる。使用できる硬化剤の具体例としては、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、フェノ−ルノボラック、及びこれらの変性物、イミダゾ−ル、BF−アミン錯体、グアニジン誘導体などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。 Examples of the curing agent contained in the epoxy resin composition of the present invention include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenol compounds, and the like. Specific examples of the curing agent that can be used include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, a polyamide resin synthesized from linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, triethylene anhydride. Meritic acid, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, phenol novolac, and modified products thereof, Examples include, but are not limited to, imidazole, BF 3 -amine complexes, guanidine derivatives, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明のエポキシ樹脂組成物において硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.7〜1.2当量が好ましい。エポキシ基1当量に対して0.7当量に満たない場合、或いは1.2当量を越える場合、いずれも硬化が不完全になり、良好な硬化物性が得られない恐れがある。   In the epoxy resin composition of the present invention, the amount of the curing agent used is preferably 0.7 to 1.2 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. When less than 0.7 equivalent with respect to 1 equivalent of epoxy groups, or when exceeding 1.2 equivalent, in any case, curing may be incomplete, and good cured properties may not be obtained.

また本発明のエポキシ樹脂組成物においては硬化促進剤を使用することも出来る。使用できる硬化促進剤の例としては2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等の第3級アミン類、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類、オクチル酸スズ等の金属化合物が挙げられる。硬化促進剤はエポキシ樹脂100重量部に対して0.1〜5.0重量部が必要に応じ用いられる。   A curing accelerator can also be used in the epoxy resin composition of the present invention. Examples of curing accelerators that can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diaza-bicyclo (5 , 4, 0) tertiary amines such as undecene-7, phosphines such as triphenylphosphine, and metal compounds such as tin octylate. The curing accelerator is used as necessary in an amount of 0.1 to 5.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

本発明のエポキシ樹脂組成物は必要により無機充填剤を含有し得る。用い得る無機充填剤の具体例としてはシリカ、アルミナ、タルク等が挙げられる。無機充填剤は本発明のエポキシ樹脂組成物において0〜90重量%を占める量が用いられる。更に本発明のエポキシ樹脂組成物には、シランカップリング剤、ステアリン酸、パルチミン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の離型剤、顔料などの種々の配合剤を添加することが出来る。   The epoxy resin composition of the present invention may contain an inorganic filler as necessary. Specific examples of the inorganic filler that can be used include silica, alumina, talc and the like. The inorganic filler is used in an amount of 0 to 90% by weight in the epoxy resin composition of the present invention. Furthermore, various compounding agents such as a silane coupling agent, a release agent such as stearic acid, palmitic acid, zinc stearate, and calcium stearate, and a pigment can be added to the epoxy resin composition of the present invention.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、各成分を均一に混合することにより得られる。本発明のエポキシ樹脂組成物は従来知られている方法と同様の方法で容易にその硬化物とすることが出来る。例えば本発明のエポキシ樹脂と硬化剤ならびに必要により硬化促進剤、無機充填剤及び配合剤とを必要に応じて押出機、ニーダ、ロールなどを用いて均一になるまで十分に混合してエポキシ樹脂組成物を得、そのエポキシ樹脂組成物を溶融後注型あるいはトランスファー成型機などを用いて成型し、更に80〜200℃で2〜10時間加熱することにより硬化物を得ることが出来る。   The epoxy resin composition of this invention is obtained by mixing each component uniformly. The epoxy resin composition of the present invention can be easily made into a cured product by a method similar to a conventionally known method. For example, the epoxy resin composition of the present invention is mixed thoroughly with an epoxy resin, a curing agent and, if necessary, a curing accelerator, an inorganic filler and a compounding agent as necessary, using an extruder, kneader, roll, etc. until uniform. A cured product can be obtained by melting the epoxy resin composition after melting, molding it using a casting or transfer molding machine, and heating at 80 to 200 ° C. for 2 to 10 hours.

本発明のエポキシ樹脂組成物に有機溶剤を添加しワニス状の組成物(以下、単にワニスという)とすることができる。用いられる溶剤としては、例えばγ−ブチロラクトン類、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルイミダゾリジノン等のアミド系溶剤、テトラメチレンスルフォン等のスルフォン類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤が挙げられる。溶剤は、得られたワニス中の溶剤を除く固形分濃度が通常10〜80重量%、好ましくは20〜70重量%となる範囲で使用する。   An organic solvent can be added to the epoxy resin composition of the present invention to obtain a varnish-like composition (hereinafter simply referred to as varnish). Examples of the solvent used include amide solvents such as γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylimidazolidinone, and tetramethylene sulfone. Sulfones, ether solvents such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether monoacetate, propylene glycol monobutyl ether, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone Aromatic solvents such as solvent, toluene, xylene and the like can be mentioned. The solvent is used in such a range that the solid content concentration excluding the solvent in the obtained varnish is usually 10 to 80% by weight, preferably 20 to 70% by weight.

本発明のエポキシ樹脂組成物は上記のワニスをそれ自体公知のグラビアコート法、スクリーン印刷、メタルマスク法、スピンコート法などの各種塗工方法により平面状支持体上に乾燥後の厚さが所定の厚さ、例えば5〜100μmになるように塗布後乾燥してシート状物を得ることもできる。この場合、どの塗工法を用いるかは基材の種類、形状、大きさ、塗膜の膜厚により適宜選択される。基材としては、例えばポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリケトン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の各種高分子及び/またはその共重合体からなるフィルム、或いは銅箔等の金属箔であり、特に好ましくは、ポリイミド又は金属箔である。また更に加熱することによりシート状の硬化物を得ることが出来る。   The epoxy resin composition of the present invention has a predetermined thickness after drying the above varnish on a planar support by various coating methods such as a gravure coating method, screen printing, metal mask method, and spin coating method known per se. It is also possible to obtain a sheet-like material by drying after coating so as to have a thickness of 5 to 100 μm, for example. In this case, which coating method is used is appropriately selected depending on the type, shape, size, and film thickness of the coating film. Examples of the base material include various polymers such as polyamide, polyamideimide, polyarylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether ether ketone, polyether imide, polyether ketone, polyketone, polyethylene, and polypropylene, and / or their co-polymers. A film made of a coalescence or a metal foil such as copper foil, particularly preferably polyimide or metal foil. Further, a sheet-like cured product can be obtained by further heating.

また本発明のエポキシ樹脂組成物をトルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解させ、ガラス繊維、カ−ボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙などの基材に含浸させ加熱乾燥して得たプリプレグを熱プレス成形して硬化物を得ることもできる。この際の溶剤は、本発明のエポキシ樹脂組成物と該溶剤の混合物中で通常10〜70重量%、好ましくは15〜70重量%を占める量を用いる。   In addition, the epoxy resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc., and is applied to a substrate such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, etc. A prepreg obtained by impregnation and drying by heating can be subjected to hot press molding to obtain a cured product. The solvent used here is usually 10 to 70% by weight, preferably 15 to 70% by weight in the mixture of the epoxy resin composition of the present invention and the solvent.

次に本発明を更に実施例により、更に具体的に説明するが、以下において部は特に断わりのない限り重量部である。   EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In the following, parts are parts by weight unless otherwise specified.

実施例1
温度計、冷却管、分留管、撹拌機を取り付けたフラスコに窒素パージを施しながら、前記式(2)で表されるフェノール系化合物としてビスフェノールZ(下記式)
Example 1
While performing a nitrogen purge on a flask equipped with a thermometer, a condenser tube, a fractionating tube, and a stirrer, bisphenol Z (the following formula) as a phenol compound represented by the above formula (2)

Figure 0005153081
商品名BisP−Z 本州化学株式会社製)134部に対しエピクロルヒドリン370部、メタノール26部を仕込み撹拌下で約70℃に昇温し、完全に溶解させた後、還流条件化でフレーク状水酸化ナトリウム41部を100分かけて分割添加した。その後、更に70℃で1時間、後反応を行った。次いで水を150部加えて水洗を2回行い、加熱減圧下で油層から過剰のエピクロルヒドリンなどを除去した。残留分にメチルイソブチルケトン312部を加えて溶解し、70℃で30%水酸化ナトリウム水溶液10部を加えて1時間反応を行った。反応後、水洗を3回行い生成塩などを除去した。加熱減圧下でメチルイソブチルケトンを留去し、エポキシ樹脂(A1)183部を得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は196g/eq、形状は半固形であった。次いでこのエポキシ樹脂(A1)98部及び前記式()で表される化合物33.5部を加えて撹拌下で溶解させ、ベンジルトリフェニルホスフォニウムクロライド0.08部を添加した。160℃で4時間反応させGPCにおいて前記式()の化合物が消えた後、更に反応を続け合計7時間反応させた後で100℃まで冷却しジメチルスルホキシド132部を加えて得られた樹脂を溶解させた。更に60℃まで冷却し撹拌下でメタノール132部を加えた。次いで30℃にまで冷却し水264部を加えて結晶を析出させた。この結晶を濾過後乾燥させ白色粉末状の本発明のエポキシ樹脂(B1)126部を得た。このエポキシ樹脂(B1)のエポキシ当量は485g/eq(式(1)のn≒2.0(平均値)、エポキシ当量より算出。)であった。得られたエポキシ樹脂(B1)の融点をDSC(示差熱分析計)で測定したところ、106℃であった。またDSCの測定結果ではそのピークトップが二つ現れ、116℃と143℃であった。
Figure 0005153081
(Product name BisP-Z manufactured by Honshu Chemical Co., Ltd.) 134 parts epichlorohydrin 370 parts and methanol 26 parts were charged and heated to about 70 ° C. with stirring. 41 parts of sodium were added in portions over 100 minutes. Thereafter, the post reaction was further carried out at 70 ° C. for 1 hour. Subsequently, 150 parts of water was added and washed with water twice, and excess epichlorohydrin and the like were removed from the oil layer under heating and reduced pressure. 312 parts of methyl isobutyl ketone was added to the residue and dissolved, and 10 parts of 30% aqueous sodium hydroxide solution was added at 70 ° C. and reacted for 1 hour. After the reaction, the product was washed with water three times to remove generated salts and the like. Methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure by heating to obtain 183 parts of epoxy resin (A1). The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin was 196 g / eq, and the shape was semi-solid. Next, 98 parts of this epoxy resin (A1) and 33.5 parts of the compound represented by the formula ( 2 ) were added and dissolved under stirring, and 0.08 part of benzyltriphenylphosphonium chloride was added. After the reaction at 160 ° C. for 4 hours and the compound of the above formula ( 2 ) disappeared in GPC, the reaction was further continued and reacted for a total of 7 hours, and then cooled to 100 ° C. Dissolved. Furthermore, it cooled to 60 degreeC and 132 parts of methanol was added with stirring. Next, the mixture was cooled to 30 ° C. and 264 parts of water was added to precipitate crystals. The crystals were filtered and dried to obtain 126 parts of a white powdery epoxy resin (B1) of the present invention. The epoxy equivalent of this epoxy resin (B1) was 485 g / eq (n≈2.0 (average value) of the formula (1), calculated from the epoxy equivalent). It was 106 degreeC when melting | fusing point of the obtained epoxy resin (B1) was measured by DSC (differential thermal analyzer). In the DSC measurement results, two peak tops appeared, 116 ° C. and 143 ° C.

実施例2、比較例1
実施例2として実施例1で得られた本発明のエポキシ樹脂(B1)、比較例1として高分子量ビスフェノールF型エポキシ樹脂(YDF−2001 東都化成株式会社製 エポキシ当量 471g/eq.)を用いてフェノールノボラック(明和化成工業株式会社製、H−1、水酸基当量105g/eq.)を硬化剤とし、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(TPP)を下記表1に示す配合比(重量部)で配合し、組成物を調製し、トランスファー成型により樹脂成形体を得、140℃で6時間、170℃で2時間かけて硬化させた。
Example 2 and Comparative Example 1
The epoxy resin (B1) of the present invention obtained in Example 1 as Example 2 and the high molecular weight bisphenol F type epoxy resin (YDF-2001, epoxy equivalent 471 g / eq. Manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) as Comparative Example 1 were used. Phenol novolak (Maywa Kasei Kogyo Co., Ltd., H-1, hydroxyl group equivalent 105 g / eq.) Was used as a curing agent, and triphenylphosphine (TPP) was added as a curing accelerator in the mixing ratio (parts by weight) shown in Table 1 below. Then, a composition was prepared, and a resin molded body was obtained by transfer molding, and cured at 140 ° C. for 6 hours and 170 ° C. for 2 hours.

表1
実施例2 比較例1
エポキシ樹脂 B2 48.6
YDF−2001 47.1
硬化剤 H−1 10.5 10.5
硬化促進剤 TPP 0.7 0.7
Table 1
Example 2 Comparative Example 1
Epoxy resin B2 48.6
YDF-2001 47.1
Curing agent H-1 10.5 10.5
Curing accelerator TPP 0.7 0.7

このようして得られた硬化物の物性を測定した結果を表2に示す。なお、物性値の測定は以下の方法で行った。
破壊靭性(K1C):ASTM E−399
吸水率:100℃/100%/48時間後の重量増加率
Table 2 shows the results of measuring the physical properties of the cured product thus obtained. The physical property values were measured by the following methods.
Fracture toughness (K1C): ASTM E-399
Water absorption rate: 100 ° C./100%/weight increase rate after 48 hours

表2
実施例2 比較例1
破壊靭性(K1C)(MPa) 49 32
吸水率(%) 1.9 2.6
Table 2
Example 2 Comparative Example 1
Fracture toughness (K1C) (MPa) 49 32
Water absorption rate (%) 1.9 2.6

以上のように本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物は靭性及び耐湿性に優れるものとなる。   As described above, the cured product of the epoxy resin composition of the present invention is excellent in toughness and moisture resistance.

Claims (4)

下記式(1’)
Figure 0005153081
(式中、複数存在するRは独立して水素原子もしくはフェニル基を表す。複数存在する基
Figure 0005153081
は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。a'はを表す。nは平均値であり0.5<n≦20を表す。)
で表され、エポキシ当量が300〜1000g/eq.であるエポキシ樹脂及び硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物。
Following formula (1 ')
Figure 0005153081
(In the formula, plural Rs independently represent a hydrogen atom or a phenyl group.
Figure 0005153081
May be the same as or different from each other. a ′ represents 3 to 8 . n is an average value and represents 0.5 <n ≦ 20. )
The epoxy equivalent is 300 to 1000 g / eq. Epoxy resin composition containing an der Ru epoxy resin and a curing agent.
請求項1に記載のエポキシ樹脂のエポキシ当量が485〜1000g/eq.である請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。The epoxy equivalent of the epoxy resin of Claim 1 is 485-1000 g / eq. The epoxy resin composition according to claim 1. 請求項1または請求項2のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。 Hardened | cured material formed by hardening | curing the epoxy resin composition as described in any one of Claim 1 or Claim 2 . 下記式(2’ )
Figure 0005153081
(式中、Rは水素原子もしくはフェニル基を表す。a'はを表す。)
で表されるフェノール系化合物をエピハロヒドリンとアルカリ金属水酸化物の存在下で反応させて、低分子量のエポキシ樹脂を得、該エポキシ樹脂とさらに前記式(2’)のフェノール系化合物を反応させ、次いで貧溶媒を添加し結晶を析出させることを特徴とする下記式(1’)
下記式(1’)
Figure 0005153081
(式中、複数存在するRは独立して水素原子もしくはフェニル基を表す。複数存在する基
Figure 0005153081
は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。a'は3〜8を表す。nは平均値であり0.5<n≦20を表す。)
で表されるエポキシ樹脂の製造方法。
The following formula (2 ')
Figure 0005153081
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a phenyl group. A ′ represents 3 to 8. )
Is reacted in the presence of an epihalohydrin and an alkali metal hydroxide to obtain a low molecular weight epoxy resin, and the epoxy resin is further reacted with the phenolic compound of the formula (2 ′), then the following formula you characterized by precipitating the added crystals antisolvent (1 ')
Following formula (1 ')
Figure 0005153081
(In the formula, plural Rs independently represent a hydrogen atom or a phenyl group.
Figure 0005153081
May be the same as or different from each other. a 'represents 3-8. n is an average value and represents 0.5 <n ≦ 20. )
In the manufacturing method of the e epoxy resin represented.
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