JP2002161061A - New bis(1-hydroxy-2-ethylphenyl) compounds - Google Patents

New bis(1-hydroxy-2-ethylphenyl) compounds

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JP2002161061A
JP2002161061A JP2000361694A JP2000361694A JP2002161061A JP 2002161061 A JP2002161061 A JP 2002161061A JP 2000361694 A JP2000361694 A JP 2000361694A JP 2000361694 A JP2000361694 A JP 2000361694A JP 2002161061 A JP2002161061 A JP 2002161061A
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hydroxy
ethylphenyl
bis
reaction
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Kenji Egawa
健志 江川
Mitsuhiro Azuma
充廣 東
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Honshu Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new bis(4-hydroxy-3-ethylphenyl) compound which is useful as a raw material for thermoplastic synthetic resins such as a new polycarbonate resin, a raw material for thermosetting resins such as epoxy resins, a raw material for antioxidants, a raw material for heat-sensitive recording media, a raw material for photosensitive resists, and the like. SOLUTION: This new bis(1-hydroxy-2-ethylphenyl) compound of the general formula 1 [X is 9,9-fluorenyl group or 1,1-cyclohexyl group of the general formula 2 (R is methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, phenyl or hydroxyphenyl) is produced by reacting 2-ethylphenol with an aliphatic ketone compound and a dialkoxybenzene compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なビス(1−
ヒドロキシ−2−エチルフェニル)類に関し、詳しく
は、ポリカーボネート樹脂等の熱可塑性合成樹脂原料、
エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂原料、酸化防止剤原料、
感熱記録体原料、感光性レジスト原料などとして有用
な、1−ヒドロキシー2−エチルフェニル基が4,4
‘−位で結合した新規なビスフェノール類に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel bis (1-
With respect to hydroxy-2-ethylphenyls), specifically, thermoplastic synthetic resin raw materials such as polycarbonate resins,
Thermosetting resin materials such as epoxy resin, antioxidant materials,
The 1-hydroxy-2-ethylphenyl group, which is useful as a heat-sensitive recording material material or a photosensitive resist material, has 4,4
Novel bisphenols linked at the '-position.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ビスフェノール類は、ポリカーボ
ネート樹脂等の熱可塑性合成樹脂原料、エポキシ樹脂等
の熱硬化性樹脂原料、酸化防止剤原料、感熱記録体原
料、感光性レジスト原料などの用途で用いられており、
また各種のビスフェノール類が知られている。近年、こ
れらのビスフェノールに要求される性能は一層高度化し
てきており、それらのうちには、重合体成分等とした場
合は、耐熱性、流動性がよく、しかも化合物としては融
点が低いビスフェノール類が求められてきている。そこ
で、本発明者らは、これらの要求に応えるため、フェニ
ル核に側鎖の付いたビスフェノール類に着目した。
2. Description of the Related Art Conventionally, bisphenols have been used in applications such as thermoplastic synthetic resin materials such as polycarbonate resins, thermosetting resin materials such as epoxy resins, antioxidant materials, heat-sensitive recording material materials, and photosensitive resist materials. Has been
Also, various bisphenols are known. In recent years, the performance required of these bisphenols has been further enhanced, and among them, when used as a polymer component, bisphenols having good heat resistance and fluidity, and having a low melting point as a compound Is being sought. Therefore, the present inventors have focused on bisphenols having a phenyl nucleus with a side chain in order to meet these requirements.

【0003】フェニル核に側鎖の付いたビスフェノール
類としては、既にいくつかの化合物は既知である。例え
ば、Eur.Polym.J.、6(6),841-52、(1970)、Colle.Czech
o.Chem.Comm.Vol34.、2843-8、(1968)には4,4‘−イ
ソプロピリデンービス(2−エチルフェノール)が開示
されている。また、特開昭61−11289号公報には
1,1,3−トリス(3−エチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)ブタンが開示されている。しかしながら、融点が
低く、重合体成分等とした場合、耐熱性、耐水性、相溶
性の向上が期待出来るビス(1−ヒドロキシー2−エチ
ルフェニル)類として、1,1−シクロヘキシル基又は
9−フルオレニル基にヒドロキシ−2−エチルフェニル
基が4,4’−位で結合したビスフェノール類は知られ
ていない。
Some compounds are already known as bisphenols having a side chain attached to the phenyl nucleus. For example, Eur.Polym.J., 6 (6), 841-52, (1970), Colle.Czech
o.Chem.Comm.Vol34. , 2843-8, (1968), disclose 4,4'-isopropylidene-bis (2-ethylphenol). JP-A-61-11289 discloses 1,1,3-tris (3-ethyl-4-hydroxyphenyl) butane. However, when a polymer component or the like having a low melting point is used, bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) s which can be expected to have improved heat resistance, water resistance, and compatibility include 1,1-cyclohexyl groups and 9-fluorenyl. Bisphenols in which a hydroxy-2-ethylphenyl group is bonded at the 4,4′-position are not known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、1
−ヒドロキシ−2−エチルフェニル基が4,4‘−位で
結合した新規なビスフェノール類を提供することを目的
とし、さらに詳細には、低い融点を持つ、新規なビス
(1−ヒドロキシ−2−エチルフェニル)類を提供する
ことを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention provides
In order to provide novel bisphenols having a 4-hydroxy-2-ethylphenyl group bonded at the 4,4′-position, more specifically, a novel bis (1-hydroxy-2-yl) having a low melting point. (Ethyl phenyl) compounds.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明における新規なビ
ス(1−ヒドロキシ−2−エチルフェニル)類は、一般
式(1)で表される。
The novel bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) s of the present invention are represented by the general formula (1).

【0006】[0006]

【化3】 一般式(1) (式中、Xは下記一般式(2)で表される1,1−シク
ロヘキシル基又は9−フルオレニル基を示す。)
Embedded image General formula (1) (wherein, X represents a 1,1-cyclohexyl group or a 9-fluorenyl group represented by the following general formula (2))

【0007】[0007]

【化4】 一般式(2) (Rはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロ
ピル基、フェニル基及びヒドロキシフェニル基を示
す。)
Embedded image General formula (2) (R represents a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a phenyl group, and a hydroxyphenyl group.)

【0008】本発明において、上記一般式(1)におい
て、Xとして、一般式(2)で表される1,1−シクロ
ヘキシル基の場合、Rは具体的にはメチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、フェニル基及び
ヒドロキシフェニル基である。
In the present invention, in the general formula (1), when X is a 1,1-cyclohexyl group represented by the general formula (2), R is specifically a methyl group, an ethyl group, an n- A propyl group, an isopropyl group, a phenyl group and a hydroxyphenyl group.

【0009】従って、本発明の一般式(1)で表される
ビス(1−ヒドロキシー2エチルフェニル)類として
は、具体的には、1,1−ビス(1−ピロキシ−2−エ
チルフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(1−ヒ
ドロキシ−2−エチルフェニル)−3−メチルシクロヘ
キサン、1,1−ビス(1−ヒドロキシ−2−エチルフ
ェニル)−4−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス
(1−ヒドロキシ−2−エチルフェニル)−3−エチル
シクロヘキサン、1,1−ビス(1−ヒドロキシ−2−
エチルフェニル)−4−エチルシクロヘキサン、1,1
−ビス(1−ヒドロキシ−2−エチルフェニル)−3−
イソプロピルシクロヘキサン、1,1−ビス(1−ヒド
ロキシ−2−エチルフェニル)−4−イソプロピルシク
ロヘキサン、1,1−ビス(1−ヒドロキシ−2−エチ
ルフェニル)−4−n−プロピルシクロヘキサン、1,
1−ビス(1−ヒドロキシ−2−エチルフェニル))4
−フェニルシクロヘキサン、1,1−ビス(1−ヒドロ
キシ−2−エチルフェニル)−3−フェニルシクロヘキ
サン、1,1−ビス(1−ヒドロキシ−2−エチルフェ
ニル)−4−(4’−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サン、1,1−ビス(1−ヒドロキシ−2−エチルフェ
ニル))−4−(3’−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、1,1−ビス(1−ヒドロキシ−2−エチルフ
ェニル))−4−(2’−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、1,1−ビス(1−ヒドロキシ−2−エチル
フェニル)−3−(4’−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、1,1−ビス(1−ヒドロキシ−2−エチル
フェニル)−3−(3’−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、9,9−ビス(1−ヒドロキシー2−エチル
フェニル)フルオレン等が挙げられる。
Accordingly, as the bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) represented by the general formula (1) of the present invention, specifically, 1,1-bis (1-pyroxy-2-ethylphenyl) Cyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -3-methylcyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -4-methylcyclohexane, 1,1-bis ( 1-hydroxy-2-ethylphenyl) -3-ethylcyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-
Ethylphenyl) -4-ethylcyclohexane, 1,1
-Bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -3-
Isopropylcyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -4-isopropylcyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -4-n-propylcyclohexane, 1,
1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl)) 4
-Phenylcyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -3-phenylcyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -4- (4′-hydroxyphenyl) Cyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl))-4- (3′-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl))-4- ( 2'-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -3- (4'-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -3- (3'-hydroxyphenyl) cyclohexane, 9,9-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) fluorene, etc. And the like.

【0010】本発明によれば、上記一般式(I)で表さ
れるビス(1−ヒドロキシ−2−エチルフェニル)類
は、2−エチルフェノールと下記一般式(4)で表され
るシクロヘキサノン類又は下記式(5)で表される9−
ケトフルオレンとを酸触媒の存在下に反応させることに
より得ることが出来る。
According to the present invention, the bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) represented by the general formula (I) is composed of 2-ethylphenol and a cyclohexanone represented by the following general formula (4) Or 9- represented by the following formula (5):
It can be obtained by reacting ketofluorene with an acid catalyst.

【0011】[0011]

【化5】 一般式(4) (Rは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、フェニル基及びヒドロキシフェニル基を示
す。)
Embedded image General formula (4) (R represents a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a phenyl group, and a hydroxyphenyl group.)

【0012】[0012]

【化6】 式(5)Embedded image Equation (5)

【0013】上記一般式(4)で表されるシクロヘキサ
ノン類は、具体的にはシクロヘキサノン、3−メチルシ
クロヘキサノン、4−メチルシクロヘキサノン、3−エ
チルシクロヘキサノン、4−エチルシクロヘキサノン、
3−イソプロピルシクロヘキサノン、4−イソプロピル
シクロヘキサノン、4−n−プロピルシクロヘキサノ
ン、3−フェニルシクロヘキサノン、4−フェニルシク
ロヘキサノン、3−(4’ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサノン、4−(4’−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサノン、3−(3’−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサノン、4−(3’−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサノン、3−(2’−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサノン、4−(2’−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサノン等が挙げられる。
The cyclohexanone represented by the general formula (4) is specifically cyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, 3-ethylcyclohexanone, 4-ethylcyclohexanone,
3-isopropylcyclohexanone, 4-isopropylcyclohexanone, 4-n-propylcyclohexanone, 3-phenylcyclohexanone, 4-phenylcyclohexanone, 3- (4'hydroxyphenyl) cyclohexanone, 4- (4'-hydroxyphenyl) cyclohexanone, 3- (3′-hydroxyphenyl) cyclohexanone, 4- (3′-hydroxyphenyl) cyclohexanone, 3- (2′-hydroxyphenyl) cyclohexanone, 4- (2′-hydroxyphenyl) cyclohexanone, and the like.

【0014】本発明の上記一般式(1)の新規化合物の
製造方法において、上記2−エチルフェノールと上記一
般式(4)で表されるシクロヘキサノン類又は上記式
(5)で表される9−ケトフルオレンとの反応では、上
記シクロヘキサノン類又は、9−ケトフルオレンは、2
−エチルフェノールに対して、通常、2.5倍モル量以
上、好ましくは、3〜15倍モル量の範囲で用いられる
が、特に好ましくは3〜10倍モル量の範囲で用いられ
る。
In the process for producing the novel compound of the above general formula (1) according to the present invention, the 2-ethylphenol and the cyclohexanone represented by the above general formula (4) or the 9-cyclohexanone represented by the above general formula (5) are prepared. In the reaction with ketofluorene, the above cyclohexanone or 9-ketofluorene is
It is usually used in a molar amount of 2.5 times or more, preferably 3 to 15 times the molar amount of ethylphenol, particularly preferably 3 to 10 times the molar amount.

【0015】上記反応では、必要に応じて、2−エチル
フェノールと共に、水を用いても良い。水の添加量は、
2−エチルフェノール100重量部に対し、0.5〜
3.0重量部の範囲が好ましい。水は触媒の塩化水素ガ
スの吸収を促進する理由で好ましい。さらに必要に応じ
て、反応溶媒を用いても良い。反応溶媒としては、例え
ばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノール
等の脂肪族アルコール又はこれらの混合物が挙げられ
る。これらのうち、脂肪族アルコールが好ましく用いら
れる。好ましい脂肪族アルコールとしては、用いる反応
原料、得られる生成物の溶解度、反応条件、反応の経済
性等を考慮して、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、n−プロピルアルコール、イソブチルア
ルコール又はn−ブチルアルコール等の低級脂肪族アル
コールが挙げられるが、特にメタノールが好ましく用い
られる。
In the above reaction, if necessary, water may be used together with 2-ethylphenol. The amount of water added
0.5 to 100 parts by weight of 2-ethylphenol
A range of 3.0 parts by weight is preferred. Water is preferred because it promotes the absorption of hydrogen chloride gas by the catalyst. Further, a reaction solvent may be used if necessary. Examples of the reaction solvent include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, aliphatic alcohols such as methanol, and mixtures thereof. Of these, aliphatic alcohols are preferably used. Preferred aliphatic alcohols include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, isobutyl alcohol and n-butyl alcohol in consideration of the reaction raw materials to be used, the solubility of the obtained product, reaction conditions, and the economics of the reaction. And lower aliphatic alcohols, but methanol is particularly preferably used.

【0016】上記反応溶媒は、通常、用いる2−エチル
フェノール類100重量部に対して、20〜50重量部
の範囲、好ましくは、30〜40重量部の範囲で用いら
れる。本発明の製造方法において、用いられる上記酸触
媒は、例えば塩化水素ガス、塩酸、硫酸、無水硫酸、p
−トルエンスルホン酸、メタスルホン酸、トリフルオロ
メタスルホン酸、シュウ酸、蟻酸、リン酸、トリクロロ
酢酸又はトリフルオロ酢酸等を挙げることができる。こ
のような酸触媒は、通常、例えば塩化水素ガスの場合は
反応液中への飽和濃度において、35%塩酸の場合は2
−エチルフェノール100重量部に対して、5〜30重
量部の範囲、好ましくは、10〜20重量部の範囲で用
いられる。また、反応温度は、通常20〜60℃、好ま
しくは30〜50℃の範囲である。反応圧力は、通常、
常圧下で行われるが、用いてもよい有機溶媒の沸点によ
っては、反応温度が前記範囲内になるように、加圧又は
減圧下に行ってもよい。このような条件下に反応を行え
ば、反応は、通常5〜25時間程度で終了する。
The reaction solvent is usually used in an amount of 20 to 50 parts by weight, preferably 30 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the 2-ethylphenol used. In the production method of the present invention, the acid catalyst used is, for example, hydrogen chloride gas, hydrochloric acid, sulfuric acid, sulfuric anhydride, p
-Toluenesulfonic acid, metasulfonic acid, trifluorometasulfonic acid, oxalic acid, formic acid, phosphoric acid, trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid. Such an acid catalyst is usually used, for example, in the case of hydrogen chloride gas at a saturated concentration in the reaction solution, and in the case of 35% hydrochloric acid, 2%.
-Used in an amount of 5 to 30 parts by weight, preferably 10 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of ethylphenol. The reaction temperature is usually in the range of 20 to 60C, preferably 30 to 50C. The reaction pressure is usually
The reaction is carried out under normal pressure, but depending on the boiling point of the organic solvent that may be used, the reaction may be carried out under increased or reduced pressure so that the reaction temperature falls within the above range. If the reaction is carried out under such conditions, the reaction is usually completed in about 5 to 25 hours.

【0017】本発明の製造方法において、2−エチルフ
ェノールとシクロヘキサノン類又は9−ケトフルオレン
とを酸触媒の存在下に反応させるに際し、態様について
は、特に限定されるものではなく、例えば、2−エチル
フェノール、水及び酸触媒を反応容器に仕込み、窒素気
流下に、攪拌しながら、温度を30〜50℃程度に昇温
し、これにシクロヘキサノン類又は9−ケトフルオレン
を滴下し、その後、同温度にて2〜20時間程度反応さ
せる。反応の終点は、液体クロマトグラ フィー又はガ
スクロマトグラフィー分析にて確認することができる。
In the production method of the present invention, when 2-ethylphenol is reacted with cyclohexanone or 9-ketofluorene in the presence of an acid catalyst, the embodiment is not particularly limited. Ethyl phenol, water and an acid catalyst were charged into a reaction vessel, and the temperature was increased to about 30 to 50 ° C. while stirring under a nitrogen stream, and cyclohexanone or 9-ketofluorene was added dropwise thereto. The reaction is performed at a temperature for about 2 to 20 hours. The end point of the reaction can be confirmed by liquid chromatography or gas chromatography analysis.

【0018】反応終了後、得られた反応混合物に、アン
モニア水、水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ溶液を
加えて酸触媒を中和した後、冷却晶析により、目的とす
るビス(1−ヒドロキシ−2−エチルフェニル)類の粗
結晶を得ることができる。2−エチルフェノールに対す
る反応収率は、通常80〜90モル%程度である。この
ようにして得られたビス(1−ヒドロキシ−2−エチル
フェニル)類はそのまま製品としてもよいが、必要に応
じて、精製して高純度品としてもよい。精製方法は、例
えば、上記粗結晶に、晶析溶媒、例えばトルエン等の芳
香族炭化水素類と水との混合物を加え、分液し、残った
油層から、目的物を再度晶析させ、これを濾過分離、乾
燥することによって、高純度のビス(1−ヒドロキシ−
2−エチルフェニル)類を、通常、無色の結晶として得
ることができる。
After completion of the reaction, an alkali solution such as aqueous ammonia or sodium hydroxide solution is added to the obtained reaction mixture to neutralize the acid catalyst, and then the desired bis (1-hydroxy- A crude crystal of (2-ethylphenyl) can be obtained. The reaction yield with respect to 2-ethylphenol is usually about 80 to 90 mol%. The bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) s thus obtained may be used as a product as it is, or may be purified as necessary to obtain a high-purity product. Purification method, for example, to the crude crystals, a crystallization solvent, for example, a mixture of aromatic hydrocarbons such as toluene and water is added, liquid separation is performed, and the target product is recrystallized from the remaining oil layer. Is separated by filtration and dried to obtain high-purity bis (1-hydroxy-
2-ethylphenyl) can usually be obtained as colorless crystals.

【0019】[0019]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.

【実施例1】[ 1,1−ビス(1−ヒドロキシー2−エ
チルフェニル)シクロヘキサンの合成]
Example 1 [Synthesis of 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) cyclohexane]

【0020】温度計、滴下ロート、逆流コンデンサー、
撹拌装置を備えた500ml容量の4つ口フラスコに2
−エチルフェノール152.7g(1.25モル)、ド
デシルメルカプタン2.5g、75%燐酸水0.2g、
蒸留水1.5gを仕込み、これに塩化水素ガスを吹き込
んで飽和させた。その後、この溶液に内温を40℃に保
ちつつ、シクロヘキサノン24.6g(0.25モル)
と2−エチルフェノール30.5g(0.25モル)の
混合溶液を3時間かけて滴下した。滴下終了後、同温度
でさらに5時間反応させた。反応終了後、得られた反応
混合物にトルエン20.0gを加えた後、16%水酸化
ナトリウム水溶液を添加して反応混合液を中和し、その
後、反応混合液から水層を分液除去し、反応終了液(油
層混合物)を得た。この反応終了液を高速液体クロマト
グラフィー(HPLC)により分析したところ、シクロ
ヘキサノンに対する反応収率は86.4モル%であっ
た。次いでこの反応終了液に蒸留水100gを加えて洗
浄し水層を分液除去した、この洗浄を2回行った後、水
層を分液除去した後の油層を減圧蒸留してトルエンと2
−エチルフェノールを溜去した後、シクロヘキサンとト
ルエンの混合液により2回晶析濾過し、乾燥して、目的
物である1,1−ビス(1−ヒドロキシー2−エチルフ
ェニル)シクロヘキサン43.4grを白色結晶として得
た。(純度98.2%、シクロヘキサノンに対する収率
66.2モル%)。
A thermometer, a dropping funnel, a backflow condenser,
2 in a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer
-152.7 g (1.25 mol) of ethylphenol, 2.5 g of dodecylmercaptan, 0.2 g of 75% phosphoric acid,
1.5 g of distilled water was charged, and hydrogen chloride gas was blown into this to saturate it. Thereafter, 24.6 g (0.25 mol) of cyclohexanone was added to the solution while maintaining the internal temperature at 40 ° C.
And a mixed solution of 30.5 g (0.25 mol) of 2-ethylphenol was added dropwise over 3 hours. After the completion of the dropwise addition, the reaction was continued at the same temperature for 5 hours. After completion of the reaction, 20.0 g of toluene was added to the obtained reaction mixture, and then a 16% aqueous solution of sodium hydroxide was added to neutralize the reaction mixture. Thereafter, the aqueous layer was separated and removed from the reaction mixture. Thus, a reaction completed liquid (oil layer mixture) was obtained. When the reaction-terminated liquid was analyzed by high performance liquid chromatography (HPLC), the reaction yield with respect to cyclohexanone was 86.4 mol%. Then, 100 g of distilled water was added to the reaction-terminated liquid to wash it, and the aqueous layer was separated and removed. After this washing was performed twice, the oil layer after removing the aqueous layer was distilled under reduced pressure to remove toluene and toluene.
After distilling off -ethylphenol, the mixture was crystallized and filtered twice with a mixed solution of cyclohexane and toluene, and dried to obtain 43.4 gr of 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) cyclohexane as a target substance. Obtained as white crystals. (Purity 98.2%, yield 66.2 mol% based on cyclohexanone).

【0021】[0021]

【化7】 Embedded image

【0022】 (1)融点 110.5℃(メトラー光透過法) (2)分子量 323.1(LC−MS法) (3)1 HーNMR(400MHZ,DMSO溶媒) ───────────────────────────── 帰属 δ(ppm) シグナル プロトン数 ───────────────────────────── a 1.08 t 6 b、c、d 1.30〜1.50 m 6 e、f 2.10〜2.20 m 4 g 2.48 q 4 h、i、j 6.65〜6.96 m 6 k 8.95 s 2 ───────────────────────────── (1) Melting point 110.5 ° C. (Mettler light transmission method) (2) Molecular weight 323.1 (LC-MS method) (3) 1 H-NMR (400 MHZ, DMSO solvent) ────────────────────── Assignment δ (ppm) signal Proton number ──────────────────── {A 1.08 t6b, c, d 1.30-1.50m6e, f 2.10-2.20m4g 2.48q4h, i, j 6.65-6.96m6k8.95s2} ────────────────────────────

【0023】[0023]

【実施例2】[ 1,1−ビス(1−ヒドロキシー2−エ
チルフェニル)−4−(4’−ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサノンの合成]
Example 2 [Synthesis of 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -4- (4′-hydroxyphenyl) cyclohexanone]

【0024】温度計、滴下ロート、逆流コンデンサー、
撹拌装置を備えた300ml容量の4つ口フラスコに2
−エチルフェノール61.0g(0.5モル)とオクチ
ルメルカプタン0.2g、35%塩酸水9.2gを仕込
み、4−(4’−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサノ
ン9.5g(0.05モル)を温度30℃において2時
間かけて滴下した。適下終了後、同温度でさらに4時間
反応させた。反応終了後、得られた反応混合物に16%
水酸化ナトリウム水溶液を添加して反応混合液を中和
し、その後、反応混合液から水層を分液除去し、反応終
了液(油層混合物)を得た。この油層から減圧蒸留にて
2−エチルフェノールを回収した後、トルエン84.5
gを加え、晶析、濾過して粗結晶を得た。次いでこの粗
結晶にトルエンと水の混合液を加えて洗浄し、水層を分
液除去した。この洗浄を 2回行った後、晶析、濾過、乾
燥して、目的物である1,1−ビス(1−ヒドロキシー
2−エチルフェニル)−4−(4’−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサノン20.6grを白色結晶として得
た。(純度98.6%、4−(4’−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサノンに対する収率80.0モル%)
Thermometer, dropping funnel, backflow condenser,
2 in a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer
-61.0 g (0.5 mol) of ethylphenol, 0.2 g of octyl mercaptan, and 9.2 g of 35% aqueous hydrochloric acid are charged, and 9.5 g (0.05 mol) of 4- (4'-hydroxyphenyl) cyclohexanone is heated at a temperature of It was added dropwise at 30 ° C. over 2 hours. After completion of the lowering, the reaction was continued at the same temperature for 4 hours. After completion of the reaction, 16% was added to the obtained reaction mixture.
An aqueous sodium hydroxide solution was added to neutralize the reaction mixture, and thereafter, the aqueous layer was separated and removed from the reaction mixture to obtain a reaction-completed liquid (oil layer mixture). After recovering 2-ethylphenol from the oil layer by distillation under reduced pressure, toluene 84.5 was used.
g was added, and the mixture was crystallized and filtered to obtain crude crystals. Next, a mixture of toluene and water was added to the crude crystals for washing, and the aqueous layer was separated and removed. After this washing was performed twice, crystallization, filtration and drying were performed to obtain 20.6 gr of 1,1-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) -4- (4′-hydroxyphenyl) cyclohexanone, which was the target substance. Was obtained as white crystals. (Purity 98.6%, yield 80.0 mol% based on 4- (4'-hydroxyphenyl) cyclohexanone)

【0025】[0025]

【化8】 Embedded image

【0026】 (1)融点 158.5℃(メトラー光透過法) (2)分子量 415.7(LC−MS法) (3)1 H−NMR(400MHZ,DMSO溶媒) ───────────────────────────────── 帰属 δ(ppm) シグナル プロトン数 ───────────────────────────────── a1 、a2 1.06 、1.10 t 6 b,c,d,e,f,g 1.42 〜2.71 m 13 h,i,j,k,i,m,n 6.59 〜7.08 m 10 o1 、o2 、o3 8.92、9.01、9.07 s 3 ───────────────────────────────── (1) Melting point: 158.5 ° C. (Mettler light transmission method) (2) Molecular weight: 415.7 (LC-MS method) (3) 1 H-NMR (400 MHZ, DMSO solvent) ────────────────────────── Assignment δ (ppm) signal Proton number ──────────────── ───────────────── a1, a2 1.06, 1.10 t 6 b, c, d, e, f, g 1.42 to 2.71 m 13 h, i, j, k, i , m, n 6.59 to 7.08 m10 o1, o2, o3 8.92, 9.01, 9.07 s3───────────────────────────── ────

【0027】[0027]

【実施例3】[9,9−ビス(1−ヒドロキシ−2−エ
チルフェニル)フルオレンの合成]
Example 3 [Synthesis of 9,9-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) fluorene]

【0028】温度計、滴下ロート、逆流コンデンサー、
撹拌装置を備えた300ml容量の4つ口フラスコに2
−エチルフェノール73.2g(0.6モル)とドデシ
ルメルカプタン2.7g、トルエン31.5g、メタノ
ール1.4gを仕込み、これに塩化水素ガスを吹き込ん
で飽和させた。この溶液にフルオレノン27.0g
(0.15モル)と2−エチルフェノール18.8g
(0.15モル)、メタノール8.2gの混合溶液を5
時間かけて滴下した。適下終了後、同温度でさらに3時
間反応させた。反応終了後、得られた反応混合物に16
%水酸化ナトリウム水溶液を添加して反応混合液を中和
し、その後、反応混合液から水層を分液除去し、反応終
了液(油層混合物)を得た。この反応終了液を高速液体
クロマトグラフィー(HPLC)により分析したとこ
ろ、フルオレノンに対する反応収率は89.6モル%で
あった。次いでこの反応終了液から減圧蒸留にてトルエ
ンとメタノールを溜去した後、濾過して粗結晶を得た。
次いで粗結晶にトルエンと水の混合液を加えて洗浄し、
水層を分液除去した。この洗浄を2回行った後、晶析、
濾過、乾燥して、目的物である9,9−ビス(1−ヒド
ロキシ−2−エチルフェニル)フルオレン38.7grを
白色結晶として得た。(純度99.6%、フルオレノン
に対する収率63.3モル%)
A thermometer, a dropping funnel, a backflow condenser,
2 in a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer
-73.2 g (0.6 mol) of ethylphenol, 2.7 g of dodecyl mercaptan, 31.5 g of toluene, and 1.4 g of methanol were charged, and hydrogen chloride gas was blown into the mixture to saturate the mixture. 27.0 g of fluorenone was added to this solution.
(0.15 mol) and 18.8 g of 2-ethylphenol
(0.15 mol) and a mixed solution of 8.2 g of methanol in 5
It was dropped over time. After completion of the lowering, the reaction was continued at the same temperature for 3 hours. After the completion of the reaction, 16
% Aqueous sodium hydroxide was added to neutralize the reaction mixture, and then the aqueous layer was separated and removed from the reaction mixture to obtain a reaction-completed liquid (oil layer mixture). When the reaction-terminated liquid was analyzed by high performance liquid chromatography (HPLC), the reaction yield with respect to fluorenone was 89.6 mol%. Next, toluene and methanol were distilled off from the reaction-terminated liquid by distillation under reduced pressure, followed by filtration to obtain crude crystals.
Next, a mixture of toluene and water was added to the crude crystals to wash them,
The aqueous layer was separated and removed. After performing this washing twice, crystallization,
After filtration and drying, 38.7 gr of 9,9-bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) fluorene was obtained as white crystals. (Purity: 99.6%, yield based on fluorenone: 63.3 mol%)

【0029】[0029]

【化9】 Embedded image

【0030】 (1)融点 189.5℃(メトラー光透過法) (2)分子量 405.7(LC−MS法) (3)1 H−NMR(400MHZ,DMSO溶媒) ──────────────────────────────── 帰属 δ(ppm) シグナル プロトン数 ──────────────────────────────── a 1.00 t 6 b 2.42 q 4 c、d、e 6.62〜6.89 m 6 f,g,h,i,j,k,l,m 7.27〜7.87 m 8 n 9.16 s 2 ──────────────────────────────── (1) Melting point: 189.5 ° C. (Mettler light transmission method) (2) Molecular weight: 405.7 (LC-MS method) (3) 1 H-NMR (400 MHZ, DMSO solvent) ───────────────────────── Assignment δ (ppm) signal Proton number ───────────────── ───────────────a1.00t6b2.42q4c, d, e6.62-6.89m6f, g, h, i, j, k, l, m 7.27- 7.87 m8n 9.16 s2────────────────────────────────

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明によるビス(4−ヒドロキシ−3
−エチルフェニル)類は、特定の1,1−シクロヘキシ
ル基又は9−フルオレニル基にて連結した2−エチルフ
ェノー核を有する構造を持つため、融点の低いビスフェ
ノール類でありこれを原料とすることにより、重合体成
分とした場合は、耐熱性、耐水性、相溶性の向上が期待
され、またその含有するヒドロキシル基やアルキル基な
どの選択的な反応性、溶剤溶解性を利用して、フォトレ
ジスト材料の樹脂成分原料、感光剤原料、溶解抑止剤及
び添加剤原料、あるいは非直線性構造や架橋構造を有す
る重合体モノマーへの利用が期待される。さらに、本発
明によれば、このようなビス(4−ヒドロキシ−3−エ
チルフェニル)類は、2−エチルフェノールと前記シク
ロヘキサノン類又は9−ケトフルオレンとを酸触媒の存
在下に反応させることにより、高収率にて得ることがで
きる。
The bis (4-hydroxy-3) according to the present invention
-Ethylphenyl) is a bisphenol having a low melting point because it has a structure having a 2-ethylpheno nucleus linked by a specific 1,1-cyclohexyl group or 9-fluorenyl group. When a polymer component is used, the heat resistance, water resistance, and compatibility are expected to be improved. It is expected to be used as a raw material of a resin component, a raw material of a photosensitizer, a raw material of a dissolution inhibitor and an additive, or a polymer monomer having a non-linear structure or a crosslinked structure. Further, according to the present invention, such bis (4-hydroxy-3-ethylphenyl) s can be obtained by reacting 2-ethylphenol with the cyclohexanone or 9-ketofluorene in the presence of an acid catalyst. Can be obtained in high yield.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4H006 AA01 AB46 FC22 FC24 FC36 FC52 FC56 FE13 FG29 FG30 4J029 AA09 AB07 BC07B BD09B BD09C HA01 4J036 AD04 AD11 AD12  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4H006 AA01 AB46 FC22 FC24 FC36 FC52 FC56 FE13 FG29 FG30 4J029 AA09 AB07 BC07B BD09B BD09C HA01 4J036 AD04 AD11 AD12

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記の一般式(1)で表される新規なビス
(1−ヒドロキシ−2−エチルフェニル)類 【化1】 一般式(1) (式中、Xは一般式(2)で表される1,1−シクロヘ
キシル基又は9, 9−フルオレニル基を示す。 【化2】 一般式(2) (Rは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、フェニル基及びヒドロキシフェニル基を示
す。)
1. A novel bis (1-hydroxy-2-ethylphenyl) represented by the following general formula (1): ## STR1 ## Formula (1) (wherein, X represents a 1,1-cyclohexyl group or a 9,9-fluorenyl group represented by Formula (2). General formula (2) (R represents a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a phenyl group, and a hydroxyphenyl group.)
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007254579A (en) * 2006-03-23 2007-10-04 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin, epoxy resin composition and cured material thereof
JP2013227280A (en) * 2012-03-30 2013-11-07 Honshu Chem Ind Co Ltd Novel trisphenol compound
JP5559036B2 (en) * 2008-04-04 2014-07-23 株式会社ダイセル Polyol compound for photoresist
JP2014208635A (en) * 2013-03-28 2014-11-06 本州化学工業株式会社 Trisphenol compound

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