JP2002105168A - Epoxyacrylate resin and resin composition containing the resin - Google Patents

Epoxyacrylate resin and resin composition containing the resin

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JP2002105168A
JP2002105168A JP2000295717A JP2000295717A JP2002105168A JP 2002105168 A JP2002105168 A JP 2002105168A JP 2000295717 A JP2000295717 A JP 2000295717A JP 2000295717 A JP2000295717 A JP 2000295717A JP 2002105168 A JP2002105168 A JP 2002105168A
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JP
Japan
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composition
resin
epoxy acrylate
weight
acrylate resin
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Application number
JP2000295717A
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Japanese (ja)
Inventor
Satoru Fujii
悟 藤井
Yoshihisa Yanagihara
欣尚 柳原
Kei Kitano
慶 北野
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Nagase Kasei Kogyo KK
Original Assignee
Nagase Kasei Kogyo KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocurable or thermosetting resin whose hardened product can satisfy performances such as hardness and heat resistance at high levels, and a method for manufacturing the same. SOLUTION: An epoxyacrylate resin (I) expressed by general formula (I) wherein, X is a unit shown by formula (Ia) [in the formula (Ia), R is H or a 1-5C normal or branched alkyl]; and n is an integer from 0 to 20}.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光および熱硬化性
を有する新規なエポキシアクリレート樹脂、該樹脂の製
造方法、そして該樹脂を含む光硬化性樹脂組成物および
熱硬化性組成物に関する。さらに本発明は、該樹脂組成
物を用いて得られる、耐熱性に優れ、高い屈折率を有す
る成形体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel epoxy acrylate resin having light and thermosetting properties, a method for producing the resin, and a photocurable resin composition and a thermosetting composition containing the resin. Furthermore, the present invention relates to a molded article having excellent heat resistance and a high refractive index, which is obtained by using the resin composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から機能性高分子材料として、エポ
キシアクリレート樹脂が汎用されてきた。例えばこの樹
脂は、感光性材料、光学材料、歯科材料、各種高分子架
橋剤などの分野で使用されてきた。しかし、一般にアク
リル系樹脂は耐熱性および耐候性が不十分であり、例え
ば、高いレベルの耐熱性が要求される分野においては不
充分であった。
2. Description of the Related Art Epoxy acrylate resins have been widely used as functional polymer materials. For example, this resin has been used in the fields of photosensitive materials, optical materials, dental materials, various polymer crosslinking agents, and the like. However, acrylic resins generally have insufficient heat resistance and weather resistance, and are insufficient, for example, in fields requiring a high level of heat resistance.

【0003】これに対して、種々の樹脂が提案されてい
る。例えば、特開平8−278629号公報にはフルオ
レン骨格を有するエポキシ樹脂が開示されている。特開
平3−205417号公報、特開平4−292611号
公報、特開平5−32807号公報、および特開平7−
48424号公報には、次式(IV)で示されるフルオレ
ン骨格を有するエポキシアクリレート樹脂が開示されて
いる:
On the other hand, various resins have been proposed. For example, JP-A-8-278629 discloses an epoxy resin having a fluorene skeleton. JP-A-3-205417, JP-A-4-292611, JP-A-5-32807, and JP-A-7-205.
No. 48424 discloses an epoxy acrylate resin having a fluorene skeleton represented by the following formula (IV):

【0004】[0004]

【化6】 Embedded image

【0005】(ここでRはHまたは低級アルキル基、
はHまたはCHであり、そしてnは、0〜20の
整数である)。
(Where R 1 is H or a lower alkyl group,
R 2 is H or CH 3, and n is an integer of 0 to 20).

【0006】このような樹脂は、その硬化物が比較的耐
熱性に優れているという特徴がある。これらの樹脂を用
いることで上記の問題をある程度解決することが可能と
なったものの、現在における高いレベルでの要求性能を
十分満足させ得るとは言えない。
[0006] Such a resin is characterized in that its cured product is relatively excellent in heat resistance. Although the above-mentioned problems can be solved to some extent by using these resins, it cannot be said that the required performance at the current high level can be sufficiently satisfied.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
従来の課題を解決するものであり、その目的とするとこ
ろは、その硬化物が高硬度であり、高いレベルでの耐熱
性を有する、光硬化性あるいは熱硬化性の樹脂、該樹脂
の製造方法、および該樹脂を含む組成物を提供すること
にある。本発明の他の目的は、このような樹脂組成物を
硬化させて得られる成形体を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems. It is an object of the present invention to provide a cured product having a high hardness and a high level of heat resistance. Another object of the present invention is to provide a photocurable or thermosetting resin, a method for producing the resin, and a composition containing the resin. Another object of the present invention is to provide a molded article obtained by curing such a resin composition.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のエポキシアクリ
レート樹脂(I)は、下記一般式で表される:
The epoxy acrylate resin (I) of the present invention is represented by the following general formula:

【0009】[0009]

【化7】 Embedded image

【0010】ここで、Xは下記式(Ia)で示される単
位であり、
Here, X is a unit represented by the following formula (Ia):

【0011】[0011]

【化8】 Embedded image

【0012】Rは水素原子またはC1〜5の直鎖または
分岐アルキル基、そしてnは0から20までの整数であ
る。
R is a hydrogen atom or a C1-5 linear or branched alkyl group, and n is an integer from 0 to 20.

【0013】本発明のエポキシアクリレート樹脂(I)
の製造方法は、次の工程を包含する:次の一般式で示さ
れるビスフェニルフェノールフルオレン化合物(II):
The epoxy acrylate resin (I) of the present invention
Comprises the following steps: bisphenylphenol fluorene compound (II) represented by the following general formula:

【0014】[0014]

【化9】 Embedded image

【0015】(ここでRは水素原子またはC1〜5の直
鎖または分岐アルキル基である)にエピクロルヒドリン
を作用させることにより、ビスフェニルフェノールフル
オレン型エポキシ化合物(III):
(Where R is a hydrogen atom or a C1-5 linear or branched alkyl group) with epichlorohydrin to give a bisphenylphenol fluorene type epoxy compound (III):

【0016】[0016]

【化10】 Embedded image

【0017】(ここで、Xは下記式(IIIa)で示され
る単位であり、
(Where X is a unit represented by the following formula (IIIa):

【0018】[0018]

【化11】 Embedded image

【0019】Rは水素原子またはC1〜5の直鎖または
分岐アルキル基、そしてnは0から20までの整数であ
る)を得る工程;および該ビスフェニルフェノールフル
オレン型エポキシ化合物(III)にアクリル酸を反応さ
せる工程。
R is a hydrogen atom or a C1-5 linear or branched alkyl group, and n is an integer from 0 to 20); and the bisphenylphenol fluorene type epoxy compound (III) has an acrylic acid Reacting.

【0020】本発明の光硬化性樹脂組成物は、上記エポ
キシアクリレート樹脂(I)を含有する。
The photocurable resin composition of the present invention contains the epoxy acrylate resin (I).

【0021】好適な実施態様においては、上記光硬化性
樹脂組成物はさらに上記エポキシアクリレート樹脂
(I)以外の光硬化可能なアクリレート化合物を含有
し、組成物中の光硬化可能な成分の合計量を基準とし
て、該エポキシアクリレート樹脂(I)が30〜90重
量%の割合で、そして該光硬化可能なアクリレート化合
物が70〜10重量%の割合で含有される。
In a preferred embodiment, the photocurable resin composition further contains a photocurable acrylate compound other than the epoxy acrylate resin (I), and the total amount of the photocurable components in the composition. Based on the epoxy acrylate resin (I) in a proportion of 30 to 90% by weight and the photocurable acrylate compound in a proportion of 70 to 10% by weight.

【0022】好適な実施態様においては、上記光硬化性
樹脂組成物はさらに光重合開始剤を含有し、該光重合開
始剤が、組成物中の光硬化可能な成分の合計量100重
量部に対して1〜10重量部の割合で含有される。
In a preferred embodiment, the photocurable resin composition further contains a photopolymerization initiator, and the photopolymerization initiator is used in an amount of 100 parts by weight of the total amount of the photocurable components in the composition. It is contained at a ratio of 1 to 10 parts by weight with respect to the weight.

【0023】本発明は、上記光硬化性樹脂組成物に光を
照射することにより硬化させて得られる成形体を包含す
る。
The present invention includes a molded product obtained by curing the above-mentioned photocurable resin composition by irradiating it with light.

【0024】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、上記エポ
キシアクリレート樹脂(I)を含有する。
The thermosetting resin composition of the present invention contains the above epoxy acrylate resin (I).

【0025】好適な実施態様においては、上記熱硬化性
樹脂組成物はさらに上記エポキシアクリレート樹脂
(I)以外の熱硬化可能なアクリレート化合物を含有
し、組成物中の熱硬化可能な成分の合計量を基準とし
て、該エポキシアクリレート樹脂(I)が30〜90重
量%の割合で、そして該熱硬化可能なアクリレート化合
物が70〜10重量%の割合で含有される。
[0025] In a preferred embodiment, the thermosetting resin composition further contains a thermosetting acrylate compound other than the epoxy acrylate resin (I), and the total amount of the thermosetting components in the composition. Based on the epoxy acrylate resin (I) in a proportion of 30 to 90% by weight and the thermosetting acrylate compound in a proportion of 70 to 10% by weight.

【0026】本発明は、上記熱硬化性樹脂組成物を熱硬
化させて得られる成形体を包含する。
The present invention includes a molded article obtained by thermosetting the above thermosetting resin composition.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】本発明のエポキシアクリレート樹
脂(I)は、次の一般式で示される:
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The epoxy acrylate resin (I) of the present invention is represented by the following general formula:

【0028】[0028]

【化12】 Embedded image

【0029】ここで、Xは一般式(Ia)で示される単
位であり、
Here, X is a unit represented by the general formula (Ia),

【0030】[0030]

【化13】 Embedded image

【0031】Rは水素原子またはC1〜5の直鎖または
分岐アルキル基、そしてnは0から20までの整数を示
す。
R represents a hydrogen atom or a C1-5 linear or branched alkyl group, and n represents an integer of 0 to 20.

【0032】上記エポキシアクリレート樹脂(ビスフェ
ニルフェノールフルオレン型エポキシアクリレート樹
脂)(I)は、例えば、次のようにして製造される。
The epoxy acrylate resin (bisphenylphenol fluorene type epoxy acrylate resin) (I) is produced, for example, as follows.

【0033】まず、置換もしくは無置換のビスフェニル
フェノールフルオレン化合物(II):
First, a substituted or unsubstituted bisphenylphenol fluorene compound (II):

【0034】[0034]

【化14】 Embedded image

【0035】(ここでRは水素原子またはC1〜5の直
鎖または分岐アルキル基である)にエピクロルヒドリン
を作用させると、ビスフェニルフェノールフルオレン型
エポキシ化合物(III)が得られる:
When epichlorohydrin is acted on (where R is a hydrogen atom or a C1-5 linear or branched alkyl group), a bisphenylphenol fluorene type epoxy compound (III) is obtained:

【0036】[0036]

【化15】 Embedded image

【0037】(ここで、Xは下記式(IIIa)で示され
る単位であり、
(Where X is a unit represented by the following formula (IIIa):

【0038】[0038]

【化16】 Embedded image

【0039】Rは水素原子またはC1〜5の直鎖または
分岐アルキル基、そしてnは0から20までの整数であ
る)。これにアクリル酸を反応させることにより、ビス
フェニルフェノールフルオレン型のエポキシアクリレー
ト樹脂(I)が合成される。
R is a hydrogen atom or a C1-5 linear or branched alkyl group, and n is an integer from 0 to 20). By reacting this with acrylic acid, a bisphenylphenol fluorene type epoxy acrylate resin (I) is synthesized.

【0040】上記ビスフェニルフェノールフルオレン化
合物(II)とエピクロルヒドリンとの反応は、通常、5
0〜120℃の温度範囲において3〜10時間行なわれ
る。同じくアクリル酸との反応は、必要に応じて適切な
溶媒を用いて、50〜120℃の温度範囲において5〜
30時間行なわれる。上記用いられ得る溶媒としては、
メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチル−1
−アセテート等のアルキレンモノアルキルエーテルアセ
テート類、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン等
のケトン類などがある。これらのうち、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブ
チル−1−アセテートが好適である。
The reaction of the above bisphenylphenol fluorene compound (II) with epichlorohydrin is usually carried out in 5
The reaction is performed in a temperature range of 0 to 120 ° C. for 3 to 10 hours. Similarly, the reaction with acrylic acid is carried out in a temperature range of 50 to 120 ° C. by using an appropriate solvent if necessary.
Performed for 30 hours. Examples of the solvent that can be used include:
Methyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl-1
-Alkylene monoalkyl ether acetates such as acetate, and ketones such as methyl ethyl ketone and methyl amyl ketone. Of these, propylene glycol monomethyl ether acetate and 3-methoxybutyl-1-acetate are preferred.

【0041】エポキシアクリレート樹脂(I)の樹脂の
分子量、酸価などは、上記反応の条件を変化させて反応
を制御し、式(I)におけるnの数を変えることによ
り、実質的に制御することが可能である。このnの値は
反応条件により、0〜20とされる。
The molecular weight and the acid value of the epoxy acrylate resin (I) are substantially controlled by changing the above reaction conditions to control the reaction and changing the number of n in the formula (I). It is possible. The value of n is set to 0 to 20 depending on the reaction conditions.

【0042】本発明の光硬化性樹脂組成物および熱硬化
性樹脂組成物は、いずれもエポキシアクリレート樹脂
(I)を含有する。このエポキシアクリレート樹脂
(I)は、1種のみを単独で使用できるほか、2種以上
の混合物としても使用することができる。
The photocurable resin composition and the thermosetting resin composition of the present invention both contain an epoxy acrylate resin (I). This epoxy acrylate resin (I) can be used alone or as a mixture of two or more.

【0043】本発明の組成物が光硬化性樹脂組成物であ
る場合には、該組成物には、上記エポキシアクリレート
樹脂(I)に加えて光重合開始剤が、熱硬化性樹脂組成
物である場合にはラジカル開始剤が含有され得る。さら
にこれらの組成物には、上記エポキシアクリレート樹脂
(I)以外の光または熱硬化性のアクリレート化合物、
各種添加剤などが含有され得る。
When the composition of the present invention is a photocurable resin composition, the composition comprises a thermosetting resin composition in addition to the epoxy acrylate resin (I). In some cases, a radical initiator may be included. Further, these compositions include a light or thermosetting acrylate compound other than the epoxy acrylate resin (I),
Various additives and the like may be contained.

【0044】本発明の光硬化性樹脂組成物中に含有され
得る光重合開始剤は、上記エポキシアクリレート樹脂
(I)および必要に応じて含有される上記光硬化可能な
アクリレート化合物の光重合開始剤として働く化合物お
よび/または増感効果を有する化合物である。このよう
な光重合開始剤としては、例えば次の化合物が挙げられ
る:アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノ
ン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノ
プロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロ
ロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノンな
どのアセトフェノン類;ベンゾフェノン、2−クロロベ
ンゾフェノン、p,p'−ビスジメチルアミノベンゾフェ
ノンなどのベンゾフェノン類;ベンジル、ベンゾイン、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾイ
ンエーテル類;ベンジルジメチルケタール、チオキサン
トン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチ
オキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプ
ロピルチオキサントンなどのイオウ化合物;2−エチル
アントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2
−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラ
キノンなどのアントラキノン類;アゾビスイソブチロニ
トリル、ベンゾイルパーオキサイド、クメンパーオキシ
ドなどの有機過酸化物;および2−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−
メルカプトベンゾチアゾールなどのチオール化合物。
The photopolymerization initiator that can be contained in the photocurable resin composition of the present invention is the photopolymerization initiator of the epoxy acrylate resin (I) and, if necessary, the photocurable acrylate compound. And / or a compound having a sensitizing effect. Such photoinitiators include, for example, the following compounds: acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert. Acetophenones such as -butylacetophenone; benzophenones such as benzophenone, 2-chlorobenzophenone and p, p'-bisdimethylaminobenzophenone; benzyl, benzoin,
Benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether; sulfur compounds such as benzyl dimethyl ketal, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-methylthioxanthone and 2-isopropylthioxanthone; -Ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2
-Anthraquinones such as benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone; organic peroxides such as azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, cumene peroxide; and 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, −
Thiol compounds such as mercaptobenzothiazole.

【0045】これらの化合物は、その1種を単独で使用
してもよく、また、2種以上を組み合わせて使用するこ
ともできる。また、それ自体では光重合開始剤として作
用しないが、上記の化合物と組み合わせて用いることに
より、光重合開始剤の能力を増大させ得るような化合物
を添加することもできる。このような化合物としては、
例えば、ベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果
のあるトリエタノールアミンなどの第三級アミンを挙げ
ることができる。
One of these compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination. In addition, a compound which does not act as a photopolymerization initiator by itself, but can be used in combination with the above compound, can increase the ability of the photopolymerization initiator. Such compounds include:
For example, a tertiary amine such as triethanolamine, which is effective when used in combination with benzophenone, can be mentioned.

【0046】上記熱硬化性樹脂組成物に含有され得るラ
ジカル開始剤としては、ケトンパーオキサイド系、ジア
シルパーオキサイド系、ハイドロパーオキサイド系、ジ
アルキルパーオキサイド系、パーオキシケタール系、ア
ルキルパーエステル系、パーカーボネート系、アゾビス
系などのラジカル開始剤が用いられる。特に、ジアシル
パーオキサイド系あるいはアゾビス系のラジカル開始剤
が好適であり、例えば過酸化ベンゾイル、α,α’−ア
ゾビス(イソブチロニトリル)などが汎用される。
Examples of the radical initiator that can be contained in the thermosetting resin composition include ketone peroxides, diacyl peroxides, hydroperoxides, dialkyl peroxides, peroxyketals, alkyl peresters, and the like. A radical initiator such as a percarbonate-based or azobis-based initiator is used. In particular, a diacyl peroxide-based or azobis-based radical initiator is suitable, and for example, benzoyl peroxide, α, α'-azobis (isobutyronitrile) and the like are widely used.

【0047】上記エポキシアクリレート樹脂(I)以外
の光または熱硬化可能なアクリレート化合物は、組成物
が必要とされる物性に応じて、粘度調整剤あるいは光架
橋剤として所定の範囲内で配合される。このアクリレー
ト化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート
などの水酸基を有する1価のアクリレート;およびエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスルトールテトラ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート、グリセロール(メタ)アクリレートなどの多価
(メタ)アクリレートを挙げることができる。
The photo- or heat-curable acrylate compound other than the epoxy acrylate resin (I) is blended within a predetermined range as a viscosity modifier or a photo-crosslinking agent depending on the physical properties required of the composition. . Examples of the acrylate compound include monovalent acrylates having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate; and ethylene glycol di (meth) Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri ( (Meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate , Can be exemplified dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, a polyvalent (meth) acrylates such as glycerol (meth) acrylate.

【0048】これらの化合物は、その1種のみを単独で
使用できるほか、2種以上を併用して使用することもで
きる。
One of these compounds can be used alone, or two or more of them can be used in combination.

【0049】本発明の組成物に含有され得る添加剤とし
ては、該組成物の使用目的に応じて、熱重合禁止剤、密
着助剤、消泡剤、界面活性剤、可塑剤などが用いられ
る。
As the additives that can be contained in the composition of the present invention, a thermal polymerization inhibitor, an adhesion aid, an antifoaming agent, a surfactant, a plasticizer, and the like are used according to the intended use of the composition. .

【0050】これらのうち熱重合禁止剤としては、ハイ
ドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロ
ガロール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジ
ンなどが挙げられる。
Among these, examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, tert-butylcatechol, and phenothiazine.

【0051】密着肋剤は、得られる組成物が基材に塗布
される場合に、基材との接着性を向上させる目的で添加
される。該密着助剤としては、好ましくは、カルボキシ
ル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ
基などの反応性置換基を有するシラン化合物(官能性シ
ランカップリング剤)が用いられる。このような官能性
シランカップリング剤の具体例としては、トリメトキシ
シリル安息香酸、γ-メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリ
メトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、β-(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
メトキシシランなどが挙げられる。
When the composition obtained is applied to a substrate, the cohesive rib is added for the purpose of improving the adhesion to the substrate. As the adhesion aid, a silane compound (functional silane coupling agent) having a reactive substituent such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, or an epoxy group is preferably used. Specific examples of such a functional silane coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like.

【0052】消泡剤としては、例えば、シリコーン系、
フッ素系、アクリル系などの化合物が挙げられる。
Examples of the antifoaming agent include silicone-based defoaming agents,
Fluorine-based and acrylic-based compounds are exemplified.

【0053】界面活性剤は、得られる組成物を塗布しや
すくすること、得られる塗膜の平担度を向上させること
などの目的で添加される。界面活性剤としては、例え
ば、シリコーン系、フッ素系、およびアクリル系の化合
物が挙げられる。具体的には例えば、BM−1000
[BMへミー社製];メガファックF142D、同F17
2、同F173および同F183[大日本インキ化学工
業(株)製];フロラードFC−135、同FC−17
0C、フロラードFC−430および同FC−431
[住友スリーエム(株)製];サーフロンS−112、
同S−113、同S−131、同S−141および同S
−145[旭硝子(株)製];SH−28PA、SH−
190、SH−193、SZ−6032、SF−842
8、DC−57およびDC−190[東レシリコーン
(株)製]などが挙げられる。
The surfactant is added for the purpose of facilitating the application of the obtained composition and improving the flatness of the obtained coating film. Examples of the surfactant include silicone-based, fluorine-based, and acrylic-based compounds. Specifically, for example, BM-1000
[BM Heme Company]; MegaFac F142D, F17
2, F173 and F183 [manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.]; Florad FC-135, FC-17
0C, Florado FC-430 and FC-431
[Sumitomo 3M Ltd.]; Surflon S-112,
S-113, S-131, S-141 and S
-145 [manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.]; SH-28PA, SH-
190, SH-193, SZ-6032, SF-842
8, DC-57 and DC-190 [Toray Silicone
Co., Ltd.].

【0054】可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジ
オクチルフタレート、トリクレジルなどが挙げられる。
Examples of the plasticizer include dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl and the like.

【0055】本発明の光硬化性組成物を光硬化させるた
めに用いられる光(放射線を含む)としては、可視光
線、紫外線、電子線、X線、α線、β線、γ線などが使
用される。経済性および効率的であるなどの点から紫外
線が好適である。紫外線照射には、低圧水銀灯、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、アーク
灯、キセノンランプなどが利用される。
As light (including radiation) used for photocuring the photocurable composition of the present invention, visible light, ultraviolet light, electron beam, X-ray, α-ray, β-ray, γ-ray and the like are used. Is done. Ultraviolet rays are preferred in terms of economy and efficiency. For UV irradiation, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an arc lamp, a xenon lamp, or the like is used.

【0056】このほかに必要に応じて、本発明の組成物
には各種溶剤が含有されていてもよい。このような溶剤
としては、例えば、次の溶剤が用いられる:メタノー
ル、エタノールなどのアルコール類;テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテルなどのグリコールエーテル類;メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブ
チルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチ
ルエーテルアセテート、3−メトキシブチル−1−アセ
テートなどのアルキレングリコールモノアルキルエーテ
ルアセテート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒド
ロキシ−4−メチル−2−ペンタノンなどのケトン類;
ならびに2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒド
ロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチ
ル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチ
ルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、
3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピ
オン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸
エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどのエ
ステル類。これらの溶剤は1種を単独で用いてもよい
し、2種以上を混合して用いてもよい。
In addition, if necessary, the composition of the present invention may contain various solvents. Examples of such a solvent include the following solvents: alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as tetrahydrofuran; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether; Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether,
Glycol ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate and 3-methoxybutyl-1-acetate Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, cyclohexanone and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone;
And ethyl 2-hydroxypropionate, methyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-2-methylbutanoate, 3- Methyl methoxypropionate,
Esters such as ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, and ethyl lactate. These solvents may be used alone or as a mixture of two or more.

【0057】本発明の組成物は、目的に応じた成形体と
される。この成形体は、組成物自体の硬化物でなる所望
の形状の製品、あるいは基材上に形成された該組成物の
硬化物でなる塗膜であってもよい。
The composition of the present invention is formed into a molded product according to the purpose. This molded article may be a product of a desired shape formed of a cured product of the composition itself, or a coating film formed of a cured product of the composition formed on a substrate.

【0058】例えば、上記エポキシアクリレート樹脂
(I)、および必要に応じて上記エポキシアクリレート
樹脂(I)以外の光または熱硬化性のアクリレート化合
物、光重合開始剤(光硬化性樹脂組成物の場合)、ラジ
カル開始剤(熱硬化性樹脂組成物の場合)、各種添加剤
などを混合し、あるいは適当な溶媒中に分散もしくは溶
解することにより、光硬化性あるいは熱硬化性の樹脂組
成物が得られる。例えば溶媒を含む液状の組成物を基材
上に塗布・乾燥し、次いで光照射しあるいは加熱するこ
とにより、基材上に硬化膜を形成することができる。あ
るいは、上記光硬化性あるいは熱硬化性の組成物は、必
要に応じて加熱溶融し、所定の型に流し込んで光照射し
あるいは加熱することにより、所望の形状の成形体が得
られる。
For example, the epoxy acrylate resin (I) and, if necessary, a light or thermosetting acrylate compound other than the epoxy acrylate resin (I), a photopolymerization initiator (in the case of a photocurable resin composition) By mixing a radical initiator (in the case of a thermosetting resin composition) and various additives, or dispersing or dissolving in a suitable solvent, a photocurable or thermosetting resin composition can be obtained. . For example, a cured composition can be formed on a substrate by applying and drying a liquid composition containing a solvent on the substrate, and then irradiating or heating with light. Alternatively, the photocurable or thermosetting composition is heated and melted, if necessary, poured into a predetermined mold and irradiated with light or heated to obtain a molded article having a desired shape.

【0059】上記本発明の組成物により形成された成形
体(塗膜を含む)は、高い硬度を有し、耐熱性に極めて
優れ、さらに、高い屈折率を有する。
A molded article (including a coating film) formed from the composition of the present invention has high hardness, extremely excellent heat resistance, and high refractive index.

【0060】本発明の組成物は、具体的には、例えば、
各種コーティング剤、特に高い硬度と耐熱性とを要求さ
れるコーティング剤として有用である。その他、本発明
の組成物は、具体的にはカラーフィルター用レジストイ
ンク材料;電子部品の保護膜用材料(例えば、カラーフ
ィルターを包含する液晶表示素子、集積回路素子、固体
撮像素子などに用いられる保護膜の形成材料);層間絶
縁および/または平坦化膜の形成材料;プリント配線板
の製造に用いられるソルダーレジスト;あるいは、液晶
表示素子におけるビーズスペーサーの代替となる柱状ス
ペーサーの形成に好適な感光性組成物;として好適に用
いられる。さらに、本発明の組成物は、各種光学部品
(レンズ、LED、プラスチックフィルム、基板、光デ
ィスクなど)の材料;該光学部品の保護膜形成用のコー
ティング剤;光学部品用接着剤(光ファイバー用接着剤
など);偏光板製造用のコーティング剤;ホログラム記
録用感光性樹脂組成物原料などとして好適に利用され
る。
The composition of the present invention is specifically, for example,
It is useful as various coating agents, especially as coating agents requiring high hardness and heat resistance. In addition, the composition of the present invention is specifically used for a resist ink material for a color filter; a material for a protective film of an electronic component (for example, a liquid crystal display device including a color filter, an integrated circuit device, a solid-state imaging device, etc.). Material for forming protective film); Material for forming interlayer insulating and / or planarizing film; Solder resist used for manufacturing printed wiring board; or Photosensitive suitable for forming columnar spacers that can be used instead of bead spacers in liquid crystal display devices Composition is preferably used. Further, the composition of the present invention comprises a material for various optical components (lens, LED, plastic film, substrate, optical disk, etc.); a coating agent for forming a protective film on the optical component; an adhesive for optical components (adhesive for optical fiber) Etc.); a coating agent for producing a polarizing plate; suitably used as a raw material of a photosensitive resin composition for hologram recording.

【0061】[0061]

【実施例】以下、実施例および比較例に基づいて、本発
明を具体的に説明する。なお、以下において「部」は
「重量部」を示す。
The present invention will be specifically described below based on examples and comparative examples. In the following, “parts” indicates “parts by weight”.

【0062】実施例1 (1)ビスフェニルフェノールフルオレン型エポキシ化
合物(III)の合成 式(II)で示されるビスフェニルフェノールフルオレン
化合物(但しR=H)502gをエピクロルヒドリン1
850gに溶解させた。これにベンジルトリエチルアン
モニウムクロライド0.3gを加え、減圧下(150m
mHg)、70℃にて40%水酸化ナトリウム水溶液2
00gを3時間かけて滴下した。その間、生成する水を
エピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出し
たエピクロルヒドリンを系内に戻した。滴下終了後、さ
らに30分間反応を継続した。その後濾過により生成し
た塩を取り除き、さらに水洗した後エピロルヒドリンを
留去し、ビスフェニルフェノールフルオレン型エポキシ
化合物(III)512gを得た(R=H;n=0の化合
物の含有割合:95%)。この樹脂のエポキシ当量は3
12であった。
Example 1 (1) Synthesis of bisphenylphenol fluorene type epoxy compound (III) 502 g of a bisphenylphenol fluorene compound (R = H) represented by the formula (II) was added to epichlorohydrin 1
It was dissolved in 850 g. To this, 0.3 g of benzyltriethylammonium chloride was added, and under reduced pressure (150 m
mHg), 40% aqueous sodium hydroxide solution 2 at 70 ° C.
00 g was added dropwise over 3 hours. During that time, generated water was removed from the system by azeotropic distillation with epichlorohydrin, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After the completion of the dropwise addition, the reaction was continued for another 30 minutes. Thereafter, salts formed by filtration were removed, and after further washing with water, epilorhydrin was distilled off to obtain 512 g of a bisphenylphenol fluorene type epoxy compound (III) (R = H; content of the compound of n = 0: 95%). . The epoxy equivalent of this resin is 3
It was 12.

【0063】(2)エポキシアクリレート樹脂(I)の
合成 500mlの四つ口フラスコ中に、上記のビスフェニル
フェノールフルオレン型エポキシ樹脂(III)312g
(エポキシ当量312)、トリエチルベンジルアンモニ
ウムクロライド450mg、2,6−ジイソブチルフェ
ノール100mg、およびアクリル酸72.0g、さら
に溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート(PGMEA)500gを仕込んで攪拌し、
空気を毎分25mlの速度で吹き込みながら90〜10
0℃で加熱した。この混合液は白濁していたがそのまま
徐々に昇温し、120℃に加熱することにより完全に内
容物が溶解した溶液が得られた。これは次第に透明で粘
性のある溶液になったがそのまま攪拌を続け、経時的に
酸価の測定を行なった。酸価が2.0mgKOH/g未
満になるまで加熱攪拌を継続した。酸価が目標に達する
まで20時間を要した。反応終了後、減圧下にてPGM
EAを留去し、室温まで冷却して、無色透明な式(I)
で表されるビスフェニルフェノールフルオレン型エポキ
シアクリレート樹脂を得た(R=H;n=0の化合物の
含有割合:85%)。
(2) Synthesis of epoxy acrylate resin (I) In a 500 ml four-necked flask, 312 g of the above bisphenylphenol fluorene type epoxy resin (III)
(Epoxy equivalent 312), 450 mg of triethylbenzylammonium chloride, 100 mg of 2,6-diisobutylphenol, 72.0 g of acrylic acid, and 500 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent, and stirred.
90 to 10 while blowing air at a rate of 25 ml / min.
Heated at 0 ° C. Although this mixture was cloudy, the temperature was gradually raised as it was and heated to 120 ° C. to obtain a solution in which the contents were completely dissolved. This gradually became a transparent and viscous solution, but stirring was continued as it was, and the acid value was measured over time. Heating and stirring were continued until the acid value was less than 2.0 mgKOH / g. It took 20 hours for the acid value to reach the target. After completion of the reaction, PGM
The EA was distilled off, and the mixture was cooled to room temperature, and was converted to a colorless and transparent compound of the formula (I)
A bisphenylphenol fluorene type epoxy acrylate resin represented by the following formula was obtained (R = H; content of the compound where n = 0: 85%).

【0064】さらに、これを30℃にて1昼夜減圧乾燥
し、目的のビスフェニルフェノールフルオレン型エポキ
シアクリレート樹脂(I)の試料を得た。
Further, this was dried under reduced pressure at 30 ° C. for one day and night to obtain a target sample of bisphenylphenol fluorene type epoxy acrylate resin (I).

【0065】(3)分析結果 上記試料をヘキサン洗浄により精製し、R=H、n=0
のビスフェニルフェノールフルオレン型エポキシアクリ
レート樹脂(I)を得、これについて構造決定を行なっ
た。次にその分析結果を示す。
(3) Analysis results The above sample was purified by washing with hexane, and R = H, n = 0.
Was obtained and the structure was determined. Next, the analysis results are shown.

【0066】 (3.1) 融点 74〜80℃ (3.2) H−NMR(溶媒:CDCl、内部標準:TMS) 図1中のピ−ク ppm q 1.64 2H a 3.88-4.02 2H b 4.04-4.15 2H c 4.15-4.25 2H d 5.82-5.85 2H e 6.07-6.14 2H f 6.38-6.43 2H g 6.79-6.80 2H h 7.09-7.11 2H i、j、k、l、m、n 7.22-7.40 16H o 7.40-7.44 2H p 7.73-7.77 2H (3.3) IR(KBr) 1,720cm−1 (エステル基;C=O) 1,620cm−1 (ビニル基;C=C) 3,070cm−1 (ベンゼン環;C-H) (3.4) MS m/n=758(m(3.1) Melting point 74-80 ° C. (3.2) 1 H-NMR (solvent: CDCl 3 , internal standard: TMS) Peak in FIG. 1 ppm q 1.64 2H a 3.88-4.022 Hb 4.04-4.15 2H c 4.15-4.25 2H d 5.82-5.85 2H e 6.07-6.14 2H f 6.38-6.43 2H g 6.79-6.80 2H h 7.09-7.11 2H i, j, k, l, m, n 7.22-7.40 16H o 7.40-7.44 2H p 7.73-7.77 2H (3.3) IR (KBr) 1,720 cm -1 (ester group; C = O) 1,620 cm -1 (vinyl group; C = C) 3,070 cm -1 (benzene ring; CH) (3.4) MS m / n = 758 (m + )

【0067】(4)光硬化性組成物の調製および性能評
価 (4.1) 感光性 上記(2)項で得られたビスフェニルフェノールフルオ
レン型エポキシアクリレート樹脂(I)39重量部に、
光重合開始剤としてミヒラーケトンを1重量部加えて混
合し、さらにPGMEA60重量部を加えて溶解させ
た。得られた混合物をスピンコーターにより、乾燥後の
膜厚が50μmとなるようにガラス基材上に塗布した。
(4) Preparation of Photocurable Composition and Performance Evaluation (4.1) Photosensitivity To 39 parts by weight of the bisphenylphenol fluorene type epoxy acrylate resin (I) obtained in the above section (2),
1 part by weight of Michler's ketone was added and mixed as a photopolymerization initiator, and 60 parts by weight of PGMEA was further added and dissolved. The obtained mixture was applied on a glass substrate by a spin coater so that the film thickness after drying was 50 μm.

【0068】この塗膜に、超高圧水銀灯を用いて露光を
行ない、該塗膜を硬化させた。このときの光量は、30
0mJ/cmであった。
The coating film was exposed using an ultra-high pressure mercury lamp to cure the coating film. The amount of light at this time is 30
It was 0 mJ / cm 2 .

【0069】(4.2) 耐熱性 上記得られた硬化膜の熱重量分析(TG)を行なった。
重量減少開始は288℃であった。
(4.2) Heat Resistance The cured film obtained above was subjected to thermogravimetric analysis (TG).
The onset of weight loss was 288 ° C.

【0070】(4.3) 光学特性 上記硬化膜の屈折率をアッべ屈折計にて測定した。屈折
率は1.625であった。
(4.3) Optical Characteristics The refractive index of the cured film was measured with an Abbe refractometer. The refractive index was 1.625.

【0071】これらの結果より、本発明のエポキシアク
リレート樹脂は高感度であり、硬化して得られた塗膜は
高い耐熱性および屈折率を有していることがわかる。
From these results, it is understood that the epoxy acrylate resin of the present invention has high sensitivity, and the cured coating film has high heat resistance and refractive index.

【0072】比較例1 (1)エポキシ化合物(VI)の合成 式(V)で示されるビスフェノールフルオレン350g
をエピクロルヒドリン1850gに溶解させた。
Comparative Example 1 (1) Synthesis of epoxy compound (VI) 350 g of bisphenolfluorene represented by formula (V)
Was dissolved in 1850 g of epichlorohydrin.

【0073】[0073]

【化17】 Embedded image

【0074】これにベンジルトリエチルアンモニウムク
ロライド0.3gを加え、減圧下(150mmHg)、
70℃にて40%水酸化ナトリウム水溶液200gを3
時間かけて滴下した。その間、生成する水をエピクロル
ヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロ
ルヒドリンを系内に戻した。滴下終了後、さらに30分
間反応を継続した。その後濾過により生成した塩を取り
除き、さらに水洗した後エピロルヒドリンを留去し、ビ
スフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(VI)420g
を得た:
To this, 0.3 g of benzyltriethylammonium chloride was added, and under reduced pressure (150 mmHg),
200 g of 40% aqueous sodium hydroxide solution at 70 ° C.
It was dropped over time. During that time, generated water was removed from the system by azeotropic distillation with epichlorohydrin, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After the completion of the dropwise addition, the reaction was continued for another 30 minutes. Thereafter, salts produced by filtration were removed, and after washing with water, epilorhydrin was distilled off. 420 g of bisphenol fluorene type epoxy resin (VI)
Got:

【0075】[0075]

【化18】 Embedded image

【0076】ここで、Xは下記式(VIa)で示される単
位であり、
Here, X 1 is a unit represented by the following formula (VIa):

【0077】[0077]

【化19】 Embedded image

【0078】n=0の化合物の含有割合は95%であっ
た。この樹脂のエポキシ当量は231であった。
The content ratio of the compound where n = 0 was 95%. The epoxy equivalent of this resin was 231.

【0079】(2)エポキシアクリレート樹脂(VII)
の合成 500mlの四つ口フラスコ中に、式(VI)で示される
ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂231g(エ
ポキシ当量231)、トリエチルベンジルアンモニウム
クロライド450mg、2,6−ジイソブチルフェノー
ル100mgおよびアクリル酸72.0g、さらに溶媒
としてPGMEA500gを仕込んで攪拌し、これに空
気を毎分25mlの速度で吹き込みながら90〜100
℃で加熱した。この混合液は白濁していたがそのまま徐
々に昇温し、120℃に加熱することにより完全に樹脂
が溶融した液状物が得られた。これは次第に透明で粘性
のある液状物となったがそのまま攪拌を続け、経時的に
酸価の測定を行なった。酸価が2.0mgKOH/g未
満になるまで加熱攪拌を継続した。酸価が目標に達する
まで12時間を要した。反応終了後、減圧下にてPGM
EAを留去し、室温まで冷却して、無色透明な式(VI
I)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシア
クリレート樹脂を得た(n=0の化合物の含有割合:8
8%)。
(2) Epoxy acrylate resin (VII)
In a 500 ml four-necked flask, 231 g of a bisphenolfluorene-type epoxy resin represented by the formula (VI) (epoxy equivalent 231), 450 mg of triethylbenzylammonium chloride, 100 mg of 2,6-diisobutylphenol and 72.0 g of acrylic acid, Further, 500 g of PGMEA was charged as a solvent and stirred, and air was blown at a rate of 25 ml / min.
Heated at ° C. Although this mixture was cloudy, the temperature was gradually raised as it was and heated to 120 ° C. to obtain a liquid in which the resin was completely melted. This gradually became a transparent and viscous liquid, but stirring was continued as it was, and the acid value was measured over time. Heating and stirring were continued until the acid value was less than 2.0 mgKOH / g. It took 12 hours for the acid value to reach the target. After completion of the reaction, PGM
EA was distilled off, and the mixture was cooled to room temperature.
A bisphenol fluorene type epoxy acrylate resin represented by I) was obtained (content ratio of compound where n = 0: 8)
8%).

【0080】[0080]

【化20】 Embedded image

【0081】ここで、Xは下記式(VIIa)で示され
る単位であり、
Here, X 1 is a unit represented by the following formula (VIIa):

【0082】[0082]

【化21】 Embedded image

【0083】nは0から20までの整数である。N is an integer from 0 to 20.

【0084】これを30℃にて1昼夜減圧乾燥し、目的
のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート樹
脂(VII)の試料を得た。
This was dried under reduced pressure at 30 ° C. for one day and night to obtain a sample of the desired bisphenol fluorene type epoxy acrylate resin (VII).

【0085】実施例2 上記エポキシアクリレート樹脂(I)30重量部、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)2
0重量部、ミヒラーケトン1重量部をメチルエチルケト
ン中に溶解させて、固形分濃度が50重量%の溶液を得
た。このエポキシアクリレート組成物の溶液を、バーコ
ーターを用いてガラス基材表面に乾燥後の厚みが5μm
になるように塗布し、100℃で5分間乾燥した。次
に、高圧水銀灯(400W)にて300mJ/cm
光を照射し、塗膜を硬化させた。
Example 2 30 parts by weight of the above epoxy acrylate resin (I), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 2
0 parts by weight and 1 part by weight of Michler's ketone were dissolved in methyl ethyl ketone to obtain a solution having a solid concentration of 50% by weight. The thickness of the epoxy acrylate composition solution after drying on a glass substrate surface using a bar coater is 5 μm.
And dried at 100 ° C. for 5 minutes. Next, light of 300 mJ / cm 2 was irradiated with a high-pressure mercury lamp (400 W) to cure the coating film.

【0086】得られた塗膜表面特性を以下の試験法に従
って測定した。その結果を表1に示す。
The surface properties of the obtained coating film were measured according to the following test methods. Table 1 shows the results.

【0087】(1)耐磨耗性(耐擦傷性) 基材上の塗膜面を、#1000のスチールウールで軽く
押さえながら、該スチールウールを30往復させて摩擦
した。この塗膜表面の傷の程度を次の基準で判断し、耐
摩耗性を評価した。 ○:傷がつかない △:傷はつくが光沢は保たれている ×:無数に傷がつき、光沢が失われる
(1) Abrasion Resistance (Scratch Resistance) The steel wool was rubbed by reciprocating 30 times while the coating film surface on the substrate was lightly pressed with # 1000 steel wool. The degree of scratches on the coating film surface was determined according to the following criteria, and the abrasion resistance was evaluated. :: no scratches △: scratches but gloss is maintained ×: countless scratches and loss of gloss

【0088】(2)接着性 JIS−Z−1552に準じ、碁盤目剥離試験により評
価した。
(2) Adhesion The adhesion was evaluated by a cross-cut peel test according to JIS-Z-1552.

【0089】(3)鉛筆硬度 JIS−K−5400に準じ、鉛筆硬度を測定した。(3) Pencil hardness The pencil hardness was measured according to JIS-K-5400.

【0090】実施例3 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートをトリメチ
ロールプロパントリアクリレート(TMATA)に変更
したこと以外は、実施例2と同様の条件で試料を作成
し、評価を行なった。
Example 3 A sample was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 2 except that dipentaerythritol hexaacrylate was changed to trimethylolpropane triacrylate (TMATA).

【0091】実施例4 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートをペンタエ
リスリトールテトラアクリレート(PETA)に変更し
たこと以外は、実施例2と同様の条件で試料を作成し、
評価を行なった。
Example 4 A sample was prepared under the same conditions as in Example 2 except that dipentaerythritol hexaacrylate was changed to pentaerythritol tetraacrylate (PETA).
An evaluation was performed.

【0092】比較例2 エポキシアクリレート樹脂(I)をエポキシアクリレー
ト樹脂(VII)に変更したこと以外は、実施例2と同様
の条件で試料を作成し、評価を行なった。
Comparative Example 2 A sample was prepared and evaluated under the same conditions as in Example 2 except that the epoxy acrylate resin (I) was changed to the epoxy acrylate resin (VII).

【0093】[0093]

【表1】 [Table 1]

【0094】実施例5 実施例1で得られたエポキシアクリレート樹脂(I)9
9重量部を加熱溶融して液状にし、これにラジカル開始
剤として過酸化ベンゾイル1重量部を加えて混合し、テ
フロン(登録商標)製の型に注ぎ入れた。これを100
℃のオーブン中で30分間、次いで170℃で1時間加
熱し、熱硬化させた。得られた成形体を用い、次の項目
について評価を行なった。 (1)曲げ強さ:ASTM D−790に準じ測定し
た。 (2)鉛筆硬度:JIS−K−5400に準じ測定し
た。 (3)熱変形温度(HDT):ASTM D−648に
準じ測定した。 (4)可視光線透過率:分光光度計(日立製作所製U−
2000)により800〜380nmの範囲で測定を行
なった。 (5)屈折率:アッべ屈折計にて測定した。
Example 5 Epoxy acrylate resin (I) 9 obtained in Example 1
9 parts by weight were heated and melted to obtain a liquid, 1 part by weight of benzoyl peroxide as a radical initiator was added thereto, mixed, and poured into a Teflon (registered trademark) mold. This is 100
Heated in oven at 30 ° C. for 30 minutes, then at 170 ° C. for 1 hour and heat cured. The following items were evaluated using the obtained molded body. (1) Flexural strength: Measured according to ASTM D-790. (2) Pencil hardness: Measured according to JIS-K-5400. (3) Heat distortion temperature (HDT): Measured according to ASTM D-648. (4) Visible light transmittance: spectrophotometer (U-Made by Hitachi, Ltd.)
2000) in the range of 800 to 380 nm. (5) Refractive index: measured with an Abbe refractometer.

【0095】評価結果を表2に示す。後述の実施例6〜
8、および比較例3の結果も合わせて表2に示す。
Table 2 shows the evaluation results. Example 6 to be described later
Table 2 also shows the results of Comparative Example 8 and Comparative Example 3.

【0096】実施例6 実施例1で得られたエポキシアクリレート樹脂(I)3
3重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(DPHA)33重量部、ペンタエリスリトールトリア
クリレート(PETA)33重量部、およびラジカル開
始剤として過酸化ベンゾイル1重量部を十分に混合し、
得られた混合物をテフロン製の型に注ぎ入れた。これを
100℃のオーブン中で30分間、次いで170℃で1
時間加熱し、熱硬化させた。得られた成形体について、
実施例5と同様の評価を行なった。
Example 6 Epoxy acrylate resin (I) 3 obtained in Example 1
3 parts by weight, 33 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 33 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (PETA), and 1 part by weight of benzoyl peroxide as a radical initiator were thoroughly mixed,
The resulting mixture was poured into a Teflon mold. This is placed in an oven at 100 ° C. for 30 minutes, then at 170 ° C. for 1 minute.
Heated for an hour and heat cured. About the obtained molded body,
The same evaluation as in Example 5 was performed.

【0097】実施例7 実施例1で得られたエポキシアクリレート樹脂(I)6
6重量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(2−
HEMA)33重量部、およびラジカル開始剤として過
酸化ベンゾイル1重量部を十分に混合し、得られた混合
物をテフロン製の型に注ぎ入れた。これを100℃のオ
ーブン中で30分間、次いで170℃で1時間加熱し、
熱硬化させた。得られた成形体について、実施例5と同
様の評価を行なった。
Example 7 Epoxy acrylate resin (I) 6 obtained in Example 1
6 parts by weight, 2-hydroxyethyl methacrylate (2-
(HEMA) 33 parts by weight and 1 part by weight of benzoyl peroxide as a radical initiator were thoroughly mixed, and the resulting mixture was poured into a Teflon mold. This is heated in an oven at 100 ° C. for 30 minutes, then at 170 ° C. for 1 hour,
Heat cured. The same evaluation as in Example 5 was performed on the obtained molded body.

【0098】実施例8 実施例1で得られたエポキシアクリレート樹脂(I)4
9.5重量部、エチレングリコールジメタクリレート
(EG−DMA)49.5重量部、およびラジカル開始
剤として過酸化ベンゾイル1重量部を十分に混合し、得
られた混合物をテフロン製の型に注ぎ入れた。これを1
00℃のオーブン中で30分間、次いで170℃で1時
間加熱し、熱硬化させた。得られた成形体について、実
施例5と同様の評価を行なった。
Example 8 Epoxy acrylate resin (I) 4 obtained in Example 1
9.5 parts by weight, 49.5 parts by weight of ethylene glycol dimethacrylate (EG-DMA), and 1 part by weight of benzoyl peroxide as a radical initiator were thoroughly mixed, and the resulting mixture was poured into a Teflon mold. Was. This one
Heating was performed in an oven at 00 ° C. for 30 minutes, then at 170 ° C. for 1 hour, and heat-cured. The same evaluation as in Example 5 was performed on the obtained molded body.

【0099】比較例3 比較例1で得られたエポキシアクリレート樹脂(VII)
99重量部およびラジカル開始剤として過酸化ベンゾイ
ル1重量部を十分に混合し、得られた混合物をテフロン
製の型に注ぎ入れた。これを100℃のオーブン中で3
0分間、次いで170℃で1時間加熱し、熱硬化させ
た。得られた成形体について、実施例5と同様の評価を
行なった。
Comparative Example 3 Epoxy acrylate resin (VII) obtained in Comparative Example 1
99 parts by weight and 1 part by weight of benzoyl peroxide as a radical initiator were thoroughly mixed, and the resulting mixture was poured into a Teflon mold. Put this in a 100 ° C oven
The mixture was heated for 0 minutes and then at 170 ° C. for 1 hour to be thermally cured. The same evaluation as in Example 5 was performed on the obtained molded body.

【0100】[0100]

【表2】 [Table 2]

【0101】[0101]

【発明の効果】本発明によれば、このように、光硬化性
および熱硬化性の性質を有する新規なエポキシアクリレ
ート樹脂および該樹脂の製造方法が提供される。この樹
脂を含む組成物から得られる硬化物(例えばそれ自体で
なる成形体あるいは基材上に形成された塗膜)は高い硬
度を有し、耐熱性に極めて優れ、さらに、高い屈折率を
有する。
As described above, according to the present invention, a novel epoxy acrylate resin having photocurable and thermosetting properties and a method for producing the resin are provided. A cured product obtained from the composition containing the resin (for example, a molded article itself or a coating film formed on a substrate) has high hardness, extremely excellent heat resistance, and further has a high refractive index. .

【0102】従って、本発明の組成物は、例えば、各種
コーティング剤、特に高い硬度と耐熱性とを要求される
コーティング剤として有用である。その他、プリント配
線板形成用のレジストインク、積層基板の層間絶縁膜形
成用材料、イメージセンサー用保護膜形成材料、ソルダ
ーレジスト、メッキレジスト、カラーフィルターの保護
膜などに用いられる。さらに本発明の組成物は、その硬
化物が高い屈折率を有すること、および基材との密着性
が良好であることを利用して、光学製品用成形材料、光
学材料用コーティング剤、接着剤などとして利用され
る。
Accordingly, the composition of the present invention is useful, for example, as various coating agents, particularly, coating agents requiring high hardness and heat resistance. In addition, it is used as a resist ink for forming a printed wiring board, a material for forming an interlayer insulating film of a laminated substrate, a material for forming a protective film for an image sensor, a solder resist, a plating resist, and a protective film for a color filter. Furthermore, the composition of the present invention utilizes the fact that the cured product has a high refractive index and good adhesion to a substrate, and is used as a molding material for optical products, a coating agent for optical materials, and an adhesive. Used as such.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明のエポキシアクリレート樹脂の
H-NMRのチャートである。
FIG. 1 shows the epoxy acrylate resin of the present invention.
It is a 1 H-NMR chart.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北野 慶 兵庫県龍野市龍野町中井236番地 ナガセ 化成工業株式会社播磨工場内 Fターム(参考) 4F071 AA42 AF22 AF25 AF58 AH19 BA02 BB12 BC01 BC07 4J011 QA03 QA12 QA13 QA23 QA24 QB19 QB20 SA01 SA04 SA05 SA06 SA07 SA21 SA25 SA27 SA31 SA36 SA41 SA51 SA54 SA63 SA64 SA76 SA78 SA79 SA83 UA01 WA02 WA06 4J027 AC02 AC06 AE01 AE02 BA08 BA10 BA20 BA25 BA28 CB04 CB10 CC05 CD07 CD08 CD09 4J036 AD03 AD11 CA21 HA02 JA09 JA15  ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Kei Kitano 236 Nakai, Tatsuno-cho, Tatsuno-shi, Hyogo Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd. Harima Plant F-term (reference) QA23 QA24 QB19 QB20 SA01 SA04 SA05 SA06 SA07 SA21 SA25 SA27 SA31 SA36 SA41 SA51 SA54 SA63 SA64 SA76 SA78 SA79 SA83 UA01 WA02 WA06 4J027 AC02 AC06 AE01 AE02 BA08 BA10 BA20 BA25 BA28 CB04 CB10 CC05 CD07 CD08 AD09 JA09

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式で表されるエポキシアクリレ
ート樹脂(I): 【化1】 ここで、Xは下記式(Ia)で示される単位であり、 【化2】 Rは水素原子またはC1〜5の直鎖または分岐アルキル
基、そしてnは0から20までの整数である。
1. An epoxy acrylate resin (I) represented by the following general formula: Here, X is a unit represented by the following formula (Ia): R is a hydrogen atom or a C1-5 linear or branched alkyl group, and n is an integer from 0 to 20.
【請求項2】 請求項1のエポキシアクリレート樹脂
(I)の製造方法であって、 次の一般式で示されるビスフェニルフェノールフルオレ
ン化合物(II): 【化3】 (ここでRは水素原子またはC1〜5の直鎖または分岐
アルキル基である)にエピクロルヒドリンを作用させる
ことにより、ビスフェニルフェノールフルオレン型エポ
キシ化合物(III): 【化4】 (ここで、Xは下記式(IIIa)で示される単位であ
り、 【化5】 Rは水素原子またはC1〜5の直鎖または分岐アルキル
基、そしてnは0から20までの整数である)を得る工
程;および該ビスフェニルフェノールフルオレン型エポ
キシ化合物(III)にアクリル酸を反応させる工程;を
包含する方法。
2. The method for producing an epoxy acrylate resin (I) according to claim 1, wherein the bisphenylphenol fluorene compound (II) represented by the following general formula: (Where R is a hydrogen atom or a C1-5 linear or branched alkyl group) with epichlorohydrin to give a bisphenylphenol fluorene type epoxy compound (III): (Where X is a unit represented by the following formula (IIIa): R is a hydrogen atom or a C1-5 linear or branched alkyl group, and n is an integer from 0 to 20); and reacting the bisphenylphenol fluorene type epoxy compound (III) with acrylic acid A method comprising:
【請求項3】 請求項1のエポキシアクリレート樹脂
(I)を含有する光硬化性樹脂組成物。
3. A photocurable resin composition containing the epoxy acrylate resin (I) according to claim 1.
【請求項4】 さらに前記エポキシアクリレート樹脂
(I)以外の光硬化可能なアクリレート化合物を含有
し、組成物中の光硬化可能な成分の合計量を基準とし
て、該エポキシアクリレート樹脂(I)が30〜90重
量%の割合で、そして該光硬化可能なアクリレート化合
物が70〜10重量%の割合で含有される、請求項3に
記載の組成物。
4. The composition further contains a photocurable acrylate compound other than the epoxy acrylate resin (I), and the epoxy acrylate resin (I) is 30% based on the total amount of the photocurable components in the composition. The composition according to claim 3, wherein the composition comprises about 90% by weight and the photocurable acrylate compound in a proportion of 70% to 10% by weight.
【請求項5】 さらに光重合開始剤を含有し、該光重合
開始剤が、組成物中の光硬化可能な成分の合計量100
重量部に対して1〜10重量部の割合で含有される、請
求項3または4に記載の組成物。
5. The composition further comprises a photopolymerization initiator, wherein the photopolymerization initiator has a total amount of 100 parts of a photocurable component in the composition.
The composition according to claim 3, wherein the composition is contained in a ratio of 1 to 10 parts by weight based on parts by weight.
【請求項6】 請求項3から5のいずれかの項に記載の
光硬化性樹脂組成物に光を照射することにより硬化させ
て得られる、成形体。
6. A molded article obtained by curing the photocurable resin composition according to any one of claims 3 to 5 by irradiating the composition with light.
【請求項7】 請求項1の一般式で表されるエポキシア
クリレート樹脂(I)を含有する熱硬化性樹脂組成物。
7. A thermosetting resin composition containing the epoxy acrylate resin (I) represented by the general formula of claim 1.
【請求項8】 さらに前記エポキシアクリレート樹脂
(I)以外の熱硬化可能なアクリレート化合物を含有
し、組成物中の熱硬化可能な成分の合計量を基準とし
て、該エポキシアクリレート樹脂(I)が30〜90重
量%の割合で、そして該熱硬化可能なアクリレート化合
物が70〜10重量%の割合で含有される、請求項7に
記載の組成物。
8. The composition further contains a thermosetting acrylate compound other than the epoxy acrylate resin (I), and the epoxy acrylate resin (I) is 30% based on the total amount of the thermosetting components in the composition. 8. The composition according to claim 7, wherein the composition comprises about 90% by weight and the thermosetting acrylate compound in a proportion of 70% to 10% by weight.
【請求項9】 請求項7または8に記載の熱硬化性樹脂
組成物を熱硬化させて得られる成形体。
9. A molded product obtained by thermosetting the thermosetting resin composition according to claim 7 or 8.
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