JP5144015B2 - 多孔質構造体の製造方法および多孔質構造体並びに多孔質構造体からなる細胞培養用足場基材 - Google Patents
多孔質構造体の製造方法および多孔質構造体並びに多孔質構造体からなる細胞培養用足場基材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5144015B2 JP5144015B2 JP2006030316A JP2006030316A JP5144015B2 JP 5144015 B2 JP5144015 B2 JP 5144015B2 JP 2006030316 A JP2006030316 A JP 2006030316A JP 2006030316 A JP2006030316 A JP 2006030316A JP 5144015 B2 JP5144015 B2 JP 5144015B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- porous structure
- coating film
- coating
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Biological Depolymerization Polymers (AREA)
Description
物理的な方法として、クロロフルオロカーボン類または炭化水素類などの低沸点液体(発泡剤)をポリマーに分散させ、次に加熱し発泡剤を揮発させることにより気泡を形成させる方法が挙げられる。しかしながら、かかる方法ではセル(孔)径が比較的大きく、マイクロメートル(μm)オーダーあるいはそれ以上の多孔質構造しか得られない。
1.以下の工程を含む多孔質構造体の製造方法:
1)ポリマーと該ポリマーに対して非相溶性の材料とを混合し塗工液を調製する工程;
2)調製した塗工液を塗工用基材に塗布して、厚さ10〜300μmの塗膜を形成させる
工程;
3)前記形成された塗膜を、該塗膜中のポリマーの吸熱挙動が最大値となる温度より高い
温度に加熱し、前記ポリマーと該ポリマーに対する非相溶性材料とを溶融混合状態にする
工程;
4)前記溶融混合状態の塗膜を、該塗膜中のポリマーの吸熱挙動が最大値となる温度より
低い温度に低下させ、ポリマーを再結晶化させることにより、ポリマーと非相溶性材料と
が相分離した構造を有する塗膜を形成させる工程;
5)前記相分離した構造を有する塗膜中の非相溶性材料を、抽出溶媒として亜臨界二酸化
炭素もしくは超臨界二酸化炭素を用いて抽出除去して空孔を形成させ、厚さ0.1〜10
0μmの多孔質構造体を得る工程。
2.ポリマーが、生分解性ポリマーである前項1に記載の製造方法。
本発明において「ポリマー」とは、特に限定されないが、例えば、ポリ乳酸、ポリカプロラクタム、ポリグリコール酸、ポリジオキサノン、ポリトリメチレンカーボネート、ポリヒドロキシ酪酸、ポリカプロラクトン、ポリエチレンアジペート、ポリブチレンカーボネートなどやこれらのコポリマー並びに混合物などの生分解性ポリマーや、ポリスルホン、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリビニルアルコール、ポリブチレンカーボネート、ポリエチレンカーボネート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリアセチルセルロース、ポリアクリロニトリル、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレンなどのエンジニアプラスチックおよび汎用ポリマーが挙げられる。
塗工用基材の厚さは、操作性を考慮すると10〜300μm、好ましくは30〜200μm程度であるのが好適である。
ポリε−カプロラクトン(重量平均分子量:70,000〜100,000、ガラス転移点:−60℃ 融点:57℃)100重量部に対して、添加剤としてポリエチレングリコール(以下「PEG」)200を100重量部、溶媒としてトルエン500重量部を混合し、塗工液を調製した。ガラス転移点および融点はDSCにより測定した。
この塗工液を、アプリケーターで乾燥厚みが35μmになるようにポリエチレンテレフタレート(以下「PET」)(50μm)からなる塗工用基材に塗工し、80℃で溶融混合状態にするとともに、溶媒を乾燥させ、塗膜を得た。
その後、冷水により塗工液を0℃に冷却して、ポリε−カプロラクトンとPEG200を相分離させるとともに塗膜を固定化した。この塗膜を20mm×50mmの短冊状に切断し、500ccの耐圧容器に入れ、20℃の雰囲気中、25Mpaに加圧した後、圧力を保ったままガス量にして約5リットル/分の流量でCO2を注入、排気して添加物を抽出する操作を2時間行い、多孔質構造体を得た。
得られた多孔質構造体の表面の凹状構造の孔径は0.56μm、内部の孔の孔径は0.43μmであった。(図1および図2参照)
孔径は、二値化SEM画像を画像処理ソフト(optimas6.1)にて解析した。
添加剤としてPEG200のかわりにPEG400を用いた以外は、実施例1と同様の操作を行った。
得られた多孔質構造体の表面の凹状構造の孔径は1.32μm、内部の孔の孔径は0.40μmであった。(図3および図4参照)
添加剤としてPEG200のかわりにジエチレングリコール(以下「DEG」)を用い、冷却を空冷、20℃で行った以外は、実施例1と同様の操作を行った。
得られた多孔質構造体の表面の凹状構造の孔径は0.80μm、内部の孔の孔径は0.63μmであった。(図5および図6参照)
ポリε−カプロラクトン(重量平均分子量:70,000〜100,000、ガラス転移点:−60℃ 融点:57℃)100重量部に対して、添加剤としてPEG200を100重量部、溶媒としてトルエン500重量部を混合し、塗工液を調製した。
この塗工液を、アプリケーターで乾燥厚みが35μmになるように塗工用基材(PET(50μm))に塗工し、25℃で溶媒を乾燥させ、塗膜を得た。
その後、塗膜を20mm×50mmの短冊状に切断し、500ccの耐圧容器に入れ、15℃の雰囲気中、25MPaに加圧した後、圧力を保ったままガス量にして約5リットル/分の流量でCO2を注入、排気して添加物を抽出する操作を2時間行った。得られた塗膜はフィルム状であり、孔の存在が確認できなかった。(図7および図8参照)
Claims (2)
- 以下の工程を含む多孔質構造体の製造方法:
1)ポリマーと該ポリマーに対して非相溶性の材料とを混合し塗工液を調製する工程;
2)調製した塗工液を塗工用基材に塗布して、厚さ10〜300μmの塗膜を形成させる
工程;
3)前記形成された塗膜を、該塗膜中のポリマーの吸熱挙動が最大値となる温度より高い
温度に加熱し、前記ポリマーと該ポリマーに対する非相溶性材料とを溶融混合状態にする
工程;
4)前記溶融混合状態の塗膜を、該塗膜中のポリマーの吸熱挙動が最大値となる温度より
低い温度に低下させ、ポリマーを再結晶化させることにより、ポリマーと非相溶性材料と
が相分離した構造を有する塗膜を形成させる工程;
5)前記相分離した構造を有する塗膜中の非相溶性材料を、抽出溶媒として亜臨界二酸化
炭素もしくは超臨界二酸化炭素を用いて抽出除去して空孔を形成させ、厚さ0.1〜10
0μmの多孔質構造体を得る工程。 - ポリマーが、生分解性ポリマーである請求項1に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006030316A JP5144015B2 (ja) | 2006-02-07 | 2006-02-07 | 多孔質構造体の製造方法および多孔質構造体並びに多孔質構造体からなる細胞培養用足場基材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006030316A JP5144015B2 (ja) | 2006-02-07 | 2006-02-07 | 多孔質構造体の製造方法および多孔質構造体並びに多孔質構造体からなる細胞培養用足場基材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007209412A JP2007209412A (ja) | 2007-08-23 |
JP5144015B2 true JP5144015B2 (ja) | 2013-02-13 |
Family
ID=38488334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006030316A Expired - Fee Related JP5144015B2 (ja) | 2006-02-07 | 2006-02-07 | 多孔質構造体の製造方法および多孔質構造体並びに多孔質構造体からなる細胞培養用足場基材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5144015B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102971367B (zh) | 2010-06-30 | 2014-11-12 | 日东电工株式会社 | 热固性树脂多孔片的制造方法及使用该多孔片的复合分离膜 |
JP6105111B1 (ja) * | 2016-03-02 | 2017-03-29 | 国立大学法人東北大学 | 自閉スペクトラム症改善用組成物 |
JP7305328B2 (ja) * | 2018-10-01 | 2023-07-10 | 日東電工株式会社 | 多孔質体の製造方法 |
-
2006
- 2006-02-07 JP JP2006030316A patent/JP5144015B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007209412A (ja) | 2007-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5677355A (en) | Continuous open-cell polymeric foams containing living cells | |
WO2009110587A1 (ja) | 断熱材 | |
Woods et al. | Materials processing in supercritical carbon dioxide: surfactants, polymers and biomaterials | |
US6620356B1 (en) | Porous constructs fabricated by gas induced phase inversion | |
Tsivintzelis et al. | Porous scaffolds prepared by phase inversion using supercritical CO2 as antisolvent: I. Poly (l-lactic acid) | |
KR101019186B1 (ko) | 3차원 다공성 고분자 지지체의 제조방법 | |
JP2000501752A (ja) | エチレン―ビニルアルコールコポリマーのマイクロポーラス材料およびその製造方法 | |
TWI565742B (zh) | 聚乳酸系樹脂發泡粒子及其成形體 | |
JP5144015B2 (ja) | 多孔質構造体の製造方法および多孔質構造体並びに多孔質構造体からなる細胞培養用足場基材 | |
JP5986096B2 (ja) | ポリ乳酸系樹脂発泡粒子の製造方法 | |
JP2010059756A (ja) | 高性能断熱材 | |
EP1831863A1 (en) | In-mold label film with foamed adhesive skin | |
Cuadra-Rodríguez et al. | Production of cellular polymers without solid outer skins by gas dissolution foaming: A long-sought step towards new applications | |
Khorasani et al. | Solid-state microcellular foaming of PE/PE composite systems, investigation on cellular structure and crystalline morphology | |
Novendra et al. | Supercritical processing of CO2-philic polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS)-poly (L-lactic acid) composites | |
JP4944449B2 (ja) | 多孔質構造体の製造方法および多孔質構造体並びに多孔質構造体からなる細胞培養用足場基材 | |
CN107530473A (zh) | 利用水溶性高分子的细胞培养支架 | |
JP5652831B2 (ja) | ポリ乳酸微粒子の製造方法、ポリ乳酸微粒子、並びにこれを用いた結晶核剤、成形体、及び表面改質剤 | |
JP4520436B2 (ja) | 生分解性ハニカム構造接着フィルム | |
Rahim et al. | Mechanical Properties of Porous Polylactic Acid (PLA) Via Salt Leaching Method | |
JP2012036277A (ja) | 発泡シートおよびその製造方法 | |
WO2006030695A1 (ja) | 多孔質体の製造方法、多孔質体、反射防止膜、反射防止シートの製造方法及び反射防止シート | |
Vamos et al. | Novel, solvent‐based method for the production of polymer sheets with a superhydrophobic surface | |
JP5275546B2 (ja) | 生分解性ハニカム構造接着フィルム | |
JP3610504B2 (ja) | 生体内分解吸収性セル構造体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111221 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120530 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120719 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121115 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121122 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151130 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |