JP5143683B2 - Slurry composition for forming plasma display panel electrode - Google Patents

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Description

本発明はプラズマディスプレイパネル(PDP)電極形成用スラリー組成物に関し、特に、テーブルコーティング法による生産性向上及び薄膜化が可能で、電極形成に使用されるスラリーの量が従来のブラックペースト使用量より少なく原価節減が可能なだけでなく、ナノ粒子無機物を使用してスラリーの安定性を顕著に向上させることができるPDP電極形成用スラリー組成物に関する。   The present invention relates to a slurry composition for forming a plasma display panel (PDP) electrode. In particular, the productivity can be improved and the film thickness can be reduced by a table coating method, and the amount of slurry used for electrode formation is more than the amount of conventional black paste used. The present invention relates to a slurry composition for forming a PDP electrode, which not only can reduce the cost, but can significantly improve the stability of the slurry using nano-particle inorganic substances.

ディスプレイ装置において、大型化、高密度化、高精密化、及び高信頼性の要求が高まることによって、いろいろなパターン加工技術の開発が行われており、またこのような多様なパターン加工技術に適した各種の微細電極形成用ペーストに関する研究と生産費を節減できる方法に関する研究が活発に行われている。   With the increasing demands for larger, higher density, higher precision, and higher reliability in display devices, various pattern processing technologies are being developed and suitable for such various pattern processing technologies. In addition, research on various pastes for forming microelectrodes and research on methods for reducing production costs are being actively conducted.

プラズマディスプレイパネル(PDP)は液晶パネルと比較すると応答速度が速く、大型化が容易であって、現在多様な分野に利用されている。プラズマディスプレイパネルは典型的には一対の前面及び背面パネルを含み、その前面及び背面パネルは互いに対向するように配置され、一定の間隔で支持された前記パネルとそのパネルの間に配置されたセル障壁によってそれぞれ規定されたディスプレイ素子としての複数のセルを形成している。前記パネルの内表面上に誘電体層を介して位置する2つの電極は、その間に交流電圧を印加することによってセル内で放電し、この放電によってセル障壁の表面上に形成された蛍光体スクリーンを発光させて、透明なパネルを透過した光によって画像を表示する。   A plasma display panel (PDP) has a higher response speed than a liquid crystal panel and can be easily increased in size, and is currently used in various fields. A plasma display panel typically includes a pair of front and back panels, the front and back panels being arranged to face each other, and the cells arranged between the panel and the panels supported at regular intervals. A plurality of cells are formed as display elements each defined by the barrier. Two electrodes located on the inner surface of the panel via a dielectric layer are discharged in the cell by applying an alternating voltage between them, and the phosphor screen formed on the surface of the cell barrier by this discharge The image is displayed by the light transmitted through the transparent panel.

PDPにおいて、画像の解像度及び輝度は、電極の幅、相互接続用導体のピッチ、及び誘電体層透明度などに依存する。電極及び相互接続用導体のパターンはスクリーン板を利用したパターン印刷で形成することができる。   In the PDP, the resolution and brightness of an image depend on the width of the electrodes, the pitch of the interconnecting conductors, and the dielectric layer transparency. The pattern of electrodes and interconnecting conductors can be formed by pattern printing using a screen plate.

従来の技術は黒色ペーストを3本ロールミルで配合し、コーティングはスクリーンペインティング方式で行われた。スクリーンペインティング方式では、パターン化されたスクリーンマスクを用いてペーストの圧搾(squeeze)を利用して基板に印刷し、乾燥して溶剤を除去した後、再び印刷及び乾燥を数回反復実施して所望の厚さの乾燥した膜を形成した後、焼成工程を経てパターンを形成する。この方法の問題点は工程時間が多くかかり、低い解像度及び反復された印刷作業による誤整列によって均一なパターンを形成しにくいということである。また、従来の技術は粒子の大きさが数μmであり、粘度が5000cp以上と高く、またテーブルコーティング法を適用するために粘度を低くすればスラリーの安定性に大きな問題があった。   In the prior art, black paste was blended by a three-roll mill, and coating was performed by a screen painting method. In the screen painting method, a printed screen mask is used to print onto a substrate using paste squeeze, and after drying to remove the solvent, the printing and drying are repeated several times. After a dry film having a desired thickness is formed, a pattern is formed through a baking process. The problem with this method is that it takes a lot of process time and it is difficult to form a uniform pattern due to low resolution and misalignment due to repeated printing operations. In the conventional technique, the particle size is several μm, the viscosity is as high as 5000 cp or more, and if the viscosity is lowered in order to apply the table coating method, there is a big problem in the stability of the slurry.

前記従来の技術の問題点を解決するために、本発明はテーブルコーティング法による生産性向上及び薄膜化が可能で、電極形成に使用されるスラリーの量が従来のブラックペースト使用量より少なく、原価節減が可能なだけでなく、ナノ粒子無機物を使用してスラリーの安定性を顕著に向上させることができるPDP電極形成用スラリー組成物を提供することを目的とする。   In order to solve the problems of the conventional technology, the present invention can improve productivity and reduce the film thickness by the table coating method, and the amount of slurry used for electrode formation is less than the conventional black paste usage amount. It is an object of the present invention to provide a slurry composition for forming a PDP electrode that can not only save, but can remarkably improve the stability of the slurry by using nano-particle inorganic substances.

また、本発明は前記PDP電極形成用スラリー組成物を使用して生産性を向上させることができ、薄膜化が可能で、原価を節減することができるだけでなく、スラリーの安定性を顕著に向上させることができるPDP電極形成方法及び前記方法によって形成されたPDP電極を提供することを目的とする。   In addition, the present invention can improve the productivity by using the slurry composition for forming the PDP electrode, can reduce the thickness, and can not only reduce the cost, but also significantly improve the stability of the slurry. It is an object of the present invention to provide a method for forming a PDP electrode, and a PDP electrode formed by the method.

前記目的を達成するために、本発明は、PDP電極形成用スラリー組成物において、
(a)粒子の大きさが10〜1000nmである黒色顔料0.5〜8質量部;
(b)焼成時ガラス化される平均粒子の大きさが1〜500nmであるガラスフリット原料物質0.5〜8質量部;及び
(c)感光性有機成分84〜98質量部を含むことを特徴とするPDP電極形成用スラリー組成物を提供する。
To achieve the above object, the present invention provides a slurry composition for forming a PDP electrode,
(A) 0.5 to 8 parts by mass of a black pigment having a particle size of 10 to 1000 nm;
(B) 0.5 to 8 parts by mass of a glass frit raw material having an average particle size of 1 to 500 nm vitrified upon firing; and (c) 84 to 98 parts by mass of a photosensitive organic component. A slurry composition for forming a PDP electrode is provided.

また、本発明は、PDP電極形成方法において、
(a)前記PDP電極形成用スラリー組成物を基材上に塗布し乾燥する工程;
(b)前記乾燥された基板を露光し現像してパターンを形成する工程;及び
(c)前記パターンが形成された基板を焼成する工程を含むPDP電極形成方法を提供する。
The present invention also provides a method for forming a PDP electrode,
(A) A step of applying the slurry composition for forming the PDP electrode on a substrate and drying it;
(B) A method for forming a PDP electrode, comprising: exposing and developing the dried substrate to form a pattern; and (c) firing the substrate on which the pattern is formed.

さらに、本発明は前記の方法で形成されたPDP電極を提供する。   Furthermore, the present invention provides a PDP electrode formed by the above method.

本発明のPDP電極形成用スラリー組成物は、テーブルコーティング法を使用して生産性向上及び薄膜化が可能で、電極形成に使用されるスラリーの量が従来のペースト使用量より少なく、原価節減が可能なだけでなく、ナノ粒子無機物を使用してスラリーの安定性を顕著に向上させることができる。   The slurry composition for forming a PDP electrode of the present invention can be improved in productivity and thinned by using a table coating method, and the amount of slurry used for electrode formation is less than the amount of paste used in the past, thereby reducing cost. Not only is this possible, nanoparticle minerals can be used to significantly improve the stability of the slurry.

本発明者は、PDP電極形成のためのスラリー組成物において、無機物である黒色顔料とガラスフリットの粒子の大きさをナノメートル水準に維持する場合、スラリーの安定性を顕著に向上させることができ、特にガラスフリットを粒子の大きさが1〜500nmであるガラスフリット原料物質でスラリーを製造し、焼成時にガラスフリットの機能を果たすようにする場合、テーブルコーティング方式でスラリーのコーティングが可能で生産性を顕著に向上させることができることを確認して、本発明を完成した。   In the slurry composition for forming the PDP electrode, the present inventor can remarkably improve the stability of the slurry when the particle size of the inorganic black pigment and glass frit is maintained at the nanometer level. In particular, when manufacturing a glass frit slurry with a glass frit raw material having a particle size of 1 to 500 nm and performing the function of the glass frit during firing, the slurry can be coated by the table coating method and the productivity The present invention was completed by confirming that it was possible to significantly improve.

本発明のPDP電極形成用スラリー組成物は、(a)粒子の大きさが10〜1000nmである黒色顔料0.5〜8質量部;(b)焼成時ガラス化される粒子の大きさが1〜500nmであるガラスフリット原料物質0.5〜8質量部;及び(c)感光性有機成分84〜98質量部を含むことを特徴とする。   The slurry composition for forming a PDP electrode of the present invention comprises (a) 0.5 to 8 parts by mass of a black pigment having a particle size of 10 to 1000 nm; (b) a particle size of 1 that is vitrified upon firing. It contains 0.5 to 8 parts by mass of a glass frit raw material that is ˜500 nm; and (c) 84 to 98 parts by mass of a photosensitive organic component.

本発明のPDP電極形成用スラリー組成物に使用される前記(a)黒色顔料は従来のPDP電極の黒色層の形成に使用された黒色顔料を用いることができ、具体的な一例としては、Cu−Co−Mn系またはコバルト系黒色顔料である。また、前記黒色顔料の粒度は10〜1000nmであるものを使用するのが良い。この場合、コーティング性及びスラリーの分散性と製造されるスラリーの安定性を向上させることができる。本発明のPDP電極形成用スラリー組成物に使用される前記黒色顔料は0.5〜8質量部含まれるのが良く、さらに好ましくは1〜5質量部含まれるのが良い。前記黒色顔料の含量が前記範囲内である場合、膜特性、黒度及び電気抵抗を同時に良好に示すことができる。   As the black pigment (a) used in the slurry composition for forming a PDP electrode of the present invention, a black pigment used for forming a black layer of a conventional PDP electrode can be used, and a specific example is Cu. -Co-Mn or cobalt black pigment. The black pigment preferably has a particle size of 10 to 1000 nm. In this case, the coating property, the dispersibility of the slurry, and the stability of the produced slurry can be improved. The black pigment used in the slurry composition for forming a PDP electrode of the present invention may be contained in an amount of 0.5 to 8 parts by mass, more preferably 1 to 5 parts by mass. When the content of the black pigment is within the above range, the film properties, blackness and electrical resistance can be shown well simultaneously.

本発明のPDP電極形成用スラリー組成物に使用される前記(b)ガラスフリット原料物質は、焼成時基材との密着性及び焼成強度を強化させる作用を果たす。本発明のPDP電極形成用スラリー組成物では、従来には電極形成用ペーストに1〜10μmのガラスフリットを使用したが、その代わりに粒子の大きさが1〜500nmであるガラスフリット原料物質を投入して焼成時にガラスフリットの機能を果たすようにする。前記ガラスフリット原料物質の粒子が前記範囲内である場合、PDP電極形成用スラリー組成物のテーブルコーティング方式でのコーティングを可能にし、薄膜化が可能で、スラリーの安定性を顕著に向上させることができる。好ましくは、前記ガラスフリット原料物質の粒子の大きさは平均粒子が1〜200nmであり、さらに好ましくは1〜50nmである。   The said (b) glass frit raw material used for the slurry composition for PDP electrode formation of this invention fulfill | performs the effect | action which strengthens adhesiveness with a base material at the time of baking, and baking intensity | strength. In the slurry composition for forming a PDP electrode according to the present invention, a glass frit having a particle size of 1 to 500 nm is used instead of a glass frit having a particle size of 1 to 500 nm. Thus, the glass frit function is achieved during firing. When the particles of the glass frit raw material are within the above range, the slurry composition for forming the PDP electrode can be coated by the table coating method, the film thickness can be reduced, and the stability of the slurry can be remarkably improved. it can. The average particle size of the glass frit raw material is preferably 1 to 200 nm, more preferably 1 to 50 nm.

前記ガラスフリット原料物質は、具体的な例として、Bi23、ZnO、B23、In23、CuO、V25、SiO2、K2O、Fe23、Sb23、BaO、P25、TiO2、Al23、及びWO3からなる群より選択される1種以上を用いることができ、好ましくは、ガラスフリット原料物質100質量部に対してBi23 0〜80質量部、ZnO 0〜40質量部、B23 0〜40質量部、In23 0〜10質量部、CuO 0〜10質量部、V25 0〜10質量部、SiO2 0〜10質量部、K2O 0〜10質量部、Fe23 0〜10質量部、Sb23 0〜10質量部、BaO 0〜10質量部、P25 0〜30質量部、TiO2 0〜10質量部、Al23 0〜10質量部、及びWO3 0〜10質量部を含有するものを使用することができる。 Specific examples of the glass frit raw material include Bi 2 O 3 , ZnO, B 2 O 3 , In 2 O 3 , CuO, V 2 O 5 , SiO 2 , K 2 O, Fe 2 O 3 , Sb. One or more selected from the group consisting of 2 O 3 , BaO, P 2 O 5 , TiO 2 , Al 2 O 3 , and WO 3 can be used, and preferably with respect to 100 parts by mass of the glass frit raw material. Bi 2 O 3 0 to 80 parts by Te, 0 to 40 parts by weight of ZnO, B 2 O 3 0 to 40 parts by weight, an In 2 O 3 0 parts by weight, CuO 0 parts by mass, V 2 O 5 0 10 parts by weight, SiO 2 0 parts by weight, K 2 O 0 parts by mass, Fe 2 O 3 0~10 parts by, Sb 2 O 3 0~10 parts by weight, BaO 0 parts by mass, P 2 O 5 0 to 30 parts by weight, TiO 2 0 parts by weight, Al 2 O 3 0 parts by weight, and WO 3 0 quality Part may be used those containing.

特に、PDPバス電極の場合、Bi23 1〜80質量部;ZnO 1〜40質量部;B23 1〜40質量部;In23 1〜10質量部またはAl23 1〜10質量部;CuO 1〜10質量部;SiO2 1〜10質量部を使用するのが良い。さらに好ましくは、Bi23 1〜70質量部;ZnO 1〜15質量部;B23 1〜15質量部;In23 1〜5質量部;CuO 1〜5質量部;及びSiO2 1〜5質量部を含有し、またはBi23 1〜70質量部;ZnO 1〜15質量部;B23 1〜15質量部;Al23 1〜5質量部;CuO 1〜5質量部;及びSiO2 1〜5質量部を含有するのが良い。 In particular, in the case of a PDP bus electrode, Bi 2 O 3 1-80 parts by mass; ZnO 1-40 parts by mass; B 2 O 3 1-40 parts by mass; In 2 O 3 1-10 parts by mass or Al 2 O 3 1 10 parts by weight; CuO 1 to 10 parts by weight; is good to use a SiO 2 1 to 10 parts by weight. More preferably, Bi 2 O 3 1~70 parts by weight; ZnO 1 to 15 parts by weight; B 2 O 3 1 to 15 parts by weight; an In 2 O 3 1 to 5 parts by mass; CuO 1 to 5 parts by mass; and SiO 2 1 to 5 parts by mass or Bi 2 O 3 1 to 70 parts by mass; ZnO 1 to 15 parts by mass; B 2 O 3 1 to 15 parts by mass; Al 2 O 3 1 to 5 parts by mass; CuO 1 ~ 5 parts by mass; and 1 to 5 parts by mass of SiO 2 .

また、好ましくは、前記ガラスフリット原料物質は、焼成時の黒度(色L*)が標準白色プレートを用いて補正した分光測色計(コニカミノルタ社製CM2600d)を使用して測定する時に数値が30以下であるのが良く、さらに好ましくは数値が20以下であるのが良い。前記L*は純水黒色を0とし、純水白色を100とした場合を示すものであって、0に近いほど純粋な黒色を示す。   Preferably, the glass frit raw material has a numerical value when measured using a spectrocolorimeter (CM2600d manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) in which the blackness (color L *) during firing is corrected using a standard white plate. Is preferably 30 or less, more preferably a numerical value of 20 or less. The L * indicates a case where pure water black is 0 and pure water white is 100, and the closer to 0, the more pure black it is.

本発明のPDP電極形成用スラリー組成物に使用される前記ガラスフリット原料物質は0.5〜8質量部含まれるのが良い。0.5質量部未満である場合には基材との密着性及び付置力が低下し、8質量部を超過する場合には膜特性が低下するという問題点がある。好ましくは、1〜5質量部含まれるのが良い。   The glass frit raw material used in the slurry composition for forming a PDP electrode of the present invention may be contained in an amount of 0.5 to 8 parts by mass. When the amount is less than 0.5 parts by mass, the adhesion to the substrate and the attaching force are reduced, and when it exceeds 8 parts by mass, the film characteristics are deteriorated. Preferably, 1 to 5 parts by mass are included.

本発明に適用できる前記(c)感光性有機成分は乾燥及び焼成時に全て除去される物質であって、従来の電極形成用ペーストに適用されるフォトリソグラフィ工程で使用される通常の有機成分が適用される。   The photosensitive organic component (c) that can be applied to the present invention is a substance that is completely removed during drying and baking, and a normal organic component used in a photolithography process applied to a conventional electrode forming paste is applied. Is done.

好ましい具体的な感光性有機成分は、(i)有機バインダー高分子10〜70質量部;(ii)架橋性モノマー10〜50質量部;(iii)開始剤0.1〜10質量部;及び(iv)溶媒5〜60質量部を含むことができる。好ましくは、前記感光性有機成分に使用される溶媒は、一部を(i)有機バインダー高分子;(ii)架橋性モノマー;及び(iii)開始剤と先ず混合してビヒクルを製造し、残り溶媒を前記ビヒクルと黒色顔料、ガラスフリット原料物質と混合する時に使用するのが良い。この場合、製造されたPDP電極形成用スラリーの分散性及び安定性を向上させることができる。ビヒクル製造時に使用される溶媒は全体で使用される溶媒5〜50質量部のうちで5〜40質量部であるのが良い。   Preferred specific photosensitive organic components are: (i) 10-70 parts by weight of organic binder polymer; (ii) 10-50 parts by weight of crosslinkable monomer; (iii) 0.1-10 parts by weight of initiator; iv) 5-60 parts by weight of solvent can be included. Preferably, the solvent used for the photosensitive organic component is partially mixed with (i) an organic binder polymer; (ii) a crosslinkable monomer; and (iii) an initiator to produce a vehicle, and the rest It is preferable to use a solvent when mixing the vehicle with the black pigment and the glass frit raw material. In this case, the dispersibility and stability of the produced slurry for forming the PDP electrode can be improved. The solvent used at the time of vehicle manufacture should be 5 to 40 parts by mass among 5 to 50 parts by mass of the solvent used as a whole.

前記有機バインダーは焼成前ペースト成分の結合及び現像性を付与した作用を果たし、好ましくはアクリレート系樹脂が良く、前記アクリレート系樹脂は不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体、及びアクリル単量体を重合して製造することができる。   The organic binder functions to provide bonding and developability of the paste component before firing, and preferably an acrylate resin. The acrylate resin is an unsaturated carboxylic acid monomer, an aromatic monomer, and an acrylic monomer. It can be produced by polymerizing a monomer.

前記不飽和カルボン酸単量体は高分子内の水素結合を通じて高分子の弾性を増加させる作用を果たし、具体的にアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物形態などを使用することができる。   The unsaturated carboxylic acid monomer acts to increase the elasticity of the polymer through hydrogen bonding in the polymer, specifically acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, or these The acid anhydride form of can be used.

前記不飽和カルボン酸単量体は、アクリレート系樹脂製造時に使用される総単量体に20〜70質量%含まれるのが好ましい。含量が前記範囲内である場合、高分子の弾性特性、重合時ゲル化の防止、及び重合度調節を全て満足させることができる。   The unsaturated carboxylic acid monomer is preferably contained in an amount of 20 to 70% by mass in the total monomers used in the production of the acrylate resin. When the content is within the above range, all of the elastic properties of the polymer, prevention of gelation during polymerization, and adjustment of the polymerization degree can be satisfied.

前記芳香族単量体は基材との密着性と安定的なパターンを形成させる作用を果たし、具体的にスチレン、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、2−ニトロフェニルアクリレート、4−ニトロフェニルアクリレート、2−ニトロフェニルメタクリレート、4−ニトロフェニルメタクリレート、2−ニトロベンジルメタクリレート、4−ニトロベンジルメタクリレート、2−クロロフェニルアクリレート、4−クロロフェニルアクリレート、2−クロロフェニルメタクリレート、または4−クロロフェニルメタクリレートなどを使用することができる。   The aromatic monomer functions to form adhesion and a stable pattern with the substrate, specifically styrene, benzyl methacrylate, benzyl acrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-nitrophenyl acrylate, 4- Nitrophenyl acrylate, 2-nitrophenyl methacrylate, 4-nitrophenyl methacrylate, 2-nitrobenzyl methacrylate, 4-nitrobenzyl methacrylate, 2-chlorophenyl acrylate, 4-chlorophenyl acrylate, 2-chlorophenyl methacrylate, 4-chlorophenyl methacrylate, etc. Can be used.

前記芳香族単量体はアクリレート系樹脂製造時に使用される総単量体に10〜40質量%含まれるのが好ましく、さらに好ましくは15〜25質量%含まれるのが良い。含量が前記範囲内である場合、基材との密着性、パターンの接着力、形成されたパターンの直進性、安定的なパターン実現、焼成工程時容易な除去を全て満足させることができる。   The aromatic monomer is preferably contained in an amount of 10 to 40% by mass, more preferably 15 to 25% by mass, based on the total monomers used in the production of the acrylate resin. When the content is within the above range, the adhesion to the substrate, the adhesive force of the pattern, the straightness of the formed pattern, the realization of a stable pattern, and the easy removal during the firing process can all be satisfied.

前記不飽和カルボン酸単量体と芳香族単量体以外にアクリレート系樹脂製造時に使用されるアクリル単量体は、高分子のガラス転移温度と極性を調節する作用を果たす。   In addition to the unsaturated carboxylic acid monomer and aromatic monomer, the acrylic monomer used in the production of the acrylate resin functions to adjust the glass transition temperature and polarity of the polymer.

前記アクリル単量体は2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、またはn−ブチルアクリレートなどを用いることができ、その含量は高分子のガラス転移温度、耐熱性、基材との親密性などを考慮してアクリレート系樹脂製造時に使用される総単量体に20〜60質量%含まれるのが良い。   As the acrylic monomer, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyoctyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl acrylate, or the like can be used. In consideration of the glass transition temperature of the polymer, heat resistance, intimacy with the base material, etc., it is preferable that the total monomer used in the production of the acrylate-based resin is 20 to 60% by mass.

このような単量体を重合して製造されるアクリレート系樹脂は不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体、及びアクリル単量体のゲル化を防止し適切な揮発性を制御することができるように重合溶媒の存在下で重合して製造することができる。   The acrylate resin produced by polymerizing such monomers prevents gelation of unsaturated carboxylic acid monomers, aromatic monomers, and acrylic monomers and controls proper volatility. Can be produced by polymerization in the presence of a polymerization solvent.

このような単量体を重合溶媒の存在下で重合して得られた前記アクリレート系樹脂は重量平均分子量が10,000〜100,000であるのが好ましく、さらに好ましくは20,000〜50,000であるのが良い。前記範囲内である場合、現像性が良くなる長所がある。   The acrylate resin obtained by polymerizing such a monomer in the presence of a polymerization solvent preferably has a weight average molecular weight of 10,000 to 100,000, more preferably 20,000 to 50,000. 000 is good. When it is within the above range, there is an advantage that developability is improved.

前記重合溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチルエーテルプロピオネート、テルピネオール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアミノホルムアルデヒド、メチルエチルケトン、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、ガンマブチロラクトン、または乳酸エチルなどを単独または2種以上混合して使用することができる。   As the polymerization solvent, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether propionate, ethyl ether propionate, terpineol, propylene glycol monomethyl ether acetate, dimethylamino formaldehyde, methyl ethyl ketone, butyl carbitol, butyl Carbitol acetate, gamma butyrolactone, ethyl lactate or the like can be used alone or in admixture of two or more.

本発明においては、前記有機バインダーは感光性有機成分に10〜70質量部含まれるのが好ましい。前記範囲内である場合、膜形成、スラリー粘度、焼結性を同時に向上させることができる。   In the present invention, the organic binder is preferably contained in the photosensitive organic component in an amount of 10 to 70 parts by mass. When it is within the above range, film formation, slurry viscosity, and sinterability can be improved at the same time.

また、前記架橋性モノマーはスラリーに光硬化性を付与し現像性を促進する作用を果たし、具体的な例としてビスフェノールAエトキシジメタクリレート(A)、ポリオキシメチル−1,2−エタネジル、アルファヒドロオメガ−1−ヨウ素−2−プロフェニルオキシ−エーテル−2−エチル−2−ヒドロオキシメチル−1,3−プロパンジオール、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチルアクリレートなどを単独または混合して使用したり、またはフタル酸、イタコン酸、マレイン酸、コハク酸などの多塩基酸とヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとのポリエステルを使用することができる。   Further, the crosslinkable monomer functions to impart photocurability to the slurry and promote developability, and specific examples include bisphenol A ethoxydimethacrylate (A), polyoxymethyl-1,2-ethanel, alphahydro Omega-1-iodine-2-propenyloxy-ether-2-ethyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyoctyl (meth) acrylate, methyl (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl acrylate, etc. can be used alone or mixed, or polybasic acids such as phthalic acid, itaconic acid, maleic acid, succinic acid and hydroxyethyl (meth) acrylate Polyester with can be used.

前記架橋性モノマーは感光性有機成分に10〜50質量部含まれるのが良い。前記範囲内である場合、微細電極パターンの形成に適合する。   The crosslinkable monomer may be contained in the photosensitive organic component in an amount of 10 to 50 parts by mass. When it is within the above range, it is suitable for forming a fine electrode pattern.

また、前記光開始剤は光反応を開示させる成分であって、具体的な例として、2−ヒドロキシ−1−4−4−2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピニル−ベンジル−ベンジル−2−メチル−プロパン−1−ウォン;1−ブタノン,2−ジメチルアミノ−2−4−メチルフェニルメチル−1−4−4モフォリールフェニル系;2,4−ビストリクロロメチル−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2−p−メトキシスチリル−4,6−ビストリクロロメチル−s−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−4−メチルナフチル−6−トリアジンなどのトリアジン系化合物;ベンゾフェノン、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどのベンゾイン系化合物;2,2−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジブトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルトリクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン系化合物;キサントン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソブチルチオキサントン、2−ドデシルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントンなどのキサントン系化合物;または2,2−ビス−2−クロロフェニル−4,5,4,5−テトラフェニル−2−1,2−ビスイミダゾール、2,2−ビス(2,4,6−トリシアノフェニル)−4,4,5,5−テトラフェニル−1,2−ビスイミダゾールなどのイミダゾール系化合物などを単独または2種以上混合して使用することができる。   In addition, the photoinitiator is a component that discloses a photoreaction, and as a specific example, 2-hydroxy-1-4-4--2-hydroxy-2-methyl-propynyl-benzyl-benzyl-2-methyl -Propane-1-won; 1-butanone, 2-dimethylamino-2--4-methylphenylmethyl-1-4-4 morpholylphenyl; 2,4-bistrichloromethyl-6-p-methoxystyryl-s -Triazine, 2-p-methoxystyryl-4,6-bistrichloromethyl-s-triazine, 2,4-trichloromethyl-6-triazine, 2,4-trichloromethyl-4-methylnaphthyl-6-triazine, etc. Triazine compounds; benzoin compounds such as benzophenone and p- (diethylamino) benzophenone; 2,2-dichloro-4-phen Acetophenone compounds such as xyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloroacetophenone; xanthone, thioxanthone, 2-methyl Xanthone compounds such as thioxanthone, 2-isobutylthioxanthone, 2-dodecylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone; or 2,2-bis-2-chlorophenyl-4,5,4,5- Imidazoles such as tetraphenyl-2-1,2-bisimidazole and 2,2-bis (2,4,6-tricyanophenyl) -4,4,5,5-tetraphenyl-1,2-bisimidazole A single compound or a mixture of two or more It is possible to use.

前記光開始剤は感光性有機成分に0.1〜10質量部含まれるのが好ましい。前記範囲内である場合、硬化性、パターン形成、直進性、保存安定性及び解像度を同時に向上させることができる。好ましくは、前記光開始剤の含量は0.1〜5質量部である。   The photoinitiator is preferably contained in the photosensitive organic component in an amount of 0.1 to 10 parts by mass. When it is within the above range, curability, pattern formation, straightness, storage stability and resolution can be improved at the same time. Preferably, the content of the photoinitiator is 0.1 to 5 parts by mass.

また、前記溶媒は本発明のPDP電極形成用スラリーの粘度調節及び分散性を良好であるようにし、具体的な一例としてプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチルエーテルプロピオネート、テルピネオール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアミノホルムアルデヒド、メチルエチルケトン、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、ガンマブチロラクトン、または乳酸エチルなどを単独または2種以上混合して使用することができる。前記溶媒は感光性有機成分に5〜60質量部含まれるのが良い。前記範囲内である場合、コーティング性、分散性及び安定性を同時に満足させることができる。   In addition, the solvent has good viscosity control and dispersibility of the slurry for forming the PDP electrode of the present invention, and specific examples include propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether propionate, Ethyl ether propionate, terpineol, propylene glycol monomethyl ether acetate, dimethylamino formaldehyde, methyl ethyl ketone, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, gamma butyrolactone, or ethyl lactate can be used alone or in combination of two or more. . The solvent is preferably contained in the photosensitive organic component in an amount of 5 to 60 parts by mass. When it is within the above range, the coating property, dispersibility and stability can be satisfied at the same time.

また、本発明で前記感光性有機成分はレベリング剤をさらに含むことができる。前記レべリング剤はコーティング時にコーティング面の表面を均一にするために混合して使用する。具体的な例として、レべリング剤は1−メトキシ−2−プロパノール、またはプロピレングリコールモノメチルエーテルシロキサンを含むフルオロカーボン系化合物を使用する。好ましくは、前記レべリング剤の含量は0.01〜5質量部である。前記範囲内である場合、コーティング性、現像、焼結状態及びスラリーの安定性を同時に満足させることができる。   In the present invention, the photosensitive organic component may further include a leveling agent. The leveling agents are mixed and used in order to make the surface of the coating surface uniform during coating. As a specific example, the leveling agent uses 1-methoxy-2-propanol or a fluorocarbon-based compound containing propylene glycol monomethyl ether siloxane. Preferably, the leveling agent content is 0.01 to 5 parts by mass. When it is within the above range, the coating property, development, sintered state and slurry stability can be satisfied at the same time.

また、前記感光性有機成分は基板との接着力を増大させ、現像マージンを増大させるために重量平均分子量が300〜1000である架橋性オリゴマーをさらに含むことができる。具体的な例として、前記架橋性オリゴマーはグリセリンプロポキシレイテッドトリアクリレート(GPTA)であるのが良く、感光性有機成分の0.1〜10質量部を使用するのが良い。   In addition, the photosensitive organic component may further include a crosslinkable oligomer having a weight average molecular weight of 300 to 1000 in order to increase adhesion with the substrate and increase a development margin. As a specific example, the crosslinkable oligomer may be glycerin propoxylated triacrylate (GPTA), and 0.1 to 10 parts by mass of a photosensitive organic component may be used.

本発明のPDP電極形成用スラリー組成物に前記感光性有機成分は84〜98質量部含まれるのが良い。前記範囲内である場合、スラリーの安定性、現像性及び作業性を同時に満足させることができる。   The photosensitive organic component may be included in the slurry composition for forming a PDP electrode of the present invention in an amount of 84 to 98 parts by mass. When it is within the above range, the stability, developability and workability of the slurry can be satisfied at the same time.

また、本発明のPDP電極形成用スラリー組成物は無機物の分散性向上のために分散剤をさらに含むことができる。前記分散剤はスラリー組成物に0.01〜5質量部含まれるのが良い。前記分散剤の具体的な例としてはBYK社製の180、151、191、333、345、348、2025等を単独または2種以上混合して使用することができる。   Moreover, the slurry composition for forming a PDP electrode of the present invention may further contain a dispersant for improving the dispersibility of the inorganic substance. The dispersant may be contained in the slurry composition in an amount of 0.01 to 5 parts by mass. As specific examples of the dispersant, 180, 151, 191, 333, 345, 348, 2025, etc. manufactured by BYK can be used alone or in admixture of two or more.

また、このような成分を含む本発明の電極形成用スラリー組成物は、必要によって通常の添加剤である着色剤、染料、分散剤、擦痕防止剤、可塑剤、接着促進剤、速度増進剤、または界面活性剤などを、通常添加剤として使用される含量である0.01〜5質量部の範囲で追加的に含むことができる。これにより個別工程の特性による性能向上を図ることができるのはもちろんである。   In addition, the electrode-forming slurry composition of the present invention containing such components includes, as necessary, colorants, dyes, dispersants, anti-scratch agents, plasticizers, adhesion promoters, and speed enhancers as usual additives. Alternatively, a surfactant or the like can be additionally included in a range of 0.01 to 5 parts by mass which is a content usually used as an additive. Of course, the performance can be improved by the characteristics of the individual processes.

本発明に適用できる前記PDP電極形成用スラリー組成物は、前記記載した必須成分と任意の成分を所定の比率によって配合して製造することができる。特に本発明のPDP電極形成用スラリー組成物は従来のペーストの配合方法である3本ロールミルの代わりにビーズミルを使用して配合することによってスラリー製造の生産性を向上させることができる。   The slurry composition for forming a PDP electrode applicable to the present invention can be produced by blending the above-described essential components and arbitrary components at a predetermined ratio. In particular, the slurry composition for forming a PDP electrode of the present invention can improve the productivity of slurry production by blending using a bead mill instead of a three-roll mill, which is a conventional paste blending method.

本発明のPDP電極形成用スラリー組成物は前記配合後の粘度が10〜80cpであるのが好ましく、さらに好ましくは10〜50cpであるのが良い。前記範囲の粘度を有することによって本発明のPDP電極形成用スラリー組成物は電極形成時テーブルコーティング法によるコーティングが可能になり、薄膜化が可能で、PDP電極製造の生産性を顕著に向上させることができる。   The slurry composition for forming a PDP electrode of the present invention preferably has a viscosity after blending of 10 to 80 cp, more preferably 10 to 50 cp. By having the viscosity within the above range, the slurry composition for forming a PDP electrode of the present invention can be coated by a table coating method at the time of electrode formation, can be made thin, and the productivity of manufacturing the PDP electrode can be remarkably improved. Can do.

また、本発明は前記PDP電極形成用スラリー組成物を利用してPDP電極を製造する方法及び前記方法によって製造されたPDP電極を提供する。本発明のPDP電極製造方法は前記PDP電極形成用スラリー組成物を用いて公知のPDP電極製造方法によって電極を形成することができるのはもちろんである。   The present invention also provides a method for producing a PDP electrode using the slurry composition for forming a PDP electrode and a PDP electrode produced by the method. Of course, the PDP electrode manufacturing method of the present invention can form an electrode by the known PDP electrode manufacturing method using the slurry composition for forming a PDP electrode.

具体的なPDP電極形成の例としては、(a)前記PDPバス電極形成用スラリー組成物を透明基板上に塗布する工程;(b)前記PDPバス電極形成用スラリー組成物が塗布された透明基板を露光し現像してパターンを形成する工程;及び(c)前記パターンが形成された透明基板を焼成する工程を含む方法によってPDP電極を製造することができる。   Specific examples of PDP electrode formation include: (a) a step of applying the PDP bus electrode forming slurry composition on a transparent substrate; (b) a transparent substrate coated with the PDP bus electrode forming slurry composition A PDP electrode can be produced by a method including a step of exposing and developing a pattern to form a pattern; and (c) a step of firing the transparent substrate on which the pattern is formed.

前記透明基板はITOなど通常の基板であっても良く、前記塗布は通常の印刷方法またはコーティング方法を用いることができ、好ましくはテーブルコーティング法が好ましい。前記テーブルコーティング法は、従来技術の電極形成時に使用されたスクリーンプリンティング方式と比較して、電極形成の薄膜化及び生産性、原価節減をもたらすことができる。   The transparent substrate may be a normal substrate such as ITO, and the application can be performed by a normal printing method or a coating method, preferably a table coating method. The table coating method can reduce the thickness of the electrode formation and reduce the productivity and cost as compared with the screen printing method used when forming the electrode according to the prior art.

また、基板上にスラリーを塗布した後の、乾燥、露光、現像及び焼成の一連の電極形成においては、PDP電極形成時に使用される公知の工程を適用することができる。   In addition, in the series of electrode formation of drying, exposure, development and baking after applying the slurry on the substrate, a known process used at the time of forming the PDP electrode can be applied.

以下、本発明の理解のために好ましい実施例を提示するが、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の範囲が下記の実施例に限定されるのではない。   Hereinafter, preferred examples will be presented for the understanding of the present invention. However, the following examples are merely illustrative of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

製造例1〜3:
有機バインダー高分子としてはプロピレングリコールモノメチルエーテルを溶媒としてメタクリル酸(MA):ベンジルアクリレート(BA):2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート(2−HEMA):メチル(メタ)アクリレート(MMA)を単量体として30:20:10:40の質量比率で重合して製造された重量平均分子量が25,000であるアクリレート系樹脂、架橋性モノマーとしてはビスフェノールAエトキシジメタクリレート(A)及びポリオキシメチル−1,2−エタネジル:アルファヒドロオメガ−1−ヨウ素−2−プロフェニルオキシ−エーテル−2−エチル−2−ヒドロオキシメチル−1、3−プロパンジオールを3:1の質量比で混合した混合物(B)、開始剤としては2−ヒドロキシ−1−4−4−2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピニル−ベンジル−ベンジル−2−メチル−プロパン−1−ウォン(C)及び1−ブタノン,2−ジメチルアミノ−2−4−メチルフェニルメチル−1−4−4モフォリールフェニル系(D)、レべリング剤としては1−メトキシ−2−プロパノール(E)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを下記表1の組成として常温で2時間撹拌して感光性有機成分を製造した。単位は質量部である。
Production Examples 1-3:
As the organic binder polymer, propylene glycol monomethyl ether as a solvent, methacrylic acid (MA): benzyl acrylate (BA): 2-hydroxyethyl (meth) acrylate (2-HEMA): methyl (meth) acrylate (MMA) An acrylate resin having a weight average molecular weight of 25,000 produced by polymerization at a mass ratio of 30: 20: 10: 40 as a body, bisphenol A ethoxydimethacrylate (A) and polyoxymethyl- 1,2-Ethanazole: A mixture of alphahydroomega-1-iodine-2-propenyloxy-ether-2-ethyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol mixed at a mass ratio of 3: 1 ( B) As an initiator, 2-hydroxy-1--4-4-2 Hydroxy-2-methyl-propynyl-benzyl-benzyl-2-methyl-propane-1-won (C) and 1-butanone, 2-dimethylamino-2-4-methylphenylmethyl-1-4-4 morpholylphenyl System (D), 1-methoxy-2-propanol (E) as a leveling agent, propylene glycol monomethyl ether as a solvent and a composition shown in Table 1 below were stirred at room temperature for 2 hours to produce a photosensitive organic component. The unit is part by mass.

Figure 0005143683
Figure 0005143683

実施例1〜4、比較例1:
前記製造例1〜3で製造した感光性有機成分と無機成分を下記表2の組成としてビーズミル(ダイノミル)を用いてスラリーを製造した。下記表2で黒色顔料はCu−Mn−Co系の粒子の大きさが10〜1000nmであるものを使用し、ガラスフリット原料物質は粒子の大きさが1〜500nmのBi23 66質量部、ZnO 14質量部、B23 14質量部、In23 2質量部、CuO 2質量部、SiO2 2質量部の混合物(A)またはBi23 66質量部、ZnO 14質量部、B23 14質量部、Al23 2質量部、CuO 2質量部、SiO2 2質量部の比率で混合された混合物(B)である。
Examples 1-4, Comparative Example 1:
A slurry was produced using a bead mill (Dynomill) with the photosensitive organic component and the inorganic component produced in Production Examples 1 to 3 having the composition shown in Table 2 below. Black pigments in the following Table 2 Use a size of Cu-Mn-Co-based particles is 10 to 1000 nm, a glass frit raw materials Bi 2 O 3 66 parts by magnitude of 1~500nm particles , ZnO 14 parts by mass, B 2 O 3 14 parts by mass, In 2 O 3 2 parts by mass, CuO 2 parts by mass, SiO 2 2 parts by mass (A) or Bi 2 O 3 66 parts by mass, ZnO 14 parts by mass , B 2 O 3 14 parts by mass, Al 2 O 3 2 parts by mass, CuO 2 parts by mass, SiO 2 2 parts by mass (B).

Figure 0005143683
Figure 0005143683

実験方法としては、実施例1〜4及び比較例1で製造した電極形成用スラリーをガラス基板上に30、35、40μmの湿潤厚さ別にスピンコーターを使用して全面印刷パターンを形成した後、ボックス型乾燥炉を使用して110℃で5分間乾燥させて溶媒成分を完全に揮発させた。乾燥した試験片に露光量50、70、100mJ/cm2でそれぞれUV照射した後、Na2CO3 0.4質量%水溶液を使用して現像し蒸留水を使用して洗浄した。前記過程でパターンが形成された基板を焼成過程において10℃/分で570℃まで昇温し25分間維持した後、常温に冷却して試験片を製造した。 As an experimental method, after forming the whole surface printing pattern using the spin coater according to the wet thickness of 30, 35, and 40 μm on the glass substrate, the slurry for electrode formation produced in Examples 1 to 4 and Comparative Example 1, The solvent component was completely volatilized by drying at 110 ° C. for 5 minutes using a box type drying furnace. The dried test pieces were each irradiated with UV at an exposure amount of 50, 70, and 100 mJ / cm 2 , developed using a 0.4% by weight aqueous solution of Na 2 CO 3, and washed using distilled water. The substrate on which the pattern was formed in the above process was heated to 570 ° C. at 10 ° C./min and maintained for 25 minutes in the baking process, and then cooled to room temperature to produce a test piece.

前記製造された試験片で現像性、解像性、焼結性、収縮率、黒度及び安定性をそれぞれ以下の方法で測定して、表3に示した。すなわち、現像性は現像マージン(明瞭化時間(Time To Clear)×3倍)で現像してSEM測定を通じて100um、50umパターン形成を観察して、アンダーカット(Under−cut)が発生した場合は×、アンダーカット(Under−cut)が発生しない場合は○と示し、解像性は現像マージン(明瞭化時間(Time To Clear)×3倍)で現像して顕微鏡観察を通じて何μmまでパターン形成がされたか観察し、焼結性は焼成後表面及び断面をSEM測定を通じて組織観察して、気泡が発生して表面と断面状態がち密でない場合は×、気泡は発生しなかったが表面と断面状態がち密でない場合は△、気泡が発生せず表面と断面状態が緻密な場合は○と示し、収縮率はSEM測定を通じて現像後パターン線幅と焼成後パターン線幅との差異値を%で計算し、黒度(色L*)は焼成物質を標準白色プレートを用いて補正した分光測色計(コニカミノルタ社製CM2500d)を使用して測定し(純水黒色を0、純水白色を100)、安定性は30日基準に沈降安定性を固形分で測定した。すなわち、測定しようとするスラリーを30ml容器に入れて、最上と下部をそれぞれ2ml採取して150℃オーブンに1時間乾燥して固形分を測定した。測定結果、10%以上の変化率を見せた場合は×、5〜10%変化率を見せた場合は△、5%未満の変化率を見せた場合は○と示した。   The developability, resolution, sinterability, shrinkage rate, blackness and stability of each of the manufactured test pieces were measured by the following methods and shown in Table 3. That is, developability is developed with a development margin (Time To Clear × 3 times), and 100 μm and 50 μm pattern formation is observed through SEM measurement, and undercut occurs. When under-cut does not occur, it is indicated as ◯, and the resolution is developed with a development margin (Time To Clear × 3 times), and a pattern is formed up to how many μm through microscopic observation. Sinterability is determined by observing the structure of the surface and cross-section after firing through SEM measurement. If bubbles are generated and the surface and cross-sectional state are not dense, ×, no bubbles are generated, but the surface and cross-sectional states are prone. △ when not dense, ◯ when bubbles are not generated and the surface and cross-sectional state are dense, shrinkage is calculated by the difference value between the pattern line width after development and the pattern line width after baking in% through SEM measurement. , Blackness (color L *) was measured using a spectrocolorimeter (CM2500d manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.) in which the calcined material was corrected using a standard white plate (0 for pure water black and 100 for pure water white), and the stability was 30 The sedimentation stability was measured in terms of solid content on a daily basis. That is, the slurry to be measured was put in a 30 ml container, 2 ml each of the uppermost and lower parts were collected, dried in an oven at 150 ° C. for 1 hour, and the solid content was measured. As a result of the measurement, a change rate of 10% or more was shown as x, a change rate of 5-10% was shown as Δ, and a change rate of less than 5% was shown as ◯.

Figure 0005143683
Figure 0005143683

表3に示したように、本発明による実施例1〜4のPDP電極形成用スラリー組成物は現像性、解像性、焼結性、収縮率、黒度及び安定性面で全て同時に優れた結果を示したが、比較例1の場合、現像性、焼結性、安定性面で実施例に比べて顕著に落ちる結果を示した。   As shown in Table 3, the slurry compositions for forming PDP electrodes of Examples 1 to 4 according to the present invention were all excellent at the same time in terms of developability, resolution, sinterability, shrinkage, blackness, and stability. Although the result was shown, in the case of the comparative example 1, the result which falls notably compared with an Example in terms of developability, sinterability, and stability was shown.

一般的なプラズマディスプレイパネル(PDP)の構造を概略的に示した図面である。1 is a diagram schematically illustrating a structure of a general plasma display panel (PDP). 従来の黒色層を有するプラズマディスプレイパネル(PDP)の一例に関する上部基板構造一部の断面を示した図面である。5 is a cross-sectional view of a part of an upper substrate structure related to an example of a conventional plasma display panel (PDP) having a black layer. 本発明のプラズマディスプレイパネル(PDP)の一実施例に関する上部基板構造一部の断面を示した図面である。1 is a cross-sectional view of a part of an upper substrate structure according to an embodiment of a plasma display panel (PDP) of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 蛍光層
20 誘電体層
30 保護層
40 ブラックストライプ
100 上部基板
110 透明基板
120 スキャン電極
121 透明電極(スキャン電極側)
122 黒色層(スキャン電極側)
123 バス電極(スキャン電極側)
130 維持電極
131 透明電極(維持電極側)
132 黒色層(維持電極側)
133 バス電極(維持電極側)
200 プラズマディスプレイパネル
210 アドレス電極
220 障壁
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Fluorescent layer 20 Dielectric layer 30 Protective layer 40 Black stripe 100 Upper substrate 110 Transparent substrate 120 Scan electrode 121 Transparent electrode (scan electrode side)
122 Black layer (scan electrode side)
123 Bus electrode (scan electrode side)
130 sustain electrode 131 transparent electrode (sustain electrode side)
132 Black layer (sustain electrode side)
133 Bus electrode (sustain electrode side)
200 Plasma display panel 210 Address electrode 220 Barrier

Claims (8)

プラズマディスプレイパネル(PDP)バス電極形成用スラリー組成物であって
(a)粒子の大きさが10〜1000nmである黒色顔料0.5〜8質量部;
(b)焼成時ガラス化される平均粒子の大きさが1〜500nmであるガラスフリット原料物質0.5〜8質量部;及び
(c)(i)有機バインダー高分子10〜70質量部、(ii)架橋性モノマー10〜50質量部、(iii)開始剤0.1〜5質量部、及び(iv)溶媒5〜60質量部を含む感光性有機成分84〜98質量部
を含み、
粘度が10〜50cpであり、
テーブルコーティング方式に用いるためのものである、
PDPバス電極形成用スラリー組成物。
A plasma display panel (PDP) a bus electrode-forming slurry composition,
(A) 0.5 to 8 parts by mass of a black pigment having a particle size of 10 to 1000 nm;
(B) 0.5 to 8 parts by mass of a glass frit raw material having an average particle size of 1 to 500 nm vitrified upon firing; and (c) (i) 10 to 70 parts by mass of an organic binder polymer, ( ii) crosslinking monomer 10 to 50 parts by mass, seen containing a (iii) an initiator 0.1 to 5 parts by weight, and (iv) 84-98 parts by photosensitive organic component containing 5 to 60 parts by weight of solvent,
The viscosity is 10-50 cp,
It is for use in the table coating method.
A slurry composition for forming a PDP bus electrode.
前記(b)のガラスフリット原料物質の平均粒子の大きさが1〜200nmである請求項1に記載のPDPバス電極形成用スラリー組成物。 The slurry composition for forming a PDP bus electrode according to claim 1, wherein the average particle size of the glass frit raw material (b) is 1 to 200 nm. 前記ガラスフリット原料物質が、Bi23、ZnO、B23、In23、CuO、V25、SiO2、K2O、Fe23、Sb23、BaO、P25、TiO2、Al23及びWO3からなる群より選択される1種以上である請求項1に記載のPDPバス電極形成用スラリー組成物。 The glass frit raw material is Bi 2 O 3 , ZnO, B 2 O 3 , In 2 O 3 , CuO, V 2 O 5 , SiO 2 , K 2 O, Fe 2 O 3 , Sb 2 O 3 , BaO, The slurry composition for forming a PDP bus electrode according to claim 1, wherein the slurry composition is one or more selected from the group consisting of P 2 O 5 , TiO 2 , Al 2 O 3 and WO 3 . 前記ガラスフリット原料物質が、
Bi23 1〜70質量部;
ZnO 1〜15質量部;
23 1〜15質量部;
In23 1〜5質量部;
CuO 1〜5質量部;及び
SiO2 1〜5質量部を含有する請求項1に記載のPDPバス電極形成用スラリー組成物。
The glass frit raw material is
Bi 2 O 3 1 to 70 parts by weight;
ZnO 1-15 parts by mass;
1 to 15 parts by mass of B 2 O 3 ;
1 to 5 parts by mass of In 2 O 3 ;
The slurry composition for forming a PDP bus electrode according to claim 1, comprising 1 to 5 parts by mass of CuO; and 1 to 5 parts by mass of SiO 2 .
前記ガラスフリット原料物質が、
Bi23 1〜70質量部;
ZnO 1〜15質量部;
23 1〜15質量部;
Al23 1〜5質量部;
CuO 1〜5質量部;及び
SiO2 1〜5質量部を含有する請求項1に記載のPDPバス電極形成用スラリー組成物。
The glass frit raw material is
Bi 2 O 3 1 to 70 parts by weight;
ZnO 1-15 parts by mass;
1 to 15 parts by mass of B 2 O 3 ;
Al 2 O 3 1~5 parts by;
The slurry composition for forming a PDP bus electrode according to claim 1, comprising 1 to 5 parts by mass of CuO; and 1 to 5 parts by mass of SiO 2 .
分散剤0.01〜5質量部をさらに含む請求項1に記載のPDPバス電極形成用スラリー組成物。 The slurry composition for forming a PDP bus electrode according to claim 1, further comprising 0.01 to 5 parts by mass of a dispersant. PDPバス電極形成方法において、
(a)請求項1〜のいずれか1項に記載のPDPバス電極形成用スラリー組成物を基材上にテーブルコーティング方式により塗布し乾燥する工程;
(b)前記乾燥された基板を露光し現像してパターンを形成する工程;及び
(c)前記パターンが形成された基板を焼成する工程を含むことを特徴とするPDPバス電極形成方法。
In the PDP bus electrode forming method,
(A) The process of apply | coating the slurry composition for PDP bus electrode formation of any one of Claims 1-6 on a base material by a table coating system, and drying;
(B) said dried substrate exposure process is developed to form a pattern; and (c) PDP bus electrode forming method characterized by comprising the step of firing the substrate on which the pattern is formed.
請求項の方法で形成されたPDPバス電極。 A PDP bus electrode formed by the method of claim 7 .
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