JP4954647B2 - Plasma display panel having photosensitive paste and fired product pattern formed from the photosensitive paste - Google Patents

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Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと略称する)の隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターン及びブラックマトリックスパターンの形成に有用な感光性ペーストに関する。さらに詳しくは、安定した印刷性を有するPDP用の上記焼成物パターンを形成するために好適に用いられ得、乾燥、露光、現像、焼成の各工程において基板に対する優れた密着性、解像性、焼成性を損なうことなく、焼成皮膜を形成できる感光性ペーストに関するものである。   The present invention relates to a photosensitive paste useful for forming a partition pattern, a dielectric pattern, an electrode pattern, and a black matrix pattern of a plasma display panel (hereinafter abbreviated as PDP). More specifically, it can be suitably used to form the fired product pattern for PDP having stable printability, and has excellent adhesion to the substrate, resolution, and drying, exposure, development, and firing processes. The present invention relates to a photosensitive paste that can form a fired film without impairing the fireability.

PDPは、プラズマ放電による発光を利用して映像や情報の表示を行なう平面ディスプレイであり、パネル構造・駆動方法によってDC型とAC型に分類される。PDPによるカラー表示の原理は、リブ(隔壁)によって離間された前面ガラス基板と背面ガラス基板に形成された対向する両電極間のセル空間(放電空間)内でプラズマ放電を生じさせ、各セル空間内に封入されているHe、Xe等のガスの放電により発生する紫外線で背面ガラス基板内面に形成された蛍光体を励起し、3原色の可視光を発生させるものである。各セル空間は、DC型PDPにおいては格子状のリブにより区画され、一方、AC型PDPにおいては基板面に平行に列設されたリブにより区画されるが、いずれにおいてもセル空間の区画は、リブによりなされている。以下、添付図面を参照しながら簡単に説明する。   The PDP is a flat display that displays images and information using light emission by plasma discharge, and is classified into a DC type and an AC type depending on a panel structure and a driving method. The principle of color display by PDP is that plasma discharge is generated in the cell space (discharge space) between the opposing electrodes formed on the front glass substrate and the rear glass substrate separated by ribs (partition walls), and each cell space. The phosphor formed on the inner surface of the rear glass substrate is excited by ultraviolet rays generated by the discharge of a gas such as He or Xe enclosed therein, and three primary colors of visible light are generated. Each cell space is defined by grid-like ribs in the DC type PDP, and is defined by ribs arranged in parallel to the substrate surface in the AC type PDP. Made by ribs. Hereinafter, it will be briefly described with reference to the accompanying drawings.

図1は、フルカラー表示の3電極構造の面放電方式AC型PDPの構造例を部分的に示している。前面ガラス基板1の下面には、放電のための透明電極3a、3bと該透明電極のライン抵抗を下げるためのバス電極4a、4bとから成る一対の表示電極2a、2bが所定のピッチで多数列設されている。これらの表示電極2a、2bの上には、電荷を蓄積するための透明誘電体層5(低融点ガラス)が印刷、焼成によって形成され、その上に保護層(MgO)6が蒸着されている。保護層6は、表示電極の保護、放電状態の維持等の役割を有している。一方、背面ガラス基板11の上には、放電空間を区画するストライプ状のリブ(隔壁)12と各放電空間内に配されたアドレス電極(データ電極)13が所定のピッチで多数列設されている。また、各放電空間の内面には、赤(14a)、青(14b)、緑(14c)の3色の蛍光体膜が規則的に配され、フルカラー表示においては、前記のように赤、青、緑の3原色の蛍光体膜14a、14b、14cで1つの画素が構成される。   FIG. 1 partially shows an example of the structure of a surface discharge AC type PDP having a three-electrode structure for full color display. On the lower surface of the front glass substrate 1, a large number of a pair of display electrodes 2a and 2b, each consisting of transparent electrodes 3a and 3b for discharging and bus electrodes 4a and 4b for reducing the line resistance of the transparent electrodes, are formed at a predetermined pitch. It is lined up. On these display electrodes 2a and 2b, a transparent dielectric layer 5 (low melting point glass) for accumulating charges is formed by printing and baking, and a protective layer (MgO) 6 is deposited thereon. . The protective layer 6 has a role of protecting the display electrode, maintaining a discharge state, and the like. On the other hand, on the rear glass substrate 11, striped ribs (partitions) 12 partitioning the discharge space and a plurality of address electrodes (data electrodes) 13 arranged in each discharge space are arranged in a predetermined pitch. Yes. In addition, on the inner surface of each discharge space, phosphor films of three colors of red (14a), blue (14b), and green (14c) are regularly arranged, and in full color display, as described above, red, blue The three primary color phosphor films 14a, 14b, and 14c constitute one pixel.

さらに、放電空間を形成する一対の表示電極2a、2bの両側部には、画像のコントラストをさらに高めるために、同様にストライプ状のブラックパターン10,10が形成されている。   Further, striped black patterns 10 and 10 are similarly formed on both sides of the pair of display electrodes 2a and 2b forming the discharge space in order to further increase the contrast of the image.

なお、上記構造のPDPでは、一対の表示電極2aと2bの間に交流のパルス電圧を印加し、同一基板上の電極間で放電させるので、「面放電方式」と呼ばれている。   In the PDP having the above structure, an alternating pulse voltage is applied between the pair of display electrodes 2a and 2b to cause discharge between the electrodes on the same substrate.

また、上記構造のPDPでは、放電により発生した紫外線が背面基板11の蛍光体膜14a、14b、14cを励起し、発生した可視光を前面基板1の透明電極3a、3bを透して見る構造となっている。   In the PDP having the above structure, ultraviolet light generated by discharge excites the phosphor films 14a, 14b, and 14c of the back substrate 11, and the generated visible light is viewed through the transparent electrodes 3a and 3b of the front substrate 1. It has become.

このような構造のPDPにおいて、前記バス電極4a、4bやアドレス電極2a、2bの形成は、従来、Cr−Cu−Crの3層を蒸着やスパッタリングにより成膜した後、フォトリソグラフィー法でパターニングが行なわれてきた。   In the PDP having such a structure, the bus electrodes 4a and 4b and the address electrodes 2a and 2b are conventionally formed by depositing three layers of Cr—Cu—Cr by vapor deposition or sputtering, and then patterning by photolithography. Has been done.

しかし、工程数が多く高コストとなるため、最近では、銀ペースト等の導電性ペーストをスクリーン印刷した後、焼成する方法、あるいは150μm以下の線幅とするためには、感光性導電性ペーストを塗布し、パターンマスクを通して露光した後、現像し、次いで焼成する方法が行なわれている。   However, since the number of steps is high and the cost is high, recently, a method of baking after conductive printing such as silver paste is performed, or in order to obtain a line width of 150 μm or less, photosensitive conductive paste is used. A method of applying, exposing through a pattern mask, developing, and baking is performed.

このようにして電極が形成されるPDPの基板においては、近年、大画面化、低コスト化のために大型の一枚の基板から数枚の基板をつくる多面取りが行われている。しかしながら、スクリーン印刷で基板にペーストの塗布を行った場合、ピンホールや印刷ムラが起こりやすいといった問題があった。   In recent years, PDP substrates on which electrodes are formed in this way have been subjected to multi-sided production of several substrates from a single large substrate in order to increase the screen size and cost. However, when the paste is applied to the substrate by screen printing, there is a problem that pinholes and printing unevenness are likely to occur.

そこで本発明は、このような従来技術が抱える課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、ピンホールや印刷ムラがない印刷が可能な、プラズマディスプレイパネルの高精細な電極パターン等を形成するために用いられる感光性ペーストであって、乾燥、露光、現像、焼成の各工程において基板に対する優れた密着性、解像性、焼成性を損なうことなく、焼成皮膜を形成できる感光性ペーストを提供することにある。   Accordingly, the present invention has been made to solve such problems of the conventional technology, and its main purpose is to provide a high-definition electrode pattern for a plasma display panel that can be printed without pinholes or uneven printing. Is a photosensitive paste that can form a fired film without impairing excellent adhesion, resolution, and fireability to the substrate in each step of drying, exposure, development, and firing. Is to provide a sex paste.

本発明の他の目的は、このような感光性ペーストから高精細の焼成物パターンを形成したプラズマディスプレイパネルを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a plasma display panel in which a high-definition fired product pattern is formed from such a photosensitive paste.

前記目的を達成するために、本発明の第一の態様によれば、(A)有機バインダー、(B)光重合性モノマー、(C)光重合開始剤、(D)無機微粒子、(E)有機溶剤および(F)添加剤を含有する感光性ペーストであって、有機溶剤(E)中に沸点が210℃以上の高沸点有機溶剤を含有し、且つ、添加剤(F)としてアクリル系レベリング剤と共にアミン系及びリン系分散剤から選択される1種又は2種以上の分散剤を含有するプラズマディスプレイパネル用感光性ペーストが提供される。

In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, (A) an organic binder, (B) a photopolymerizable monomer, (C) a photopolymerization initiator, (D) inorganic fine particles, (E) A photosensitive paste containing an organic solvent and (F) additive, the organic solvent (E) contains a high boiling point organic solvent having a boiling point of 210 ° C. or higher, and acrylic leveling as the additive (F) amine and phosphorus-based content of one or a plasma display panel photosensitive paste containing two or more dispersants selected from powders are provided with agent.

本発明の一形態において、前記有機溶剤(E)中に沸点210℃以上の高沸点有機溶剤としてジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含有し、その含有率が感光性ペースト全量に対し5質量%以上である。   In one form of the present invention, diethylene glycol monomethyl ether acetate is contained in the organic solvent (E) as a high boiling point organic solvent having a boiling point of 210 ° C. or higher, and the content thereof is 5% by mass or more based on the total amount of the photosensitive paste.

更に本発明の他の態様によれば、前記感光性ペーストの焼成物から形成された電極を具備するプラズマディスプレイパネルが提供される。   Furthermore, according to another aspect of the present invention, there is provided a plasma display panel comprising an electrode formed from a fired product of the photosensitive paste.

本発明の感光性ペーストを用いピンホールの少ない塗膜を形成することで、電極の欠損や形状不良のないパネルを安定して作れることから、PDPの量産性、低コスト化にとって極めて有用なものである。   By forming a coating film with few pinholes using the photosensitive paste of the present invention, it is possible to stably produce a panel free from electrode defects and shape defects, which is extremely useful for mass production and cost reduction of PDPs. It is.

本発明者らは、前記目的の実現に向け鋭意研究した結果、(A)有機バインダー、(B)光重合性モノマー、(C)光重合開始剤、(D)無機微粒子、(E)有機溶剤、および(F)添加剤を含有する感光性ペーストであって、有機溶剤(E)中に沸点が210℃以上の高沸点有機溶剤を含有し、且つ、添加剤(F)としてアクリル系レベリング剤と共にアミン系、リン系及びカルボン酸系分散剤から選択される1種又は2種以上の分散剤を含有する感光性ペーストは、ガラス基板印刷後の塗膜が均一でピンホールの少ないものとなり、その結果、電極の欠損や形状不良のないパネルを安定して作製できることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。   As a result of intensive research aimed at realizing the above object, the present inventors have found that (A) an organic binder, (B) a photopolymerizable monomer, (C) a photopolymerization initiator, (D) inorganic fine particles, and (E) an organic solvent. And (F) a photosensitive paste containing an additive, the organic solvent (E) contains a high-boiling organic solvent having a boiling point of 210 ° C. or higher, and an acrylic leveling agent as the additive (F) A photosensitive paste containing one or more dispersants selected from amine-based, phosphorus-based and carboxylic acid-based dispersants has a uniform coating film after glass substrate printing and has few pinholes. As a result, it has been found that a panel free from electrode defects and shape defects can be stably produced, and the present invention has been completed.

本発明の感光性ペーストに用いられる有機バインダー(A)としては、カルボキシル基を有する樹脂、具体的にはそれ自体がエチレン性不飽和二重結合を有するカルボキシル基含有感光性樹脂およびエチレン性不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂のいずれも使用可能である。具体的には、以下のようなものが挙げられる。   Examples of the organic binder (A) used in the photosensitive paste of the present invention include a carboxyl group-containing resin, specifically, a carboxyl group-containing photosensitive resin having an ethylenically unsaturated double bond and an ethylenically unsaturated group. Any carboxyl group-containing resin having no double bond can be used. Specific examples include the following.

(1)(メタ)アクリル酸などの不飽和カルボン酸と、メチル(メタ)アクリレートなどの不飽和二重結合を有する化合物を共重合させることによって得られるカルボキシル基含有樹脂、
(2)(メタ)アクリル酸などの不飽和カルボン酸と、メチル(メタ)アクリレートなどの不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、グリシジル(メタ)アクリレートや(メタ)アクリル酸クロライドなどにより、エチレン性不飽和基をペンダントとして付加させることによって得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
(3)グリシジル(メタ)アクリレートなどのエポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物と、メチル(メタ)アクリレートなどの不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、(メタ)アクリル酸などの不飽和カルボン酸を反応させ、生成した2級の水酸基にテトラヒドロフタル酸無水物などの多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
(4)無水マレイン酸などの不飽和二重結合を有する酸無水物と、スチレンなどの不飽和二重結合を有する化合物の共重合体に、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの水酸基と不飽和二重結合を有する化合物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
(5)多官能エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸などの不飽和モノカルボン酸を反応させ、生成した2級の水酸基にテトラヒドロフタル酸無水物などの多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、
(6)メチル(メタ)アクリレートなどの不飽和二重結合を有する化合物とグリシジル(メタ)アクリレートの共重合体のエポキシ基に、1分子中に1つのカルボキシル基を有し、エチレン性不飽和結合を持たない有機酸を反応させ、生成した2級の水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂、
(7)ポリビニルアルーコールなどの水酸基含有ポリマーに多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂、及び
(8)ポリビニルアルーコールなどの水酸基含有ポリマーに、テトラヒドロフタル酸無水物などの多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有樹脂に、グリシジル(メタ)アクリレートなどのエポキシ基と不飽和二重結合を有する化合物をさらに反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂などが挙げられ、特に(1)、(2)、(3)、(6)の樹脂が好適に用いられる。
(1) a carboxyl group-containing resin obtained by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid and a compound having an unsaturated double bond such as methyl (meth) acrylate,
(2) A copolymer of an unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid and a compound having an unsaturated double bond such as methyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid chloride, etc. A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding an ethylenically unsaturated group as a pendant,
(3) A copolymer of an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate and an unsaturated double bond and a compound having an unsaturated double bond such as methyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, etc. A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting an unsaturated carboxylic acid of the product, and reacting a polybasic acid anhydride such as tetrahydrophthalic acid anhydride with the generated secondary hydroxyl group,
(4) To a copolymer of an acid anhydride having an unsaturated double bond such as maleic anhydride and a compound having an unsaturated double bond such as styrene, a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a compound having a saturated double bond;
(5) A carboxyl obtained by reacting a polyfunctional epoxy compound with an unsaturated monocarboxylic acid such as (meth) acrylic acid, and reacting the resulting secondary hydroxyl group with a polybasic acid anhydride such as tetrahydrophthalic anhydride. Group-containing photosensitive resin,
(6) An epoxy group of a copolymer of an unsaturated double bond such as methyl (meth) acrylate and a glycidyl (meth) acrylate has one carboxyl group in one molecule, and an ethylenically unsaturated bond A carboxyl group-containing resin obtained by reacting an organic acid not having a hydrogen atom, and reacting a polybasic acid anhydride with the generated secondary hydroxyl group,
(7) a carboxyl group-containing resin obtained by reacting a polybasic acid anhydride with a hydroxyl group-containing polymer such as polyvinyl alcohol, and (8) a hydroxyl group-containing polymer such as polyvinyl alcohol with a polytetrahydrophthalic anhydride Examples include carboxyl group-containing photosensitive resins obtained by further reacting a carboxyl group-containing resin obtained by reacting a basic acid anhydride with a compound having an unsaturated double bond with an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate. In particular, the resins (1), (2), (3), and (6) are preferably used.

なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート、メタクリレート及びそれらの混合物を総称する用語で、他の類似の表現についても同様である。   In addition, in this specification, (meth) acrylate is a term that collectively refers to acrylate, methacrylate, and mixtures thereof, and the same applies to other similar expressions.

このカルボキシル基含有樹脂及びカルボキシル基含有感光性樹脂は、単独でまたは混合して用いてもよいが、いずれの場合でもこれらは合計で組成物全質量の10〜80質量%の割合で配合することが好ましい。これらのポリマーの配合量が上記範囲よりも少な過ぎる場合、形成する皮膜中の上記樹脂の分布が不均一になり易く、充分な光硬化性および光硬化深度が得られ難く、選択的露光、現像によるパターニングが困難となる。一方、上記範囲よりも多過ぎると、焼成時のパターンのよれや線幅収縮を生じ易くなるので好ましくない。   These carboxyl group-containing resins and carboxyl group-containing photosensitive resins may be used alone or in combination, but in any case, they should be blended in a proportion of 10 to 80% by mass of the total mass of the composition. Is preferred. When the blending amount of these polymers is less than the above range, the distribution of the resin in the film to be formed tends to be non-uniform, and it is difficult to obtain sufficient photocurability and photocuring depth, and selective exposure and development. Makes patterning difficult. On the other hand, if it is more than the above range, it is not preferable because the pattern during baking and the shrinkage of the line width are likely to occur.

また、上記カルボキシル基含有樹脂及びカルボキシル基含有感光性樹脂としては、それぞれ重量平均分子量1,000〜100,000、より好ましくは5,000〜70,000、および酸価50〜250mgKOH/g、かつ、カルボキシル基含有感光性樹脂の場合、その二重結合当量が350〜2,000、より好ましくは400〜1,500のものを好適に用いることができる。上記樹脂の分子量が1,000より低い場合、現像時の皮膜の密着性に悪影響を与え、一方、100,000よりも高い場合、現像不良を生じ易いので好ましくない。また、酸価が50mgKOH/gより低い場合、アルカリ水溶液に対する溶解性が不充分で現像不良を生じ易く、一方、250mgKOH/gより高い場合、現像時に皮膜の密着性の劣化や光硬化部(露光部)の溶解が生じるので好ましくない。さらに、カルボキシル基含有感光性樹脂の場合、感光性樹脂の二重結合当量が350よりも小さいと、焼成時に残渣が残り易くなり、一方、2,000よりも大きいと、現像時の作業余裕度が狭く、また光硬化時に高露光量を必要とするので好ましくない。   The carboxyl group-containing resin and the carboxyl group-containing photosensitive resin each have a weight average molecular weight of 1,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 70,000, and an acid value of 50 to 250 mgKOH / g, and In the case of a carboxyl group-containing photosensitive resin, those having a double bond equivalent of 350 to 2,000, more preferably 400 to 1,500 can be suitably used. When the molecular weight of the resin is lower than 1,000, the adhesion of the film during development is adversely affected. On the other hand, when the molecular weight is higher than 100,000, development defects are liable to occur. On the other hand, when the acid value is lower than 50 mgKOH / g, the solubility in an alkaline aqueous solution is insufficient and development failure tends to occur. On the other hand, when the acid value is higher than 250 mgKOH / g, the adhesion of the film is deteriorated during development and the photocured part (exposure) Part) is not preferable. Further, in the case of a carboxyl group-containing photosensitive resin, if the double bond equivalent of the photosensitive resin is less than 350, a residue is likely to remain at the time of baking, whereas if it is greater than 2,000, a work margin at the time of development. Is narrow, and a high exposure amount is required at the time of photocuring.

本発明の感光性ペーストに用いられる光重合性モノマー(B)は、組成物の光硬化性の促進及び現像性を向上させるために用いる。例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート,2−ヒドロキシプロピルアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリウレタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及び上記アクリレートに対応する各メタクリレート類;フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、こはく酸、トリメリット酸、テレフタル酸等の多塩基酸とヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとのモノ−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステルなどが挙げられるが、特定のものに限定されるものではなく、またこれらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの光重合性モノマーの中でも、1分子中に2個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。   The photopolymerizable monomer (B) used in the photosensitive paste of the present invention is used for promoting photocurability and improving developability of the composition. For example, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyurethane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, tri Methylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate and each methacrylate corresponding to the above acrylate; phthalic acid, adipic acid, maleic acid, itaconic acid, Succinic acid, trimellitic acid, Examples include mono-, di-, tri- or higher polyesters of polybasic acids such as phthalic acid and hydroxyalkyl (meth) acrylates, but are not limited to specific ones. Or two or more types can be used in combination. Among these photopolymerizable monomers, polyfunctional monomers having two or more acryloyl groups or methacryloyl groups in one molecule are preferable.

このような光重合性モノマー(B)の配合割合は、前記有機バインダー(カルボキシル基含有感光性樹脂及び/又はカルボキシル基含有樹脂)(A)100質量部当り、20〜100質量部が適当である。光重合性モノマー(B)の配合量が上記範囲よりも少ない場合、組成物の充分な光硬化性が得られ難くなり、一方、上記範囲を超えて多量になると、皮膜の深部に比べて表面部の光硬化が早くなるため硬化むらを生じ易くなる。   The blending ratio of such a photopolymerizable monomer (B) is suitably 20 to 100 parts by mass per 100 parts by mass of the organic binder (carboxyl group-containing photosensitive resin and / or carboxyl group-containing resin) (A). . When the amount of the photopolymerizable monomer (B) is less than the above range, it is difficult to obtain sufficient photocurability of the composition. On the other hand, when the amount exceeds the above range, the surface is larger than the deep part of the film. Since the photo-curing of the part is accelerated, uneven curing is likely to occur.

本発明の感光性ペーストに用いられる光重合開始剤(C)の具体的なものとしては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン等のアミノアセトフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;又はキサントン類;(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィネイト等のフォスフィンオキサイド類;各種パーオキサイド類などが挙げられ、これら公知慣用の光重合開始剤を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the photopolymerization initiator (C) used in the photosensitive paste of the present invention include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether; acetophenone, 2, Acetophenones such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopro Pan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone and the like Minoacetophenones; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone; 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2 Thioxanthones such as 1,4-diisopropylthioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenones such as benzophenone; or xanthones; (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-pentylphosphine oxide Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, ethyl-2,4,6-tri Phosphine oxide such as chill benzoylphenyl phosphinate Nate; various peroxides and the like can be used alone or in combination of two or more of these conventionally known photopolymerization initiator.

これらの光重合開始剤(C)の配合割合は、前記有機バインダー(カルボキシル基含有感光性樹脂及び/又はカルボキシル基含有樹脂)(A)100質量部当り、1〜30質量部が適当であり、好ましくは、5〜20質量部である。   The mixing ratio of these photopolymerization initiators (C) is suitably 1 to 30 parts by mass per 100 parts by mass of the organic binder (carboxyl group-containing photosensitive resin and / or carboxyl group-containing resin) (A), Preferably, it is 5-20 mass parts.

また、上記のような光重合開始剤(C)は、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のような光増感剤の1種あるいは2種以上と組み合わせて用いることができる。   The photopolymerization initiator (C) is composed of N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, triethanolamine. It can be used in combination with one or more photosensitizers such as tertiary amines.

さらに、より深い光硬化深度を要求される場合、必要に応じて、可視領域でラジカル重合を開始するチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製イルガキュアー784等のチタノセン系光重合開始剤、ロイコ染料等を硬化助剤として組み合わせて用いることができる。   Furthermore, when a deeper photocuring depth is required, a titanocene photopolymerization initiator such as Irgacure 784 manufactured by Ciba Specialty Chemicals, which starts radical polymerization in the visible region, and leuco dyes are cured as necessary. It can be used in combination as an auxiliary agent.

さらに、より深い光硬化深度を要求される場合、必要に応じて、熱重合触媒を前記光重合開始剤(C)と併用して用いることができる。この熱重合触媒は、数分から1時間程度にわたって高温におけるエージングにより未硬化の光重合性モノマーを反応させうるものであり、具体的には、過酸化ベンゾイル等の過酸化物、アゾイソブチロニトリル等のアゾ化合物等があり、好ましくは、2,2´−アゾビスイソブチロニトリル、2,2´−アゾビス−2−メチルブチロニトリル、2,2´−アゾビス−2,4−ジバレロニトリル、1´−アゾビス−1−シクロヘキサンカルボニトリル、ジメチル−2,2´−アゾビスイソブチレイト、4,4´−アゾビス−4−シアノバレリックアシッド、2−メチル−2,2´−アゾビスプロパンニトリル、2,4−ジメチル−2,2,2´,2´―アゾビスペンタンニトリル、1,1´−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)、2,2,2´,2´−アゾビス(2−メチルブタナミドオキシム)ジヒドロクロライド等が挙げられ、より好ましいものとしては環境にやさしいノンシアン、ノンハロゲンタイプの1,1´−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)が挙げられる。   Furthermore, when a deeper photocuring depth is required, a thermal polymerization catalyst can be used in combination with the photopolymerization initiator (C) as necessary. This thermal polymerization catalyst is capable of reacting an uncured photopolymerizable monomer by aging at a high temperature for several minutes to about 1 hour. Specifically, a peroxide such as benzoyl peroxide, azoisobutyronitrile, etc. Azo compounds such as 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis-2-methylbutyronitrile, 2,2′-azobis-2,4-gibarero Nitrile, 1'-azobis-1-cyclohexanecarbonitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid, 2-methyl-2,2'-azo Bispropanenitrile, 2,4-dimethyl-2,2,2 ′, 2′-azobispentanenitrile, 1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane), 2, , 2 ′, 2′-azobis (2-methylbutanamide oxime) dihydrochloride and the like, and more preferable are environmentally friendly non-cyanide and non-halogen type 1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenyl) Ethane).

本発明の感光性ペーストは無機微粒子(D)を含有し、該無機微粒子(D)として、ガラス微粒子、顔料、導電性金属粉又は金属酸化物、および無機フィラーの1種もしくは2種以上を含有することが好ましい。
無機成分の内容は、所望の焼成物パターンによって異なる。まず、隔壁パターン及び誘電体パターンの形成の場合にはガラス微粒子が用いられ、ブラックマトリックスパターンの場合にはガラス微粒子と黒色顔料が用いられる。一方、電極パターン形成の場合には、導電性粉末(導電性金属粉又は/及び金属酸化物)が用いられるが、後述するように焼成性を向上させるために適量のガラス微粒子を併用することが好ましく、また黒色電極パターンを形成する場合にはさらに黒色顔料も用いられる。その他、所望に応じて骨材(無機フィラー)を感光性ペースト組成物に添加できる。
The photosensitive paste of the present invention contains inorganic fine particles (D), and the inorganic fine particles (D) contain glass fine particles, pigments, conductive metal powders or metal oxides, and one or more of inorganic fillers. It is preferable to do.
The content of the inorganic component varies depending on the desired fired product pattern. First, in the case of forming a partition pattern and a dielectric pattern, glass fine particles are used, and in the case of a black matrix pattern, glass fine particles and a black pigment are used. On the other hand, in the case of electrode pattern formation, conductive powder (conductive metal powder and / or metal oxide) is used, but an appropriate amount of glass fine particles may be used in combination in order to improve firing properties as will be described later. Further, when forming a black electrode pattern, a black pigment is also used. In addition, an aggregate (inorganic filler) can be added to the photosensitive paste composition as desired.

ガラス微粒子としては、ガラス転移点(Tg)300〜500℃、ガラス軟化点(Ts)400〜600℃を有するもの、例えば酸化鉛、酸化ビスマス、又は酸化亜鉛を主成分とするものが好適に使用できる。また、解像度の点からは、平均粒径10μm以下、好ましくは3μm以下のガラス微粒子が好適に用いられる。   As the glass fine particles, those having a glass transition point (Tg) of 300 to 500 ° C. and a glass softening point (Ts) of 400 to 600 ° C., for example, those mainly composed of lead oxide, bismuth oxide, or zinc oxide are preferably used. it can. From the viewpoint of resolution, glass fine particles having an average particle diameter of 10 μm or less, preferably 3 μm or less are suitably used.

無機微粒子(D)における黒色顔料は、焼成物パターンに黒色が求められる場合に使用され、Fe、Co、Ni、Cu、Mn、Al等の1種又は2種類以上の金属酸化物からなる黒色顔料を添加することができる。   The black pigment in the inorganic fine particles (D) is used when black is required for the fired product pattern, and is composed of one or more metal oxides such as Fe, Co, Ni, Cu, Mn, and Al. Can be added.

無機微粒子(D)における導電性金属粉又は金属酸化物としては、比抵抗値が1×103Ω・cm以下の導電性粉末であれば幅広く用いることができ、銀(Ag)、金(Au)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、錫(Sn)、鉛(Pb)、亜鉛(Zn)、鉄(Fe)、白金(Pt)、イリジウム(Ir)、オスミウム(Os)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)などの単体とその合金の他、酸化錫(SnO2)、酸化インジウム(In23)、ITO(Indium Tin Oxide)、酸化ルテニウム(RuO2)などを用いることができる。これらは単独で又は2種以上の混合粉として用いることができる。 As the conductive metal powder or metal oxide in the inorganic fine particles (D), any conductive powder having a specific resistance value of 1 × 10 3 Ω · cm or less can be used widely. Silver (Ag), gold (Au ), Nickel (Ni), copper (Cu), aluminum (Al), tin (Sn), lead (Pb), zinc (Zn), iron (Fe), platinum (Pt), iridium (Ir), osmium (Os) ), Palladium (Pd), rhodium (Rh), ruthenium (Ru), tungsten (W), molybdenum (Mo), etc. and their alloys, as well as tin oxide (SnO 2 ), indium oxide (In 2 O 3 ) Indium Tin Oxide (ITO), ruthenium oxide (RuO 2 ), or the like can be used. These can be used alone or as a mixed powder of two or more.

上記導電性金属粉又は金属酸化物の形状は球状、フレーク状、樹脂状など種々のものを用いることができるが、光特性、分散性を考慮すると、球状のものを用いることが好ましい。また、平均粒径としては、解像度の点から10μm以下のもの、好ましくは5μm以下のものを用いることが適切である。また、導電性金属粉の酸化防止、組成物内での分散性向上、現像性の安定化のため、特にAg、Ni、Alについては脂肪酸による処理を行うことが好ましい。脂肪酸としては、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアリン酸等が挙げられる。   Various shapes such as a spherical shape, a flake shape, and a resin shape can be used for the conductive metal powder or the metal oxide, but it is preferable to use a spherical shape in consideration of optical characteristics and dispersibility. The average particle diameter is suitably 10 μm or less, preferably 5 μm or less from the viewpoint of resolution. In order to prevent the conductive metal powder from being oxidized, to improve the dispersibility in the composition, and to stabilize the developability, it is particularly preferable to treat Ag, Ni, and Al with a fatty acid. Examples of the fatty acid include oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, stearic acid, and the like.

このような導電性金属粉又は金属酸化物の配合量の配合割合としては、前記感光性ペースト全量に対し50〜80質量%が適当である。導電性粉末の配合量が上記範囲よりも少ない場合、かかるペーストから得られる導電体パターンの充分な導電性が得られず、一方、上記範囲を超えて多量になると、基材との密着性が悪くなるので好ましくない。   The mixing ratio of the conductive metal powder or metal oxide is appropriately 50 to 80% by mass with respect to the total amount of the photosensitive paste. When the blending amount of the conductive powder is less than the above range, sufficient conductivity of the conductor pattern obtained from such a paste cannot be obtained. On the other hand, when the amount exceeds the above range, the adhesion to the substrate is poor. Since it gets worse, it is not preferable.

無機微粒子(D)における無機フィラーとしては、アルミナ、シリカ、ジルコン、酸化チタンなど、隔壁等の焼成物パターン内部の緻密性向上に寄与できるものは全て用いることができる。つまり、ガラス成分は焼成時に収縮するが、無機フィラーの配合量によって収縮率と内部緻密性を調整することができる。   As the inorganic filler in the inorganic fine particles (D), any material that can contribute to improving the denseness inside the fired product pattern such as partition walls, such as alumina, silica, zircon, and titanium oxide, can be used. That is, the glass component shrinks during firing, but the shrinkage rate and internal denseness can be adjusted by the blending amount of the inorganic filler.

本発明の感光性ペーストに用いられる有機溶剤(E)としては、特に沸点が210℃以上の高沸点有機溶剤を用いることが好ましく、グリコールエステル類(例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ブチルカルビトールアセテート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジイソブチレート等);グリコールエーテル類(例えば、エチレングリコール2−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールn−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコール2−エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノトリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールn−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールトリプロピレングリコールn−ブチルエーテル等);アルコール類(例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、オクタンジオール、ブチルカルビトール等);炭化水素類(例えば、商品名ソルベッソ♯150、ソルベッソ♯200)等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上を混合して用いることができる。なかでもジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好適である。なお、沸点の上限は特に限定されるものではないが、乾燥等の観点から300℃以下であることが適当である。   As the organic solvent (E) used in the photosensitive paste of the present invention, it is particularly preferable to use a high boiling organic solvent having a boiling point of 210 ° C. or higher, and glycol esters (for example, diethylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether). Acetate, butyl carbitol acetate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol diisobutyrate, etc.); glycol ethers (for example, ethylene glycol 2-ethylhexyl ether, ethylene glycol phenyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol) n-hexyl ether, diethylene glycol 2-ethylhexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monotri Tylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol tripropylene glycol n-butyl ether, etc.); alcohols (for example, diethylene glycol, Triethylene glycol, 1,4-butanediol, octanediol, butyl carbitol and the like); hydrocarbons (for example, trade names Solvesso # 150, Solvesso # 200) and the like. These may be used alone or in combination of two or more. It can be used by mixing. Of these, diethylene glycol monomethyl ether acetate is preferred. The upper limit of the boiling point is not particularly limited, but is suitably 300 ° C. or less from the viewpoint of drying and the like.

このような有機溶剤(E)の好適な配合割合は、ペースト全量に対して好ましくは5質量%以上、より好ましくは5質量%以30質量%以下である。5質量%より少ないと印刷時に版離れ不良が生じ、好ましくない。また30質量%を超えて含有するとペーストの粘度が低下し、かつ印刷後の塗膜が乾燥しにくくなるため、好ましくない。   A suitable blending ratio of such an organic solvent (E) is preferably 5% by mass or more, more preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less, based on the total amount of the paste. If it is less than 5% by mass, a plate separation failure occurs during printing, which is not preferable. Moreover, when it contains exceeding 30 mass%, since the viscosity of a paste falls and the coating film after printing becomes difficult to dry, it is unpreferable.

さらにジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート等、沸点が210℃以上の高沸点有機溶剤以外の溶剤として、適宜の量の有機溶剤を配合することができる。具体的には、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、γ−ブチロラクトンなどのエステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、テルピネオールなどのアルコール類;オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート等が挙げられ、これらを単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Furthermore, as a solvent other than the high boiling organic solvent having a boiling point of 210 ° C. or higher, such as diethylene glycol monomethyl ether acetate, an appropriate amount of an organic solvent can be blended. Specifically, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; cellosolve, methylcellosolve, carbitol, methylcarbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether Glycol ethers such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate, and esters such as γ-butyrolactone Alcohols such as ethanol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol, and terpineol; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane Petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate, and the like can be mentioned. Can be used in combination.

本発明の感光性ペーストにおいては、光硬化性樹脂組成物に多量の無機粉末を配合した場合、得られる組成物の保存安定性が悪く、ゲル化や流動性の低下により塗布作業性が悪くなる傾向がある。従って、本発明の組成物では、組成物の保存安定性向上のため、無機粉末の成分である金属あるいは酸化物粉末との錯体化あるいは塩形成などの効果のある化合物を、安定剤として添加することができる。安定剤としては、無機酸としてホウ酸、有機酸としては;ギ酸、酢酸、りんご酸、マロン酸、アセト酢酸、クエン酸、ステアリン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、ベンゼンスルホン酸、スルファミン酸;その他にリン酸、亜リン酸、次亜リン酸、リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸ブチル、リン酸フェニル、亜リン酸エチル、亜リン酸ジフェニル、モノ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェート等の各種リン酸化合物(無機リン酸、有機リン酸)などの酸が挙げられ、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   In the photosensitive paste of the present invention, when a large amount of inorganic powder is blended in the photocurable resin composition, the storage stability of the resulting composition is poor, and the coating workability is deteriorated due to gelation and fluidity reduction. Tend. Therefore, in the composition of the present invention, in order to improve the storage stability of the composition, a compound having an effect of complexing or forming a salt with a metal or oxide powder which is a component of the inorganic powder is added as a stabilizer. be able to. As stabilizer, boric acid as inorganic acid, organic acid; formic acid, acetic acid, malic acid, malonic acid, acetoacetic acid, citric acid, stearic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, benzenesulfonic acid, sulfamic acid Other than phosphoric acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid, methyl phosphate, ethyl phosphate, butyl phosphate, phenyl phosphate, ethyl phosphite, diphenyl phosphite, mono (2-methacryloyloxyethyl) acid Acids, such as various phosphoric acid compounds (inorganic phosphoric acid, organic phosphoric acid), such as a phosphate, are mentioned, It can use individually or in combination of 2 or more types.

本発明の感光性ペーストは、添加剤(F)としてアクリル系レベリング剤と共にアミン系、リン系及びカルボン酸系分散剤から選択される1種又は2種以上の分散剤を含有する。   The photosensitive paste of the present invention contains one or more dispersants selected from amine-based, phosphorus-based and carboxylic acid-based dispersants together with an acrylic leveling agent as an additive (F).

アクリル系レベリング剤(消泡剤)として、具体的には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレートシクロヘキシルアクリレートなどのアクリレートおよびそれに対応するメタクリレートなどを単独で、または2種以上を共重合した共重合物として用いることができる。市場で入手可能な商品では、例えば、モダフロー(サーフェス・スペシャリティーズ社製)、ポリフローNo.75、No.77、No.85、No.90、No.95、ポリフローS(いずれも共栄社化学株式会社製)、BYK−354、−350、−352、−355、−356(いずれもBYK Chemie社製)等を使用することができる。アクリル系レベリング剤は、アクリル系有機バインダーに対し適度な相溶性を有しているため、レベリング剤としてシリコーン系を用いた場合に見られるような相溶性の悪さによるはじき等の不具合を防ぐことができる。   As acrylic leveling agents (antifoaming agents), specifically, acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, tert-butyl acrylate cyclohexyl acrylate and the like Can be used alone or as a copolymer obtained by copolymerizing two or more of them. Examples of commercially available products include Modaflow (manufactured by Surface Specialties), Polyflow No. 75, no. 77, no. 85, no. 90, no. 95, Polyflow S (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), BYK-354, -350, -352, -355, -356 (all manufactured by BYK Chemie) can be used. Acrylic leveling agents have moderate compatibility with acrylic organic binders, thus preventing problems such as repellency due to poor compatibility, as seen when using silicones as leveling agents. it can.

分散剤として、市場で入手可能な商品としては、例えば、アミン系分散剤としてDisperbyk(登録商標)−112、−161、−182、−191(いずれもBYK Chemie社製);リン系分散剤としてライトエステルP−1M(大阪有機化学工業株式会社製)、JPA−514(城北化学工業株式会社製)、Disperbyk−110、−111、−142、−180(いずれもBYK Chemie社製)、DA−325(楠本化成株式会社製);カルボン酸系分散剤としてBYK−P105(BYK Chemie社製)、フローレンG−700(共栄社化学株式会社製)等を使用することができる。   As a commercially available product as a dispersant, for example, Disperbyk (registered trademark) -112, -161, -182, -191 (all manufactured by BYK Chemie) as an amine dispersant; Light ester P-1M (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), JPA-514 (manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.), Disperbyk-110, -111, -142, -180 (all manufactured by BYK Chemie), DA- 325 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.); BYK-P105 (manufactured by BYK Chemie), Florene G-700 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the like can be used as the carboxylic acid dispersant.

本発明においてアクリル系レベリング剤及び分散剤の好適な配合割合は、前記有機バインダー(A)100質量部当たり、それぞれ1〜10質量部である。また、アクリル系レベリング剤と分散剤相互の配合比率は1:10〜10:1が好ましい。   In this invention, the suitable mixture ratio of an acrylic leveling agent and a dispersing agent is 1-10 mass parts per 100 mass parts of said organic binder (A), respectively. The blending ratio between the acrylic leveling agent and the dispersant is preferably 1:10 to 10: 1.

さらにまた、必要に応じて、公知慣用の酸化防止剤や、保存時の熱的安定性を向上させるための熱重合禁止剤、焼成時における基板との結合成分としての金属酸化物、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物などの微粒子を添加することもできる。   Furthermore, if necessary, known and conventional antioxidants, thermal polymerization inhibitors for improving the thermal stability during storage, metal oxides and silicon oxides as a binding component to the substrate during firing Fine particles such as boron oxide can also be added.

本発明の感光性ペーストは、25℃における粘度が、好ましくは50〜200dPa・sであり、より好ましくは80〜180dPa・sである。粘度が50dPa・sより低いと印刷後にダレやはじきを起こし易く、一方200dPa・sより高いと作業性が低下し好ましくない。   The viscosity of the photosensitive paste of the present invention at 25 ° C. is preferably 50 to 200 dPa · s, more preferably 80 to 180 dPa · s. If the viscosity is lower than 50 dPa · s, dripping or repelling is likely to occur after printing, while if it is higher than 200 dPa · s, the workability is lowered, which is not preferable.

本発明の感光性ペーストは、スクリーン印刷法で基板、例えばPDPの背面基板となるガラス基板に塗布し、次いで指触乾燥性を得るために熱風循環式乾燥炉、遠赤外線乾燥炉等で例えば約60〜120℃で5〜40分程度乾燥させて有機溶剤を蒸発させ、タックフリーの塗膜を得る。その後、選択的露光、現像、焼成を行って所定のパターンを形成する。   The photosensitive paste of the present invention is applied to a substrate, for example, a glass substrate to be a back substrate of a PDP by a screen printing method, and then, for example, in a hot air circulation drying oven, a far infrared drying oven, etc. The organic solvent is evaporated by drying at 60 to 120 ° C. for about 5 to 40 minutes to obtain a tack-free coating film. Thereafter, selective exposure, development, and baking are performed to form a predetermined pattern.

露光工程としては、所定の露光パターンを有するネガマスクを用いた接触露光及び非接触露光が可能である。露光光源としては、ハロゲンランプ、高圧水銀灯、レーザー光、メタルハライドランプ、無電極ランプなどが使用される。露光量としては50〜1000mJ/cm程度が好ましい。 As the exposure step, contact exposure and non-contact exposure using a negative mask having a predetermined exposure pattern are possible. As the exposure light source, a halogen lamp, a high-pressure mercury lamp, a laser beam, a metal halide lamp, an electrodeless lamp, or the like is used. The exposure amount is preferably about 50 to 1000 mJ / cm 2 .

現像工程としてはスプレー法、浸漬法等が用いられる。現像液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウムなどの金属アルカリ水溶液や、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミン水溶液、特に約1.5質量%以下の濃度の希アルカリ水溶液が好適に用いられるが、組成物中のカルボキシル基含有樹脂のカルボキシル基がケン化され、未硬化部(未露光部)が除去されればよく、上記のような現像液に限定されるものではない。また、現像後に不要な現像液の除去のため、水洗や酸中和を行なうことが好ましい。   As the development process, a spray method, an immersion method, or the like is used. Developers include aqueous alkali metal solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate and sodium silicate, and aqueous amine solutions such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, especially about 1.5% by mass or less. A dilute alkaline aqueous solution having a concentration of 1 is preferably used, as long as the carboxyl group of the carboxyl group-containing resin in the composition is saponified and the uncured part (unexposed part) is removed. It is not limited to. Further, it is preferable to perform washing with water and acid neutralization in order to remove unnecessary developer after development.

焼成工程においては、現像後の基板を空気中又は窒素雰囲気下で約500〜600℃の加熱処理を行い、所望のパターンを形成する。   In the baking step, the substrate after development is subjected to heat treatment at about 500 to 600 ° C. in air or in a nitrogen atmosphere to form a desired pattern.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるものでないことはもとよりである。なお、以下において「部」は、特に断りのない限りすべて質量部であるものとする。
ガラス粉末としては、Bi23、B23 、ZnO、SiO2、BaOをからなる無鉛ガラス粉末を粉砕し、平均粒径1.6μmとしたものを使用した。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the following Example. In the following, “parts” are all parts by mass unless otherwise specified.
As the glass powder, a lead-free glass powder composed of Bi 2 O 3 , B 2 O 3 , ZnO, SiO 2 and BaO was pulverized to an average particle diameter of 1.6 μm.

表1に示す組成比にて配合し、攪拌機により攪拌後、3本ロールミルにより練肉してペースト化を行なった。得られたペースト(組成物例1〜3、比較例1〜5)の粘度(dPa・s)を測定した結果、各々、158、171、165、162、177、150、162、151であった。   The mixture was blended at the composition ratio shown in Table 1, stirred with a stirrer, and then kneaded with a three-roll mill to form a paste. As a result of measuring the viscosity (dPa · s) of the obtained paste (Composition Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5), they were 158, 171, 165, 162, 177, 150, 162, and 151, respectively. .

粘度測定方法
E型粘度計を使用し、25℃にて5回転させたときの粘度を測定した。

Figure 0004954647
Viscosity measuring method Using an E-type viscometer, the viscosity was measured when rotated 5 times at 25 ° C.
Figure 0004954647

得られた感光性ペーストの印刷特性は以下の評価方法により調べた。結果を後掲の表2に示す。   The printing characteristics of the obtained photosensitive paste were examined by the following evaluation method. The results are shown in Table 2 below.

ガラス基板上に、評価用ペーストを300メッシュのポリエステルスクリーンを用いて全面に塗布した。その際、スクリーンの版離れを観察した。次いで、遠赤外線乾燥炉にて90℃で15間乾燥して皮膜を形成した。次に、ライトテーブル上で乾燥塗膜を観察し、印刷ムラ、ピンホール、はじきの状態を観察した。   An evaluation paste was applied on the entire surface of a glass substrate using a 300 mesh polyester screen. At that time, the separation of the screen was observed. Subsequently, it dried for 15 minutes at 90 degreeC with the far-infrared drying oven, and formed the membrane | film | coat. Next, the dried coating film was observed on a light table, and the state of printing unevenness, pinholes and repellency was observed.

版離れの状態を○〜×で評価した。   The state of plate separation was evaluated by ○ to ×.

○:版離れ良好
△:印刷時に一部、スクリーンと塗膜がくっつくが印刷後離れる
×:印刷時に一部、スクリーンと塗膜がくっつき、印刷後も剥がれない
印刷ムラがないかどうか○〜×で評価した。
○: Good plate separation △: Part of the screen and the coating film stick together during printing but leaves after printing ×: Part of the screen and coating film sticks together during printing and does not peel off after printing It was evaluated with.

○:印刷ムラなし
△:一部あり
×:印刷ムラ大きい
ピンホールがないかどうか○、×で評価した。
◯: No printing unevenness △: Partly present ×: Printing unevenness large Whether or not there is a pinhole was evaluated by ○ and ×.

○:ピンホールがほとんど無い
×:ピンホールが多い
はじきがないかどうか○、×で評価した。
○: Almost no pinholes ×: Many pinholes Whether or not there is a repellency was evaluated by ○ and ×.

○:はじきがほとんど無い
×:はじきが多い

Figure 0004954647
○: Almost no repelling ×: Many repelling
Figure 0004954647

表2に示す結果から明らかなように、本発明の組成物に係るペーストは、比較組成物のペーストに比べ印刷性に優れ、均一でピンホールの無い塗膜形成が可能なことから、また沸点210℃以上の高沸点有機溶剤が5質量%以上入ることで版離れが良好となり、大画面で高精細な電極形成に役立つことを示した。   As is clear from the results shown in Table 2, the paste according to the composition of the present invention has excellent printability compared to the paste of the comparative composition, and can form a uniform and pinhole-free coating film. It was shown that when 5% by mass or more of a high boiling point organic solvent having a temperature of 210 ° C. or higher is contained, the separation of the plate is improved, which is useful for forming a high-definition electrode with a large screen.

面放電方式のAC型PDPの部分分解斜視図。The partial exploded perspective view of a surface discharge type AC type PDP.

符号の説明Explanation of symbols

1 前面ガラス基板
2a,2b 表示電極
3a,3b 透明電極
4a,4b バス電極
5 透明誘電体層
6 保護層
10 ブラックパターン
11 背面ガラス基板
12 リブ
13 アドレス電極
14a,14b,14c 蛍光体膜
100 PDP用前面基板100
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front glass substrate 2a, 2b Display electrode 3a, 3b Transparent electrode 4a, 4b Bus electrode 5 Transparent dielectric layer 6 Protective layer 10 Black pattern 11 Back glass substrate 12 Rib 13 Address electrode 14a, 14b, 14c Phosphor film 100 For PDP Front substrate 100

Claims (4)

(A)有機バインダー、(B)光重合性モノマー、(C)光重合開始剤、(D)無機微粒子、(E)有機溶剤および(F)添加剤を含有する感光性ペーストであって、有機溶剤(E)中に沸点が210℃以上の高沸点有機溶剤を含有し、且つ、添加剤(F)としてアクリル系レベリング剤と共にアミン系及びリン系分散剤から選択される1種又は2種以上の分散剤を含有するプラズマディスプレイパネル用感光性ペースト。 A photosensitive paste containing (A) an organic binder, (B) a photopolymerizable monomer, (C) a photopolymerization initiator, (D) inorganic fine particles, (E) an organic solvent, and (F) an additive, contain a solvent (E) high-boiling organic solvents having a boiling point above 210 ° C. during and additive (F) 1, two or more selected from amine and phosphorous-based dispersing agent with an acrylic leveling agent as The photosensitive paste for plasma display panels containing the dispersing agent of. 有機溶剤(E)中に含有される沸点210℃以上の高沸点有機溶剤の含有率が、感光性ペースト全量に対し5質量%以上である請求項1に記載の感光性ペースト。   The photosensitive paste according to claim 1, wherein the content of the high-boiling organic solvent having a boiling point of 210 ° C or higher contained in the organic solvent (E) is 5% by mass or more based on the total amount of the photosensitive paste. 有機溶剤(E)中に沸点210℃以上の高沸点有機溶剤としてジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含有する請求項1又は2に記載の感光性ペースト。   The photosensitive paste of Claim 1 or 2 which contains diethylene glycol monomethyl ether acetate as a high boiling point organic solvent with a boiling point of 210 degreeC or more in an organic solvent (E). 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の感光性ペーストの焼成物から形成された焼成物パターンを有するプラズマディスプレイパネル。   The plasma display panel which has the baked material pattern formed from the baked product of the photosensitive paste of any one of Claims 1 thru | or 3.
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