JP5134603B2 - 光ビーム調整方法及び光ビーム調整装置 - Google Patents

Description

本発明は、半導体ウエハ等の欠陥を検査する検査装置に関する。

従来技術におけるディスク原盤用露光装置のレーザ光源のビーム調整方法の一例が特許文献１に記載されている。特許文献１に記載されているように、異なる光ディスクを露光するためビーム径を変化させている。そして、ビームの照射位置等を調整する必要があるが、光路中にビームエキスパンダー、複数のミラー、レンズ、反射板等を用いてビームの照射位置ずれ等を観察していた。

欠陥検査装置でも試料に安定したビームを照射することが、装置の性能に大きく影響するため、ビーム調整は必須となっている。このため、試料にビームを照射するまでの照明光学系により、ビームずれを観察する必要があった。

特開２００４−１８５７６３号公報

上述したように、従来の技術では、撮像装置（例えばセンサやカメラ）によりビーム照射位置をモニタするまでの光路中に、ビームエキスパンダー、複数のミラー、レンズ、反射板等を有し、レーザ光源から撮像装置までに使用する部品数が非常に多くなっていた。

使用する部品数が多くなると、光路の構成が複雑になり調整工程が多くなることや、光路長が長くなり装置が大きくなってしまうことがあった。

このような従来技術では、部品数が多いことにより、ビームの調整工程が多くなることや、光路長が長くなることにより装置が大型化してしまっていた。

本発明の目的は、部品数の増加及び装置の大型化を伴うことなく、短時間でビーム照射位置の調整が可能な光ビーム調整方法及び光ビーム調整装置を実現することである。

上記目的を達成するため、本発明は次のように構成される。

本発明の光ビーム調整方法及び光ビーム調整装置は、反射ミラーから反射された光ビームを、集光レンズを介して撮像手段を照射させ、光ビームの照射位置に基づいて、反射ミラーの反射角度を調整し、反射ミラーから反射された光ビームを、集光レンズを介することなく、撮像手段を照射させ、光ビームの照射位置に基づいて、反射ミラーへの光ビームの照射位置を調整し、上記反射ミラーによる上記光ビームの反射方向を調整する。

また、上記光ビーム調整装置を用いて、欠陥検査装置が構成される。

本発明によれば、部品数の増加及び装置の大型化を伴うことなく、短時間でビーム照射位置の調整が可能な光ビーム調整方法及び光ビーム調整装置を実現することができる。

本発明が適用される欠陥検査装置の全体概略構成図である。 図１に示した欠陥検査装置におけるビーム調整機構の構成図である。 本発明の実施例の光ビーム調整機構の説明図である。 本発明の実施例の光ビーム調整機構の説明図である。 本発明の実施例の照射光学系調整の動作フローチャートである。 本発明の実施例のチルト量確認画像、シフト量確認画像の説明図である。 本発明の実施例の集光レンズを用いた光ビーム調整機構と、ビームエキスパンダーを用いた光ビーム調整機構との比較図である。

以下、本発明の実施例について、添付図面を参照して説明する。

図１は、本発明が適用される欠陥検査装置の全体概略構成図である。ここで、欠陥検査装置とは、半導体デバイスの製造工程で半導体ウエハの異物や傷等（欠陥）を検査する装置である。

図１において、欠陥検査装置は、試料５を搭載し、試料５上にスリット状に照射したスリット状照明領域であるビームスポット１０３及びイメージセンサの検出領域１０４、試料５内の検査領域をＸＹ方向に走査し光学系に対し相対移動ができるＸステージ３０１、Ｙステージ３０２、試料５表面にピントを合わせることができるＺステージ３０３、シータステージ３０４およびステージコントローラ３０５を備えるステージ部３００を有する。

また、欠陥検査装置は、レーザ光源、光学フィルタ群及びミラー、ガラス板と切換可能な光学分岐要素（またはミラー）、ビームスポット結像部から構成される照明光学系１００を有する。

さらに、欠陥検査装置は、検出レンズ２０１、空間フィルタ２０２、結像レンズ２０３、ズームレンズ群２０４、イメージセンサ（撮像手段）２０５、イメージセンサの検出領域を観察できる観察光学系２０６、偏光ビームスプリッタ２０９、２つのセンサを同時に検査するための分岐検出光学系２１０を備える検出光学系２００を有する。

また、欠陥検査装置は、分岐検出光学系２１０で得た画像を処理する画像処理部４０６、異物等の欠陥検出結果を記憶する記憶部４０５を備える。

また、欠陥検査装置は、Ａ／Ｄ変換部、遅延させることができるデータメモリ、チップ間の信号の差をとる差分処理回路、チップ間の差信号を一時記憶するメモリ、パターン閾値を設定する閾値算出処理部、比較回路より構成される信号処理部４０２、記憶部４０５と共に欠陥検出結果を出力する出力手段、モータ等の駆動、座標、センサを制御する制御ＣＰＵ部４０１、表示部４０３および入力部４０４を備える制御系４００を有する。

イメージセンサ２０５は、ＣＣＤまたはＴＤＩ（Ｔｉｍｅ Ｄｅｌａｙ Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ：遅延積算）センサを適用することができる。ＣＣＤの場合は画素サイズが１０マイクロメートル程度であるため線状検出と考えてよく、走査方向にピントが合ってない画像を取り込むことによる感度低下がない。

一方、ＴＤＩでは走査方向に一定画素分の画像の積算があるため照明幅を小さくする又はＴＤＩセンサを傾けるなどの対策によってピントが合ってない画像を取り込む量を低減することが望ましい。

図１の左下に座標系を示す。平面上にＸＹ軸をとり、垂直上方にＺ軸をとる。検出光学系２００の光軸はＺ軸に沿って配置されている。

図２は、図１に示した欠陥検査装置におけるビーム調整機構の構成図である。

図２において、搬送系３の走査部として検査ステージ４（ステージ３０１〜３０４）を含み、検査ステージ４に試料５が配置される。レーザ光源１より光ビームを出力して、光量調整機構９により光量を調整する。

光量調整機構９を通過した光ビームはビーム調整機構１０により、ビームのチルト方向、シフト方向を調整する。つまり、互いに対向する２つの反射鏡の位置を調整することによりビームのチルト、シフト方向を調整する。

次に、ハーフミラー１１に照射されたビームのうち、透過光はビーム調整用に用いられ、反射光は試料５に照射する光に分岐される。集光レンズ１２を集光レンズ移動機構１２１で移動させて、ビーム調整用の光が集光レンズ１２を透過してＣＣＤカメラ１３に照射させたり、ビーム調整用の光が集光レンズ１２を透過しないでＣＣＤカメラ１３に照射させたりを行う。そして、ビームのチルト、シフト方向をＣＣＤカメラ１３に照射した光で調整する。詳細については、図３、図４を参照して後述する。例えば、集光レンズ移動機構１２１はモータやステージを用いることができる。

ＣＣＤカメラ１３で撮像された画像は、ビーム画像解析部１４に取り込まれ、画像解析を行ない、正しく調整された状態からのビームのずれに関する情報（例えば、ビームの水平方向のずれを示すシフト量、ビームの傾きのずれを示すチルト量）を算出し、調整用ミラー移動機構（反射手段移動機構）５００（チルト調整機構１０１及びシフト調整機構１０２を備える）を介してビーム調整機構１０に調整量１５を指令する。詳細については図６を参照して後述する。

ビーム調整機構１０により調整されたビームは、ハーフミラー１１により反射された後、ミラー１６を反射して、試料５に照射される。ビーム調整機構１０によりビームが調整されることによって、ビームが試料５の所定位置に照射される。

試料５に照射された反射光は検出光学系６を通り、検出器１７で検出され、画像処理系７にて画像処理を行ない、試料５の欠陥情報が表示部４０３に表示される。

図３は、ビーム調整機構１０の動作説明図である。図３において、調整用ミラー１９ａ（第１のミラー）、１９ｂ（第２のミラー）は、チルト（回転）機構１０１により回転され、シフト機構１０２により直線的に移動される。例えば、チルト機構１０１、シフト機構１０２は、モータやステージを用いることができる。

チルト機構１０１は、第１のミラー１９ａのチルト調整を行う第１のチルト機構と、第２のミラー１９ｂのチルト調整を行う第２のチルト機構とを備えている。

また、シフト機構１０２は、第１のミラー１９ａのシフト調整を行う第１のシフト機構と、第２のミラー１９ｂのシフト調整を行う第２のシフト機構とを備えている。

光１８は、ビーム調整機構１０で調整した後に集光レンズ移動機構１２１で集光レンズ１２を移動させて、光レンズ１２を通過した後の光及び光レンズ１２を通過しない光が、ＣＣＤカメラ１３に照射され、観察される機構となっている。調整用ミラー１９ａ、１９ｂのチルト方向、シフト方向の詳細については図６を参照して後述する。

図４は、集光レンズ１２を用いたビーム調整方法についての説明図である。図４において、集光レンズ１２とＣＣＤカメラ受光面２０との距離が、焦点距離２２となるように配置する。また、あらかじめ集光レンズ中心２５とＣＣＤカメラ中心２１の位置とを合せておく。

集光レンズ１２に平行光２４(無限遠からの光)が入射されると、集光レンズ１２のどの位置に入射しても光はＣＣＤカメラ中心２１に集光される。一方、斜光２３が集光レンズ１２に入射されると、ＣＣＤカメラ中心２１からずれた位置に光が照射される。

上述した原理を用いて、ビームのチルト調整量を算出して、ビーム調整機構１０で平行光２４となるように補正を行なう。平行光２４に調整した後に集光レンズ１２を通過させずにＣＣＤカメラ受光面２０に、光を入射させて、ビームのシフト調整量を算出する。そして、ビーム調整機構１０でＣＣＤカメラ中心２１に光が収束されるように補正することにより、ビームのシフト、チルトを補正することが可能となる。

図５は、照射光学系の調整動作フローチャートを示す図である。図５において、ビーム補正動作を開始すると（ステップ２６）、まず、光学条件を設定して（ステプ２７）、集光レンズ１２が光路外にある場合は光路中に移動する。

そして、ＣＣＤカメラ１３でチルト量を確認する（ステップ２８）。ステップ２８において、ズレが有る場合はビーム調整機構１０でチルト調整を行なう（ステップ２９）。

ステップ２８において、ズレが無い場合はビームチルト量調整を行なわずに集光レンズ１２を光路外へ移動する（ステップ３０）。

集光レンズ１２を光路外へ移動した後にＣＣＤカメラ１３でシフト量を確認する（ステップ３１）。

ステップ３１において、ズレが有る場合はビーム調整機構１０でシフト調整を行ない（ステップ３２）、ズレが無い場合はビームシフト量調整を行なわずにビーム補正動作終了（ステップ３３）となる。

上述のように、本発明に一実施例においては、集光レンズ移動機構１２１により、ビームを集光レンズ１２を通過させて、ビームが平行光となるようにチルト量を調整した後に、ビームを集光レンズ１２を通過することなく、ＣＣＤカメラ１３で検出して、シフト補正を行うように構成したので、従来技術にように、複数のレンズの移動や、複数のミラー切替を行なうことが無く、ビームの照射位置の調整を行うことができ、調整工程が少なくなる。

また、本発明の実施例においては、従来技術のようなビーム補正動作フローの後戻り作業、つまり、一度、ビーム位置調整した場合、複数のレンズの相対位置関係等が変化する場合があるため、再度、ビーム照射位置の調整を行う作業を行う必要がなく、容易に、かつ、短時間にビーム照射位置の調整を行なうことができる。

図６は、画像表示部４０３に表示されるチルト量確認画像３４、シフト量確認画像３５を示す図である。

図６の（Ａ）において、チルト量確認画像３４は、一方向のチルト量（第１のチルト量）をＸ軸３６として、第１のチルト量に対して垂直なチルト量（第２のチルト量）をＹ軸３７としてチルト量を表示する。

さらに、チルト量確認画像３４の中心に第１のチルト量のＸ軸に対して平行な線（第１の線）３８、および垂直な線（第２の線）３９を用いて、画面を４分割表示する。

第１の線と、第２の線の交点４０付近がチルト量のずれがない画像３４１となる。チルト量のＸ軸方向にずれている画像３４２の場合はＸ軸方向に調整し、チルト量のＹ軸方向にずれている画像３４３の場合はＹ軸方向に調整すれば、チルト量のずれが調整することが可能となる。

このように、交点４０付近にビーム位置が調整された画像を表示することで、作業者は容易にビームのチルト量が正しく調整されたことを知ることができる。

図６の（Ｂ）において、シフト量確認画像３５についてもチルト量確認画像３４と同様のことが言える。シフト量確認画像３５は、一方向のシフト量（シフト量Ｘ）をＸ軸４１として、シフト量Ｘに対して垂直なシフト量（シフト量Ｙ）をＹ軸４２としてシフト量を表示する。

さらに、シフト量確認画像３５の中心にシフト量Ｘの軸４１に対して平行な線（第１の線）４３、および垂直な線（第２の線）４４を用いて、画面を４分割表示する。

第１の線と、第２の線の交点４０の付近がシフト量のずれがない画像３５１となる。シフト量のＸ軸方向にずれている画像３５２の場合はＸ軸方向に調整し、シフト量のＹ軸方向にずれている画像３５３の場合はＹ軸方向に調整すれば、シフト量のずれが調整することが可能となる。

このように、交点４０付近にビーム位置が調整された画像を表示することで、作業者は容易にビームのシフト量が正しく調整されたことを知ることができる。例えば、ビーム位置の重心を計算して画像の中心とのずれを算出してチルト量、シフト量を求めれば、作業者がいなくても自動でビームずれを調整することが可能となるので、ビームの状態を常時監視することができる。

図７は、集光レンズ１２を用いたビーム調整機構７０２と、ビームエキスパンダーを用いたビーム調整機構７０１との比較図を示す。

ビームエキスパンダーを用いたビーム調整機構７０１について詳細に説明する。図７の（Ａ）において、光７０３は光軸調整用固定レンズ７０４を透過して、ビームエキスパンダー７０６７入射する。ビームエキスパンダー７０７は切替レンズ７０５ａ、７０５ｂが有り、任意のビーム径に切替るために切替レンズ移動機構７０６ａ、７０６ｂにより、切替を行なう。

ビームエキスパンダー７０７により光７０３は拡大され、集光レンズ１２により光７０３が集光され、ＣＣＤカメラ１３によって、ビームを観察する。

本発明である集光レンズ１２を用いたビーム調整機構の構成７０２を詳細に説明する。図７の（Ｂ）において、光７０３は集光レンズ移動機構１２１により、集光レンズ１２の出し入れ（光７０３が集光レンズ１２を通過させるか、させないかの選択）を行なうことにより、ＣＣＤカメラ１３によって、上述したように、チルト量、シフト量両方のビームを観察することが出来る。

このように、集光レンズ１２を用いたビーム調整機構７０２の場合、部品数を少なくすることが出来、調整工程も少なくすることが可能となる。また、集光レンズ１２を出し入れすることにより、シフト量の平面的な光軸ずれだけでなく、チルト量の光軸の傾きも観察することが可能となる。

また、ビームのチルト量とシフト量とを自動的に調整することで、安定した装置状態を実現することができる。さらに、従来では、照射光学系２の調整に多くの時間を必要としていたが、本発明の実施例では、チルト量とシフト量の２つの調整項目に対して、図５に示したフローチャートのように多くても処理４回で調整することが可能である。

また、試料５に光を照射する前であれば、ＣＣＤカメラ１３をどの位置に配置しても構わないので、機構設計の自由度が大きくなる。また、試料５に光を照射した反射光を用いてビーム調整を行なうことも可能であるが、試料５は例えばパターン付ウエハやガラス基板等、試料５が平面とは限らないので、試料５からの検出光が常に同じ位置で検出されることはない。

このように、反射光を用いてビーム調整する場合には、試料５に応じて視野を広げなければならない。一方、試料５に光を照射する前にビーム調整する場合には試料５に影響されないので、試料５の同じ位置に光を照射することが出来る。

例えば、部品の精度、部品の搭載誤差、レンズ収差、レーザ光源１の照射光位置バラツキ等の影響を受けずに試料５の同じ位置に光を照射することが出来る。

なお、本発明は、ウエハ以外の、ハードディスク、液晶基板等の基板検査に適用できる。

さらに、本発明は楕円球を用いて散乱光を集光する方式のウエハ検査装置にも適用できるし、パターンの形成されたウエハの欠陥を検査するパターン付きウエハ検査装置や、ハードディスクの欠陥を検査するハードディスク検査装置にも適用可能である。

また、上述した例は、欠陥検査装置の例であるが、図２に示したレーザ光源１、光量調整機構９、ビーム調整機構１０、集光レンズ１２、集光レンズ移動機構１２１、ＣＣＤカメラ１３、ビーム画像解析部１４、反射手段移動機構５００は、光ビーム調整装置として構成可能である。

そして、上記光ビーム調整装置として、構成される場合は、図６に示した画像等を表示する画像表示手段４０３を備えることができる。

１・・・レーザ光源、２・・・照射光学系、３・・・搬送系、４・・・検査ステージ、５・・・試料（ウエハ）、６・・・検出光学系、７・・・画像処理系、９・・・光量調整機構、１０・・・ビーム調整機構、１１・・・ハーフミラー、１２・・・集光レンズ、１３・・・ＣＣＤカメラ、１４・・・ビーム画像解析部、１５・・・調整量、１６・・・ミラー、１７・・・検出器、１８・・・光、１９・・・調整用ミラー、２０・・・ＣＣＤカメラ受光面、２１・・・ＣＣＤカメラ中心、２２・・・焦点距離、２３・・・斜光、２４・・・平行光、２５・・・集光レンズ中心、２６・・・ビーム補正動作開始、２７・・・光学条件設定、２８・・・ＣＣＤカメラチルト量確認、２９・・・ビーム調整機構でビームチルト量調整、３０・・・集光レンズを光路外へ移動、３１・・・ＣＣＤカメラシフト量確認、３２・・・ビーム調整機構でビームシフト量調整、３３・・・ビーム補正動作終了、３４・・・チルト量確認画像、３５・・・シフト量確認画像、３６・・・一方向のチルト量（第１のチルト量）のＸ軸、３７・・・第１のチルト量に対して垂直なチルト量（第２のチルト量）のＹ軸、３８・・・第１のチルト量の軸に対して平行な線（第１の線）、３９・・・第１のチルト量の軸に対して垂直な線（第２の線）、４０・・・交点、４１・・・シフト量Ｘ、４２・・・シフト量Ｙ、４３・・・シフト量Ｘの軸に対して平行な線（第１の線）、４４・・・シフト量Ｘの軸に対して垂直な線（第２の線）、１００・・・照明光学系、１０１・・・チルト（回転）機構、１０２・・・シフト機構、１０３・・・ビームスポット（照明領域）、１０４・・・イメージセンサの検出領域、１２１・・・集光レンズ移動機構、２００・・・検出光学系、２０１・・・検出レンズ（対物レンズ）、２０２・・・空間フィルタ、２０３・・・結像レンズ、２０４・・・ズームレンズ群、２０５・・・イメージセンサ、２０６・・・観察光学系、２０９・・・偏光ビームスプリッタ、２１０・・・分岐検出光学系、３００・・・ステージ部、３０１・・・Ｘステージ、３０２・・・Ｙステージ、３０３・・・Ｚステージ、３０４・・・シータステージ、３０５・・・ステージコントローラ、３４１・・・チルト量のずれがない画像、３４２・・・チルト量のＸ軸方向にずれている画像、３４３・・・チルト量のＹ軸方向にずれている画像、３５１・・・シフト量のずれがない画像、３５２・・・シフト量のＸ軸方向にずれている画像、３５３・・・シフト量のＹ軸方向にずれている画像、４００・・・制御系、４０１・・・制御ＣＰＵ部、４０２・・・信号処理部、４０３・・・表示部、４０４・・・入力部、４０５・・・記憶部、４０６・・・画像処理部、５００・・・調整用ミラー移動機構、７０１・・・ビームエキスパンダーを用いたビーム調整機構、７０２・・・集光レンズを用いたビーム調整機構、７０３・・・光、７０４・・・光軸調整用固定レンズ、７０５・・・切替レンズ、７０６・・・切替レンズ移動機構、７０７・・・ビームエキスパンダー

Claims (11)

1. 光源からの光ビームを反射ミラーにより反射させて、撮像手段を照射させ、光ビームの上記撮像手段の照射位置に基づいて、上記反射ミラーによる上記光ビームの反射方向を調整する光ビーム調整方法であって、
   上記反射ミラーから反射された光ビームを、集光レンズを介して上記撮像手段を照射させ、光ビームの照射位置に基づいて、上記反射ミラーの反射角度を調整し、
   上記集光レンズを移動させて、上記反射ミラーから反射された光ビームを、集光レンズを介することなく、上記撮像手段を照射させ、光ビームの照射位置に基づいて、上記反射ミラーへの上記光ビームの照射位置を調整し、
   上記反射ミラーによる上記光ビームの反射方向を調整することを特徴とする光ビーム調整方法。
2. 光源からの光ビームを反射ミラーにより反射させて、撮像手段を照射させ、光ビームの上記撮像手段への照射位置に基づいて、上記反射ミラーによる上記光ビームの反射方向を調整する光ビーム調整方法であって、
   上記反射ミラーから反射された光ビームを、集光レンズを介して上記撮像手段を照射させ、上記撮像手段への上記光ビームの照射位置が所定の位置となるように、上記反射ミラーの反射角度を調整するチルト調整を行い、
   上記集光レンズを移動させ、上記反射ミラーから反射された光ビームを、集光レンズを介することなく、上記撮像手段を照射させ、上記撮像手段への上記光ビームの照射位置が所定の位置となるように、上記反射ミラーへの上記光ビームの照射位置を調整するシフト調整を行い、
   上記反射ミラーによる上記光ビームの反射方向を調整することを特徴とする光ビーム調整方法。
3. 光ビームを発生する光源と、
   上記光源から発生された光ビームを反射する光ビーム反射手段と、
   上記光ビーム反射手段によって反射された光ビームが照射される撮像手段と、
   集光レンズと、
   上記集光レンズを、上記光ビーム反射手段から上記撮像手段に至る光路中と、上記光路外とに移動させる集光レンズ移動手段と、
   上記光ビームの上記撮像手段への照射位置を判断するビーム画像解析手段と、
   上記ビーム画像解析手段の判断に基づいて、上記光ビーム反射手段の反射角度を調整するチルト調整を行うとともに、上記光ビーム反射手段への上記光ビームの照射位置を調整するシフト調整を行う反射手段移動機構と、
   を備えることを特徴とする光ビーム調整装置。
4. 請求項３に記載の光ビーム調整装置において、上記反射手段移動機構は、上記ビーム画像解析手段の判断に基づいて、上記光ビーム反射手段から反射された光ビームを、上記集光レンズを介して上記撮像手段を照射させ、上記撮像手段への上記光ビームの照射位置が所定の位置となるように、上記光ビーム反射手段の反射角度を調整するチルト調整を行い、上記集光レンズを移動させ、上記光ビーム反射手段から反射された光ビームを、集光レンズを介することなく、上記撮像手段を照射させ、上記撮像手段への上記光ビームの照射位置が所定の位置となるように、上記光ビーム反射手段への上記光ビームの照射位置を調整するシフト調整を行い、上記光ビーム反射手段による上記光ビームの反射方向を調整することを特徴とする光ビーム調整装置。
5. 請求項４に記載の光ビーム調整装置において、上記撮像手段は、ＣＣＤカメラであることを特徴とする光ビーム調整装置。
6. 請求項４に記載の光ビーム調整装置において、上記光ビーム反射手段は、互いに対向する第１の反射ミラーと第２の反射ミラーとを有することを特徴とする光ビーム調整装置。
7. 請求項６に記載の光ビーム調整装置において、上記反射手段移動機構は、上記第１の反射ミラーのチルト調整を行う第１のチルト機構と、第２の反射ミラーのチルト調整を行う第２のチルト機構と、第１の反射ミラーのシフト調整を行う第１のシフト機構と、第２の反射ミラーのシフト調整を行う第２のシフト機構とを備えることを特徴とする光ビーム調整装置。
8. 請求項４に記載の光ビーム調整装置において、上記撮像手段により撮像された画像を表示する表示部を備えることを特徴とする光ビーム調整装置。
9. 請求項８に記載の光ビーム調整装置において、上記表示部は、チルト量確認画像と、シフト量確認画像とを表示し、上記チルト量確認画像、および上記シフト量確認画像は２つの線によって四分割され、表示されることを特徴とする光ビーム調整装置。
10. 検査ステージに配置された試料の所定の位置に光ビームを照射し、上記試料表面から反射された光を検出して試料表面の欠陥を検査する欠陥検査装置において、
    光ビームを発生する光源と、
    上記光源から発生された光ビームを反射する光ビーム反射手段と、
    上記光ビーム反射手段によって反射された光ビームが照射される撮像手段と、
    集光レンズと、
    上記集光レンズを、上記光ビーム反射手段から上記撮像手段に至る光路中と、上記光路外とに移動させる集光レンズ移動手段と、
    上記光ビームの上記撮像手段への照射位置を判断するビーム画像解析手段と、
    上記ビーム画像解析手段の判断に基づいて、上記光ビーム反射手段の反射角度を調整するチルト調整を行うとともに、上記光ビーム反射手段への上記光ビームの照射位置を調整するシフト調整を行う反射手段移動機構と、
    上記光ビーム反射手段により反射された光ビームの一部を上記撮像手段に向けて透過し、上記光ビームの他の部分を反射するハーフミラーと、
    上記ハーフミラーにより反射された光ビームを、上記検査ステージに配置された試料の所定の位置に照射する反射鏡と、
    上記試料表面から反射された光を検出して試料表面の欠陥を検査する画像処理部と、
    上記画像処理部により処理された画像を表示する画像表示部と、
    を備えることを特徴とする欠陥検査装置。
11. 請求項１０に記載の欠陥検査装置において、上記反射手段移動機構は、上記ビーム画像解析手段の判断に基づいて、上記光ビーム反射手段から反射された光ビームを、上記集光レンズを介して上記撮像手段を照射させ、上記撮像手段への上記光ビームの照射位置が所定の位置となるように、上記光ビーム反射手段の反射角度を調整するチルト調整を行い、上記集光レンズを移動させ、上記光ビーム反射手段から反射された光ビームを、集光レンズを介することなく、上記撮像手段を照射させ、上記撮像手段への上記光ビームの照射位置が所定の位置となるように、上記光ビーム反射手段への上記光ビームの照射位置を調整するシフト調整を行い、上記光ビーム反射手段による上記光ビームの反射方向を調整することを特徴とする欠陥検査装置。

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