JP5131762B2 - プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置並びにプラズマ処理用トレイ - Google Patents
プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置並びにプラズマ処理用トレイ Download PDFInfo
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Description
しかしながら、メカニカルチャックの影響により基板の周縁付近ではプラズマ密度の均一性が乱される。このため、基板周縁部の素子に対して所望のエッチング処理を行うことができず不良品が発生する頻度が高かった。一方、トレイと基板の間に粘着シートを設けた場合、基板全面に所望のエッチング処理を行うことができるため不良品の発生頻度は小さいが、粘着シートから剥離する際に基板を破損させる問題があった。
前記トレイと前記基板の間に配置された熱剥離接着部材によって前記トレイと前記基板を接着し、
前記トレイに設けられたペルチェ素子で前記トレイの基板載置面を冷却して前記基板表面をプラズマ処理し、
前記ペルチェ素子で前記トレイの基板載置面を加熱して前記基板を前記トレイから剥離することを特徴とする。
ペルチェ素子とは、異種の導体又は半導体の接点に電流を流すときに接点でジュール熱以外に熱の発生又は吸熱が起こる現象を利用した素子である。ペルチェ素子をトレイに設けることによってトレイの基板載置面を直接、冷却することができ、基板を効率よく冷却することができる。
プラズマ処理における基板への入熱量が少ない場合は、基板の温度はそう上がらないが、投入エネルギが大きくなるにつれ、基板の温度が上昇する。このプラズマ処理中の基板の温度が熱剥離接着部材の剥離温度を超えると好ましくない。
そこで、前記ペルチェ素子で前記トレイの基板載置面を冷却して前記基板表面をプラズマ処理する工程と、前記ペルチェ素子で前記トレイの基板載置面を加熱して前記基板を前記トレイから剥離する工程とを備えると良い。
前記ペルチェ素子で前記支持台の基板載置面を加熱して前記熱剥離接着部材から前記基板を剥離することを特徴とする。
前記支持台はプラズマ処理時に基板を載置する部材であり、具体的には下部電極が挙げられる。下部電極に直接基板を載置する場合に、熱剥離接着部材によって基板と下部電極(支持台)を接着することにより、基板を損傷することなく固定することができる。また、ペルチェ素子で支持台(下部電極)の基板載置面を冷却して基板表面をプラズマ処理した後、ペルチェ素子で前記基板載置面を加熱して基板を剥離することができる。
a) 前記トレイに設けられ該トレイの基板載置面の温度を調整するペルチェ素子と、
b) 前記支持台に設けられ該支持台に前記トレイが載置されたときに前記ペルチェ素子に電流を供給する電流供給機構であって、該ペルチェ素子に供給される電流の正負を切り替える電流切替回路を備えた電流供給機構と、
c) 前記トレイの前記基板載置面に設けられ前記トレイと前記基板を接着する熱剥離接着部材と
を備えることを特徴とする。
また、トレイと基板を熱剥離接着部材で接着して基板表面のプラズマ処理を行う場合は、プラズマ処理の終了後、ペルチェ素子により熱剥離接着部材を加熱して所定の剥離温度以上とするだけで、基板をトレイから剥離することができる。従って、処理全体を通して基板に無理な力を加えることなく、迅速なプラズマ処理を行うことができる。
本発明のプラズマ処理方法又はプラズマ処理装置では、ペルチェ素子により支持台の基板載置面の温度を調整できるため、プラズマ処理中に基板に投入されたエネルギにより生じる熱を効率よく支持台に伝達して、基板の温度上昇を抑えることができる。
そして、プラズマ処理が終了した後は、ペルチェ素子によって熱剥離接着部材を加熱して所定の剥離温度以上とするだけで、基板を支持台から剥離することができる。従って、処理全体を通して基板に無理な力を加えることなく、迅速なプラズマ処理を行うことができる。
励起コイル14は立体渦巻形(インパーテッド・トルネード形)のコイルであり、コイル中央の端部から高周波電力が供給され、コイル外周の端部が接地されている。
下部電極12は高周波電源15に接続されている。また、下部電極12内には冷却装置21が設けられている。なお、本実施例では下部電極12が支持台に相当する。
前記下部電極12上にはトレイ16を介して被処理部材である基板17が載置される。トレイ16は例えばアルミニウム製で、静電チャック18により下部電極12に固定される。
下部電極12及びトレイ16にはそれぞれペルチェ素子用の電極12a、16aが設けられている。トレイ16を下部電極12に載置することにより電極12a、16a同士が電気的に接続されてペルチェ素子22に電流が供給される。
まず、トレイ16の凹部20に基板17を挿入し、該凹部20の底面に貼り付けられた発泡剥離性シート31と基板17を接着する。発泡剥離性シート31と基板17は、当該基板17の上面に均一な圧力を加えて前記基板17と発泡剥離性シート31を圧接させることにより接着される。例えば特開2007−201404号公報に開示されている接着装置を用いることにより発泡剥離性シート31と基板17を接着することができる。
その後、トレイ16を下部電極12から取り外して真空容器11の外に搬出し、基板17を回収する。このとき、熱剥離性シート31の粘着性は既に低下しているため、基板17に損傷を与えることなく容易に基板17を回収することができる。
また、トレイ16を反応容器11から取り出した後、ペルチェ素子22に電流を供給して熱剥離性シート31を加熱し、熱剥離性シート31の粘着性を低下させても良い。
さらに、前記凹部42の底面には溝27が蜂の巣(ハニカム)状に形成されており、その上面に発泡剥離性シート31が貼り付けられている。
11・・・反応容器
12、40・・・下部電極(支持台)
14・・・励起コイル
15・・・高周波電源
16・・・トレイ(プラズマ処理用トレイ)
17・・・基板
18・・・静電チャック
20、42・・・凹部
22・・・ペルチェ素子
25・・・電流供給機構
27・・・溝
31・・・発泡剥離シート(熱剥離接着部材)
33・・・プラズマ
Claims (4)
- 基板が載置されたトレイを支持台に載置して前記基板の表面をプラズマ処理するプラズマ処理方法において、
前記トレイと前記基板の間に配置された熱剥離接着部材によって前記トレイと前記基板を接着し、
前記トレイに設けられたペルチェ素子で前記トレイの基板載置面を冷却して前記基板表面をプラズマ処理し、
前記ペルチェ素子で前記トレイの基板載置面を加熱して前記基板を前記トレイから剥離するプラズマ処理方法。 - 基板を支持台に載置して前記基板の表面を処理するプラズマ処理方法において、
前記支持台と前記基板を熱剥離接着部材で接着し、
前記支持台に設けられたペルチェ素子で前記支持台の基板載置面を冷却して前記基板表面をプラズマ処理し、
前記ペルチェ素子で前記支持台の基板載置面を加熱して前記熱剥離接着部材から前記基板を剥離することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 前記基板が、化合物半導体基板又はサファイア基板であることを特徴とする請求項1又は2のいずれかに記載のプラズマ処理方法。
- 基板が載置されたトレイを支持台に載置して前記基板表面をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、
a) 前記トレイに設けられ該トレイの基板載置面の温度を調整するペルチェ素子と、
b) 前記支持台に設けられ該支持台に前記トレイが載置されたときに前記ペルチェ素子に電流を供給する電流供給機構であって、該ペルチェ素子に供給される電流の正負を切り替える電流切替回路を備えた電流供給機構と、
c) 前記トレイの前記基板載置面に設けられ前記トレイと前記基板を接着する熱剥離接着部材とを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
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