JP5125291B2 - Thin plate processing apparatus and clean thin plate processing system - Google Patents

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Description

本発明は、クリーンな環境下で例えばガラス基板等の薄板に対して処理を行う薄板処理装置と、清浄気体（清浄空気、清浄窒素等を含む）の循環によってクリーンな環境を保ちつつ、クリーンな環境下で薄板に対して処理を行うクリーン薄板処理システムに関する。   The present invention provides a thin plate processing apparatus that performs processing on a thin plate such as a glass substrate in a clean environment, and a clean gas (including clean air and clean nitrogen) while maintaining a clean environment and a clean environment. The present invention relates to a clean thin plate processing system for processing thin plates in an environment.

近年、クリーン薄板処理システムについては種々の開発がなされており、クリーン薄板処理システムの先行技術として特許文献１及び特許文献２に示すものがある。   In recent years, various developments have been made on clean thin plate processing systems, and there are those shown in Patent Document 1 and Patent Document 2 as prior art of clean thin plate processing systems.

即ち、建屋内には、作業空間であるクリーンルームが構築されており、このクリーンルームの床は、グレーチング構造になっている。また、建屋内におけるクリーンルームの上側には、空気を収容可能な天井チャンバーが配設されており、建屋内におけるクリーンルームの下側には、空気を回収する床下チャンバーが配設されてあって、この床下チャンバーは、グレーチング構造の床を介してクリーンルーム内に連通してある。更に、クリーンルームの天井側には、送風ファン・フィルタユニットが配設されており、この送風ファン・フィルタユニットは、天井チャンバー内の空気を濾過して、清浄空気を下方向へ送風するものである。   That is, a clean room, which is a work space, is constructed in the building, and the floor of the clean room has a grating structure. In addition, a ceiling chamber capable of storing air is disposed above the clean room in the building, and an underfloor chamber for collecting air is disposed below the clean room in the building. The underfloor chamber communicates with the inside of the clean room through a grating structured floor. Further, a blower fan / filter unit is arranged on the ceiling side of the clean room. This blower fan / filter unit filters the air in the ceiling chamber and blows clean air downward. .

クリーンルーム内又は建屋内には、リターンダクトが立設されており、このリターンダクトの上端部は、天井チャンバー内に連通してあって、リターンダクトの下端部は、床下チャンバー内に連通してある。また、建屋内の適宜位置には、クリーンルーム内の清浄空気を床下チャンバー側へ吸引する吸引装置が配設されている。そして、クリーンルームの床には、クリーンな環境下で薄板に対してプロセス処理を行う薄板プロセス処理装置（薄板処理装置の一例）が設置されている。   A return duct is erected in the clean room or in the building. The upper end of the return duct communicates with the ceiling chamber, and the lower end of the return duct communicates with the underfloor chamber. . In addition, a suction device that sucks clean air in the clean room toward the underfloor chamber is disposed at an appropriate position in the building. On the floor of the clean room, a thin plate process processing apparatus (an example of a thin plate processing apparatus) that performs process processing on a thin plate in a clean environment is installed.

従って、先行技術に係るクリーン薄板処理システムによると、送風ファン・フィルタユニットによって天井チャンバー内の空気を濾過して、清浄空気を下方向へ送風する。一方、吸引装置によって清浄空気を床下チャンバー側へ吸引することにより、グレーチング構造の床、床下チャンバー、及びリターンダクトを経由して清浄空気を天井チャンバー内へ戻す。これにより、天井チャンバー、送風ファン・フィルタユニット、グレーチング構造の床、床下チャンバー、及びリターンダクトを介して清浄空気を循環させて、クリーンルーム内をクリーンな環境に保つことができ、薄板処理装置によってクリーンな環境下で薄板に対してプロセス処理を行うことができる。
特開平１１−３３７１１５号公報 特開平１０−１１６７５８号公報 Therefore, according to the clean thin plate processing system according to the prior art, the air in the ceiling chamber is filtered by the blower fan / filter unit, and the clean air is blown downward. On the other hand, clean air is sucked into the underfloor chamber by the suction device, thereby returning the clean air into the ceiling chamber via the floor of the grating structure, the underfloor chamber, and the return duct. This allows clean air to circulate through the ceiling chamber, blower fan / filter unit, grating floor, underfloor chamber, and return duct to keep the clean room clean and clean by the thin plate processing equipment. The process can be performed on a thin plate in a rough environment.
JP-A-11-337115 JP 10-116758 A

ところで、前述のように、グレーチング構造の床、床下チャンバー等を介して清浄空気を循環させて、クリーンルーム内をクリーンな環境に保っているため、先行技術に係るクリーン薄板処理システムにあっては、クリーンルームの床をグレーチング構造にしたり、建屋内におけるクリーンルームの下側に床下チャンバーを配設したりする必要がある。そのため、クリーン薄板処理システムの製造コストが高くなると共に、クリーン薄板処理システムの高さ方向のスペースが大きくなって、建屋内のスペース（工場内のスペース）を有効利用することが困難になるという問題がある。   By the way, as described above, since clean air is circulated through the floor of the grating structure, the underfloor chamber, etc., and the clean room is kept in a clean environment, in the clean thin plate processing system according to the prior art, It is necessary to make the floor of the clean room have a grating structure, or to arrange an underfloor chamber below the clean room in the building. Therefore, the manufacturing cost of the clean thin plate processing system increases, and the space in the height direction of the clean thin plate processing system increases, making it difficult to effectively use the space in the building (space in the factory). There is.

そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の薄板処理装置及びクリーン薄板処理システムを提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a thin plate processing apparatus and a clean thin plate processing system having a novel configuration that can solve the above-described problems.

本発明の第１の特徴（請求項１に記載の発明の特徴）は、発塵しうる可動部分を有し、クリーンな環境下で薄板に対して処理を行う薄板処理装置において、前記可動部分の下方に配設され、清浄気体を取入れ可能な取入口が形成され、下側に開口部を有したダクト構成部材と、清浄気体を前記ダクト構成部材の前記取入口側へ吸引する吸引ファンと、を備え、クリーンルームの床に設置されると、前記クリーンルームの床の一部によって前記ダクト構成部材の前記開口部が閉じられ、前記ダクト構成部材と前記クリーンルームの床の一部によって、前記クリーンルーム内に立設されかつ上端部が前記クリーンルームの上側の天井チャンバーに連通したリターンダクトに直接連通する接続ダクトが構成されるようになっていることを要旨とする。 A first feature of the present invention (feature of the invention described in claim 1) is a thin plate processing apparatus having a movable portion capable of generating dust and performing processing on a thin plate in a clean environment. And a duct component having an opening on the lower side, and a suction fan for sucking the clean gas to the inlet side of the duct component. The opening of the duct component is closed by a part of the floor of the clean room, and the interior of the clean room is closed by the duct component and a part of the floor of the clean room. and an upper end portion is erected to the gist that a connecting duct which communicates directly to the return duct in communication with the ceiling chamber above the clean room is adapted to be configured in

ここで、本願の特許請求の範囲及び明細書において、「処理」とは、プロセス処理、保管処理、搬送処理等を含む意であって、プロセス処理には、エッチング処理、ＣＶＤ処理、ＰＶＤ処理等が含まれる。なお、前記リターンダクトの上端部は、建屋内における前記クリーンルームの上側に配設された天井チャンバー内に連通している。 Here, in the claims and specification of the present application, “processing” means process processing, storage processing, transport processing, etc., and the process processing includes etching processing, CVD processing, PVD processing, etc. Is included. Incidentally, the upper end portion of the return duct is communicated with the upper side disposed ceiling chamber of the clean room in Ken indoors.

第１の特徴により、前記薄板処理装置を前記クリーンルームの床に設置して、前記薄板処理装置をクリーン薄板処理システムの一部として用いる場合には、次のように行う。   According to the first feature, when the thin plate processing apparatus is installed on the floor of the clean room and the thin plate processing apparatus is used as a part of the clean thin plate processing system, the following is performed.

即ち、前記クリーンルームの天井側に配設された送風ファン・フィルタユニットによって、前記天井チャンバー内の気体を濾過して、清浄気体を下方向へ送風する。一方、前記吸引ファンによって清浄気体を前記ダクト構成部材の前記取入口側へ吸引することにより、前記接続ダクト及び前記リターンダクトを経由して清浄気体を前記天井チャンバー内へ戻す。これにより、前記天井チャンバー、前記送風ファン・フィルタユニット、前記接続ダクト、及び前記リターンダクトを介して清浄気体を循環させて、前記クリーンルーム内をクリーンな環境に保つことができ、前記薄板処理装置によってクリーンな環境下で薄板に対して処理を行うことができる。特に、前記吸引ファンによって清浄気体を前記ダクト構成部材の前記取入口側へ吸引しているため、前記可動部分周辺において、塵埃等を含む清浄気体の巻き上がりを十分に抑制することができ、前記クリーンルーム内を高度なクリーンな環境に保つことができる。   That is, the air in the ceiling chamber is filtered by the blower fan / filter unit disposed on the ceiling side of the clean room, and the clean gas is blown downward. On the other hand, the clean gas is sucked into the inlet side of the duct component by the suction fan, thereby returning the clean gas into the ceiling chamber via the connection duct and the return duct. Thereby, the clean gas can be circulated through the ceiling chamber, the blower fan / filter unit, the connection duct, and the return duct to keep the clean room in a clean environment. A thin plate can be processed in a clean environment. In particular, since the clean gas is sucked by the suction fan toward the intake side of the duct component member, it is possible to sufficiently suppress the clean gas including dust and the like around the movable part, The clean room can be maintained in a highly clean environment.

また、前記薄板処理装置は、前記クリーンルームの床に設置されると、前記クリーンルームの床の一部によって前記ダクト構成部材の前記開口部が閉じられ、前記ダクト構成部材と前記クリーンルームの床の一部によって前記接続ダクトが構成されるようになっているため、前記クリーンルームの床の一部を前記接続ダクトの一部として用いることができる。   Further, when the thin plate processing apparatus is installed on the floor of the clean room, the opening of the duct component is closed by a part of the floor of the clean room, and the duct component and a part of the floor of the clean room Since the connection duct is configured by the above, a part of the floor of the clean room can be used as a part of the connection duct.

本発明の第２の特徴（請求項２に記載の発明の特徴）は、発塵しうる可動部分を有し、クリーンな環境下で薄板に対して処理を行う薄板処理装置において、前記可動部分の下方に配設され、清浄気体を取入れ可能な取入口が形成され、クリーンルームに立設されかつ上端部が前記クリーンルームの上側の天井チャンバーに連通したリターンダクトに直接連通するように接続可能な接続ダクトと、清浄気体を前記接続ダクトの前記取入口側へ吸引する吸引ファンと、を備えたことを要旨とする。 A second feature of the present invention (feature of the invention described in claim 2) is a thin plate processing apparatus having a movable portion capable of generating dust and performing processing on a thin plate in a clean environment. A connection port that is disposed below the upper surface of the clean room and can be connected so as to directly communicate with a return duct that is erected in the clean room and whose upper end communicates with the upper ceiling chamber of the clean room. The gist is provided with a duct and a suction fan that sucks clean gas toward the intake side of the connection duct.

なお、前記リターンダクトの上端部は、建屋内における前記クリーンルームの上側に配設された天井チャンバー内に連通している。 Incidentally, the upper end portion of the return duct is communicated with the upper side disposed ceiling chamber of the clean room in Ken indoors.

第２の特徴により、前記薄板処理装置を前記クリーンルームの床に設置して、前記薄板処理装置をクリーン薄板処理システムの一部として用いる場合には、次のように行う。   According to the second feature, when the thin plate processing apparatus is installed on the floor of the clean room and the thin plate processing apparatus is used as a part of the clean thin plate processing system, the following is performed.

即ち、前記クリーンルームの天井側に配設された送風ファン・フィルタユニットによって、前記天井チャンバー内の気体を濾過して、清浄気体を下方向へ送風する。一方、前記吸引ファンによって清浄気体を前記接続ダクトの前記取入口側へ吸引することにより、前記接続ダクト及び前記リターンダクトを経由して清浄気体を前記天井チャンバー内へ戻す。これにより、前記天井チャンバー、前記送風ファン・フィルタユニット、前記接続ダクト、及び前記リターンダクトを介して清浄気体を循環させて、前記クリーンルーム内をクリーンな環境に保つことができ、前記薄板処理装置によってクリーンな環境下で薄板に対して処理を行うことができる。特に、前記吸引ファンによって清浄気体を前記接続ダクトの前記取入口側へ吸引しているため、前記可動部分周辺において、塵埃等を含む清浄気体の巻き上がりを十分に抑制することができ、前記クリーンルーム内を高度なクリーンな環境に保つことができる。   That is, the air in the ceiling chamber is filtered by the blower fan / filter unit disposed on the ceiling side of the clean room, and the clean gas is blown downward. On the other hand, by sucking clean gas into the intake side of the connection duct by the suction fan, the clean gas is returned into the ceiling chamber via the connection duct and the return duct. Thereby, the clean gas can be circulated through the ceiling chamber, the blower fan / filter unit, the connection duct, and the return duct to keep the clean room in a clean environment. A thin plate can be processed in a clean environment. In particular, since clean gas is sucked to the intake side of the connection duct by the suction fan, it is possible to sufficiently suppress the clean gas including dust and the like around the movable part, and the clean room The inside can be maintained in a highly clean environment.

本発明の第３の特徴（請求項３に記載の発明の特徴）は、清浄気体の循環によってクリーンな環境を保ちつつ、クリーンな環境下で薄板に対して処理を行うクリーン薄板処理システムにおいて、建屋内に構築されたクリーンルームと、前記建屋内における前記クリーンルームの上側に配設され、気体を収容する天井チャンバーと、前記クリーンルームの天井側に配設され、前記天井チャンバー内の気体を濾過して、清浄気体を下方向へ送風する送風ファン・フィルタユニットと、前記クリーンルーム内に立設され、上端部が前記天井チャンバー内に連通したリターンダクトと、前記クリーンルームの床に設置された第１の特徴又は第２の特徴からなる薄板処理装置と、を備えたことを要旨とする。   A third feature of the present invention (feature of the invention described in claim 3) is a clean thin plate processing system that performs processing on a thin plate in a clean environment while maintaining a clean environment by circulating clean gas. A clean room built in a building, a ceiling chamber disposed above the clean room in the building, containing gas, and disposed on a ceiling side of the clean room, filtering the gas in the ceiling chamber The first feature is that it is installed on the floor of the clean room, a blower fan / filter unit for blowing clean gas downward, a return duct standing upright in the clean room and having an upper end communicating with the ceiling chamber Alternatively, the present invention includes a thin plate processing apparatus having the second feature.

第３の特徴によると、第１の特徴又は第２の特徴による作用と同様の作用を奏する。   According to the 3rd characteristic, there exists an effect | action similar to the effect | action by the 1st characteristic or the 2nd characteristic.

請求項１から請求項３のうちのいずれかの請求項に記載の発明によれば、前記可動部分周辺において、塵埃等を含む清浄気体の巻き上がりを十分に抑制しつつ、前記天井チャンバー、前記送風ファン・フィルタユニット、前記接続ダクト、及び前記リターンダクトを介して清浄気体を循環させて、前記クリーンルーム内を高度なクリーンな環境にすることができるため、前記クリーンルームの床をグレーチング構造にしたり、前記建屋内における前記クリーンルームの下側に床下チャンバーを配設したりする必要がなくなる。そのため、前記クリーン薄板処理システムの製造コストを低減することができると共に、前記クリーン薄板処理システムの高さ方向のスペースを小さくして、前記建屋のスペースを有効利用することができる。   According to the invention according to any one of claims 1 to 3, the ceiling chamber, the above-mentioned chamber, while sufficiently suppressing the rising of clean gas including dust and the like around the movable portion Since the clean gas can be circulated through the blower fan / filter unit, the connection duct, and the return duct to make the clean room an advanced clean environment, the floor of the clean room has a grating structure, There is no need to dispose an underfloor chamber below the clean room in the building. Therefore, the manufacturing cost of the clean thin plate processing system can be reduced, and the space in the height direction of the clean thin plate processing system can be reduced to effectively use the space of the building.

また、請求項１又は請求項３に記載の発明によれば、前記クリーンルームの床の一部を前記接続ダクトの一部として用いることができるため、前記接続ダクトの材料費を削減して、前記クリーン薄板処理システムの製造コストのより一層の低減を図ることができる。   According to the invention of claim 1 or claim 3, since a part of the floor of the clean room can be used as a part of the connection duct, the material cost of the connection duct is reduced, and the The manufacturing cost of the clean thin plate processing system can be further reduced.

本発明の実施形態について図１及び図２を参照して説明する。   An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

ここで、図１は、本発明の実施形態に係るクリーン薄板処理システムの断面図、図２は、図１におけるII-II線に沿った図である。なお、図面中、「Ｌ」は、左方向、「Ｒ」は、右方向を指す。   Here, FIG. 1 is a cross-sectional view of a clean thin plate processing system according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a view taken along line II-II in FIG. In the drawings, “L” indicates the left direction and “R” indicates the right direction.

図１に示すように、本発明の実施形態に係るクリーン薄板保管処理システム１は、清浄空気の循環によってクリーンな環境を保ちつつ、クリーンな環境下で例えばガラス基板等の薄板Ｗに対して保管処理を行うシステムであって、このクリーン薄板保管処理システム１の具体的な構成は、以下のようになる。   As shown in FIG. 1, a clean thin plate storage processing system 1 according to an embodiment of the present invention stores a thin plate W such as a glass substrate in a clean environment while maintaining a clean environment by circulating clean air. This is a system for processing, and the specific configuration of the clean thin plate storage processing system 1 is as follows.

建屋３内には、作業空間であるクリーンルーム５が構築されており、このクリーンルーム５の床５ｆは、塗り床構造になっている。また、建屋３内におけるクリーンルーム５の上側には、空気（気体の一例）を収容可能な天井チャンバー７が配設されており、クリーンルーム５の天井５ｃ側には、送風ファン・フィルタユニット９が配設されており、この送風ファン・フィルタユニット９は、天井チャンバー７内の空気を濾過して、清浄空気を下方向へ送風するものである。   A clean room 5 which is a work space is constructed in the building 3, and the floor 5f of the clean room 5 has a painted floor structure. Further, a ceiling chamber 7 capable of accommodating air (an example of gas) is disposed above the clean room 5 in the building 3, and a blower fan / filter unit 9 is disposed on the ceiling 5 c side of the clean room 5. The blower fan / filter unit 9 is provided for filtering the air in the ceiling chamber 7 and blowing clean air downward.

クリーンルーム５内には、リターンダクト１１が立設されており、このリターンダクト１１の上端部は、天井チャンバー７内に連通してある。また、クリーンルーム５の床５ｆには、クリーンな環境下で薄板Ｗに対して保管処理を行う薄板保管処理装置１３が設置されており、この薄板保管処理装置１３の構成は、次のようになる。   A return duct 11 is erected in the clean room 5, and an upper end portion of the return duct 11 communicates with the ceiling chamber 7. In addition, a thin plate storage processing device 13 that performs storage processing on the thin plate W in a clean environment is installed on the floor 5f of the clean room 5, and the configuration of the thin plate storage processing device 13 is as follows. .

即ち、図１及び図２に示すように、薄板保管処理装置１３は、装置本体１５を備えており、この装置本体１５は、クリーンルーム５の床５ｆに設置可能な支持台１７と、この支持台１７の左部及び右部に立設された一対の側フレーム１９等からなっている。   That is, as shown in FIGS. 1 and 2, the thin plate storage processing apparatus 13 includes an apparatus main body 15, and the apparatus main body 15 includes a support base 17 that can be installed on the floor 5 f of the clean room 5, and the support base. 17 includes a pair of side frames 19 and the like standing on the left and right portions.

各側フレーム１９には、上下方向へ延びたガイドレール２１がそれぞれ設けられており、各ガイドレール２１には、多数の薄板Ｗを収納するカセット２３の端部を下方向から支持するカセット支持部材２５が上下方向へ移動可能に設けられている。そして、装置本体１５の適宜位置には、一対のカセット支持部材２５を上下方向へ移動させる電動モータ（図示省略）が配設されている。ここで、カセット２３は、薄板Ｗを収納する多数の収納部を上下に有してあって、一対のカセット支持部材２５を上下方向へ移動させることにより、カセット２３における所定の収納部を所定の高さ位置に位置決めすることができるようになっている。なお、薄板保管処理装置１３において、ガイドレール２１とカセット支持部材２５は、発塵しうる可動部分になっている。   Each side frame 19 is provided with a guide rail 21 extending in the vertical direction. Each guide rail 21 supports a cassette support member that supports the end of a cassette 23 that houses a large number of thin plates W from below. 25 is provided so as to be movable in the vertical direction. An electric motor (not shown) that moves the pair of cassette support members 25 in the vertical direction is disposed at an appropriate position of the apparatus main body 15. Here, the cassette 23 has a large number of storage units for storing the thin plate W in the vertical direction, and the predetermined storage unit in the cassette 23 is set to a predetermined level by moving the pair of cassette support members 25 in the vertical direction. It can be positioned at a height position. In the thin plate storage processing device 13, the guide rail 21 and the cassette support member 25 are movable parts capable of generating dust.

支持台１７の下側（換言すれば、装置本体１５におけるガイドレール２１の下方）には、ダクト構成部材２７が配設されており、このダクト構成部材２７は、下側に、開口部２７ｐを有している。また、ダクト構成部材２７の上面には、清浄空気を取入れ可能な複数（本発明の実施形態にあっては、４つ）の取入口２７ｔが形成されている。更に、支持台１７には、複数（本発明の実施形態にあっては、４つ）の段付穴１７ｈがダクト構成部材２７の取入口２７ｔに連通するように形成されており、各段付穴１７ｈ（換言すれば、ダクト構成部材２７の各取入口２７ｔの上側近傍）には、清浄空気をダクト構成部材２７の取入口２７ｔ側へ吸引する吸引ファン２９がそれぞれ配設されている。   A duct component member 27 is disposed below the support base 17 (in other words, below the guide rail 21 in the apparatus main body 15). The duct component member 27 has an opening 27p on the lower side. Have. In addition, a plurality of (four in the embodiment of the present invention) intake ports 27 t capable of taking in clean air are formed on the upper surface of the duct component member 27. Furthermore, a plurality of (four in the embodiment of the present invention) stepped holes 17 h are formed in the support base 17 so as to communicate with the intake port 27 t of the duct component member 27. In the holes 17h (in other words, in the vicinity of the upper side of each intake port 27t of the duct component member 27), suction fans 29 for sucking clean air toward the intake port 27t side of the duct component member 27 are arranged.

そして、薄板保管処理装置１３は、クリーンルーム５の床５ｆに設置されると、クリーンルーム５の床５ｆの一部によってダクト構成部材２７の開口部２７ｐが閉じられ、ダクト構成部材２７とクリーンルーム５の床５ｆの一部によって、クリーンルーム５内に立設されたリターンダクト１１の下端部に連通するように接続可能な接続ダクトＣＤが構成されるようになっている。   When the thin plate storage processing device 13 is installed on the floor 5f of the clean room 5, the opening 27p of the duct component 27 is closed by a part of the floor 5f of the clean room 5, and the duct component 27 and the floor of the clean room 5 are closed. A connection duct CD that can be connected to communicate with the lower end portion of the return duct 11 erected in the clean room 5 is configured by a part of 5f.

なお、薄板保管処理装置１３の一般的な構成は、特開２００５−１５９１４１号公報又は特開２００５−１７５４２９号公報に示す薄板保管処理装置の構成と同様であって、薄板保管処理装置１３は、薄板Ｗを搬送する搬送ユニット等を備えている。   The general configuration of the thin plate storage processing apparatus 13 is the same as the configuration of the thin plate storage processing apparatus shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-159141 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-175429. A transport unit for transporting the thin plate W is provided.

続いて、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。   Then, the effect | action and effect of embodiment of this invention are demonstrated.

送風ファン・フィルタユニット９によって天井チャンバー７内の空気を濾過して、清浄空気を下方向へ送風する。一方、複数の吸引ファン２９によって清浄空気をダクト構成部材２７の取入口２７ｔ側へ吸引することにより、接続ダクトＣＤ及びリターンダクト１１を経由して清浄空気を天井チャンバー７内へ戻す。これにより、天井チャンバー７、送風ファン・フィルタユニット９、接続ダクトＣＤ、及びリターンダクト１１を介して清浄空気を循環させて、クリーンルーム５内をクリーンな環境に保つことができ、薄板保管処理装置１３によってクリーンな環境下で薄板Ｗに対して保管処理を行うことができる。特に、複数の吸引ファン２９によって清浄空気をダクト構成部材２７の取入口２７ｔ側へ吸引しているため、ガイドレール２１及びカセット支持部材２５の周辺において、塵埃等を含む清浄空気の巻き上がりを十分に抑制することができ、クリーンルーム５内を高度なクリーンな環境に保つことができる（第１の作用）。   The air in the ceiling chamber 7 is filtered by the blower fan / filter unit 9 to blow clean air downward. On the other hand, the clean air is sucked into the intake port 27 t side of the duct component 27 by the plurality of suction fans 29, thereby returning the clean air into the ceiling chamber 7 via the connection duct CD and the return duct 11. Accordingly, the clean air can be circulated through the ceiling chamber 7, the blower fan / filter unit 9, the connection duct CD, and the return duct 11 to keep the clean room 5 in a clean environment, and the thin plate storage processing device 13. Thus, the storage process can be performed on the thin plate W in a clean environment. In particular, since clean air is sucked to the intake 27t side of the duct component member 27 by the plurality of suction fans 29, clean air including dust and the like is sufficiently wound around the guide rail 21 and the cassette support member 25. Therefore, the interior of the clean room 5 can be maintained in a highly clean environment (first action).

また、薄板保管処理装置１３は、クリーンルーム５の床に設置されると、クリーンルーム５の床の一部によってダクト構成部材２７の開口部２７ｐが閉じられ、ダクト構成部材２７とクリーンルーム５の床５ｆの一部によって接続ダクトＣＤが構成されるようになっているため、クリーンルーム５の床５ｆの一部を接続ダクトＣＤの一部として用いることができる（第２の作用）。   Further, when the thin plate storage processing device 13 is installed on the floor of the clean room 5, the opening 27p of the duct component 27 is closed by a part of the floor of the clean room 5, and the duct component 27 and the floor 5f of the clean room 5 are closed. Since the connection duct CD is constituted by a part, a part of the floor 5f of the clean room 5 can be used as a part of the connection duct CD (second action).

従って、本発明の実施形態によれば、ガイドレール２１及びカセット支持部材２５の周辺において、塵埃等を含む清浄空気の巻き上がりを十分に抑制しつつ、天井チャンバー７、送風ファン・フィルタユニット９、接続ダクトＣＤ、及びリターンダクト１１を介して清浄空気を循環させて、クリーンルーム５内を高度なクリーンな環境にすることができるため、クリーンルーム５の床５ｆをグレーチング構造にしたり、建屋３内におけるクリーンルーム５の下側に床下チャンバーを配設したりする必要がなくなる。そのため、クリーン薄板保管処理システム１の製造コストを低減することができると共に、クリーン薄板保管処理システム１の高さ方向のスペースを小さくして、建屋３のスペースを有効利用することができる（第１の効果）。   Therefore, according to the embodiment of the present invention, the ceiling chamber 7, the blower fan filter unit 9, and the like are sufficiently suppressed around the guide rail 21 and the cassette support member 25 while sufficiently preventing the clean air containing dust and the like from rolling up. Since clean air can be circulated through the connection duct CD and the return duct 11 to make the clean room 5 into a highly clean environment, the floor 5f of the clean room 5 can have a grating structure, or a clean room in the building 3 It is not necessary to arrange an underfloor chamber below 5. Therefore, the manufacturing cost of the clean thin plate storage processing system 1 can be reduced, the space in the height direction of the clean thin plate storage processing system 1 can be reduced, and the space of the building 3 can be effectively used (first). Effect).

また、クリーンルーム５の床５ｆの一部を接続ダクトＣＤの一部として用いることができるため、接続ダクトＣＤの材料費を削減して、クリーン薄板保管処理システム１の製造コストのより一層の低減を図ることができる（第２の効果）。   Further, since a part of the floor 5f of the clean room 5 can be used as a part of the connection duct CD, the material cost of the connection duct CD can be reduced, and the manufacturing cost of the clean thin plate storage processing system 1 can be further reduced. (Second effect).

（変形例）
本発明の実施形態の変形例について図３を参照して説明する。 (Modification)
A modification of the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

ここで、図３は、本発明の実施形態の変形例に係るクリーン薄板処理システムの断面図である。   Here, FIG. 3 is a cross-sectional view of a clean thin plate processing system according to a modification of the embodiment of the present invention.

図３に示すように、変形例に係るクリーン薄板処理システム３１あっては、支持台１７の下側にダクト構成部材２７が配設される代わりに、支持台１７の下側にリターンダクト１１の下端部に連通するように接続可能な接続ダクト３３が配設され、かつ接続ダクト３３の上面に清浄空気を取入れ可能な複数の取入口３３ｔが形成されている。また、変形例に係るクリーン薄板処理システム３１における接続ダクト３３以外の構成は、クリーン薄板保管処理システム１の構成と略同じである。なお、本発明の実施形態の変形例に係るクリーン薄板処理システム３１における複数の構成要素のうち、本発明の実施形態に係るクリーン薄板保管処理システム１における構成要素と対応するものについては、図中に同一番号を付して、説明を省略する。   As shown in FIG. 3, in the clean thin plate processing system 31 according to the modified example, the duct component 27 is disposed below the support base 17, and the return duct 11 is disposed below the support base 17. A connecting duct 33 that can be connected so as to communicate with the lower end portion is disposed, and a plurality of intake ports 33 t that can take in clean air are formed on the upper surface of the connecting duct 33. Further, the configuration of the clean thin plate processing system 31 according to the modification other than the connection duct 33 is substantially the same as the configuration of the clean thin plate storage processing system 1. Of the plurality of components in the clean thin plate processing system 31 according to the modification of the embodiment of the present invention, those corresponding to the components in the clean thin plate storage processing system 1 according to the embodiment of the present invention are shown in the figure. The same number is attached to and the description is omitted.

そして、本発明の実施形態の変形例においても、前述の第１の作用及び第１の効果と同様の作用及び効果を奏する。   And also in the modification of embodiment of this invention, there exists an effect | action and effect similar to the above-mentioned 1st effect | action and 1st effect.

なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、その他、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。   In addition, this invention is not restricted to description of the above-mentioned embodiment, In addition, it can implement in a various aspect. Further, the scope of rights encompassed by the present invention is not limited to these embodiments.

本発明の実施形態に係るクリーン薄板処理システムの断面図である。It is sectional drawing of the clean thin plate processing system which concerns on embodiment of this invention. 図１におけるII-II線に沿った図である。It is the figure along the II-II line in FIG. 本発明の実施形態の変形例に係るクリーン薄板処理システムの断面図である。It is sectional drawing of the clean thin plate processing system which concerns on the modification of embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１ クリーン薄板保管処理システム
３ 建屋
５ クリーンルーム
５ｃ 天井
５ｆ 床
７ 天井チャンバー
９ 送風ファン・フィルタユニット
１１ リターンダクト
１３ 薄板保管処理装置
１５ 装置本体
１７ 支持台
１７ｈ 段付穴
１９ 側フレーム
２１ ガイドレール
２３ カセット
２５ カセット支持部材
２７ ダクト構成部材
２７ｐ 開口部
２７ｔ 取入口
２９ 吸引ファン
３１ クリーン薄板処理システム
３３ 接続ダクト
３３ｔ 取入口 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Clean thin plate storage processing system 3 Building 5 Clean room 5c Ceiling 5f Floor 7 Ceiling chamber 9 Blower fan / filter unit 11 Return duct 13 Thin plate storage processing device 15 Main body 17 Support base 17h Stepped hole 19 Side frame 21 Guide rail 23 Cassette 25 Cassette support member 27 Duct component member 27p Opening 27t Inlet 29 Suction fan 31 Clean thin plate processing system 33 Connection duct 33t Inlet

Claims (3)

発塵しうる可動部分を有し、クリーンな環境下で薄板に対して処理を行う薄板処理装置において、
前記可動部分の下方に配設され、清浄気体を取入れ可能な取入口が形成され、下側に開口部を有したダクト構成部材と、
清浄気体を前記ダクト構成部材の前記取入口側へ吸引する吸引ファンと、を備え、
クリーンルームの床に設置されると、前記クリーンルームの床の一部によって前記ダクト構成部材の前記開口部が閉じられ、前記ダクト構成部材と前記クリーンルームの床の一部によって、前記クリーンルーム内に立設されかつ上端部が前記クリーンルームの上側の天井チャンバーに連通したリターンダクトに直接連通する接続ダクトが構成されるようになっていることを特徴とする薄板処理装置。 In thin plate processing equipment that has movable parts that can generate dust and performs processing on thin plates in a clean environment,
A duct component disposed below the movable part, formed with an intake port capable of taking in clean gas, and having an opening on the lower side;
A suction fan for sucking clean gas toward the intake side of the duct component,
When installed on the floor of a clean room, the opening of the duct component is closed by a part of the floor of the clean room, and is erected in the clean room by the duct component and a part of the floor of the clean room. The thin plate processing apparatus is characterized in that a connection duct is formed in which the upper end portion communicates directly with the return duct communicated with the upper ceiling chamber of the clean room . 発塵しうる可動部分を有し、クリーンな環境下で薄板に対して処理を行う薄板処理装置において、
前記可動部分の下方に配設され、清浄気体を取入れ可能な取入口が形成され、クリーンルームに立設されかつ上端部が前記クリーンルームの上側の天井チャンバーに連通したリターンダクトに直接連通するように接続可能な接続ダクトと、
清浄気体を前記接続ダクトの前記取入口側へ吸引する吸引ファンと、を備えたことを特徴とする薄板処理装置。 In thin plate processing equipment that has movable parts that can generate dust and performs processing on thin plates in a clean environment,
Connected to the lower part of the movable part so as to form an intake port for taking in clean gas, standing upright in the clean room and directly connected to the return duct connected to the upper ceiling chamber of the clean room. Possible connection ducts,
A thin plate processing apparatus comprising: a suction fan that sucks clean gas toward the intake side of the connection duct. 清浄気体の循環によってクリーンな環境を保ちつつ、クリーンな環境下で薄板に対して処理を行うクリーン薄板処理システムにおいて、
建屋内に構築されたクリーンルームと、
前記建屋内における前記クリーンルームの上側に配設され、気体を収容する天井チャンバーと、
前記クリーンルームの天井側に配設され、前記天井チャンバー内の気体を濾過して、清浄気体を下方向へ送風する送風ファン・フィルタユニットと、
前記クリーンルーム内に立設され、上端部が前記天井チャンバー内に連通したリターンダクトと、
前記クリーンルームの床に設置された請求項１又は請求項２に記載の薄板処理装置と、を備えたことを特徴とするクリーン薄板処理システム。 In a clean thin plate processing system that processes thin plates in a clean environment while maintaining a clean environment by circulating clean gas,
A clean room built inside the building,
A ceiling chamber that is disposed above the clean room in the building and contains gas;
A blower fan filter unit that is disposed on the ceiling side of the clean room, filters the gas in the ceiling chamber, and blows the clean gas downward;
A return duct standing in the clean room and having an upper end communicating with the ceiling chamber;
A clean thin plate processing system comprising: the thin plate processing apparatus according to claim 1 or 2 installed on a floor of the clean room.
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