JP5124770B2 - ナノ材料接合方法およびナノ材料接合装置 - Google Patents
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Description
q = I2 ΔR (1)
ここで、ΔRは注目区間Δxにおける電気抵抗であり、次式で与えられる。
ΔR = ρΔx / A (2)
ここで、ρはナノワイヤの電気抵抗率、Aは注目区間Δxにおける断面積である。ワイヤ部のΔRは、ワイヤの断面積Aが一定であることからほぼ一定値をとる。一方、接触部における真実接触面積は、ワイヤ部の断面積Aと比較して極めて小さいことから、接触部におけるΔRはワイヤ部のそれと比べて著しく大きな値をとり、したがって、接触部近傍では大きなジュール熱が発生する。このジュール発熱は、ワイヤ接触部の温度を局所的に上昇させる。なお、接触部の真実接触面積は、ナノ材料同士の接触圧力により変化し、これによって接触部のΔRが変化するので、本発明ではナノ材料同士の接触圧力の調節が肝要である。
2 操作機構
3 電流源
4 電流回路
5 モニタ機構
6 観察手段
7 微細材料
8 観察手段
9 電流回路
Claims (3)
- 導電性を有するナノ材料から成る第1材料と、導電性を有するナノ材料または他の材料から成る第2材料とを接触させた後、接触部に一定電流を付与してジュール熱を発生させ、前記ジュール熱により前記接触部を局所的に溶融した後、前記接触部を冷却して前記第1材料と前記第2材料とを接合させることを、特徴とするナノ材料接合方法。
- 導電性を有するナノワイヤ同士を対向して接触させた後、接触部に直流の一定電流を付与してジュール熱を発生させ、前記ジュール熱により前記接触部を局所的に溶融した後、前記接触部を冷却して前記ナノワイヤ同士を接合させることを、特徴とするナノ材料接合方法。
- それぞれ異なるナノ材料を保持して各ナノ材料同士を接触させるよう移動可能に設けられた1対の操作機構と、
各操作機構に保持された各ナノ材料同士の接触部に一定電流を付与可能に設けられた電流回路と、
前記電流回路に電流を供給可能な電流源と、
前記電流回路による通電時の前記接触部における電気抵抗変化をモニタリングするモニタ機構と、
前記接触部近傍を観察する観察手段とを有することを、
特徴とするナノ材料接合装置。
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JP2007089547A JP5124770B2 (ja) | 2007-03-29 | 2007-03-29 | ナノ材料接合方法およびナノ材料接合装置 |
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JP2007089547A JP5124770B2 (ja) | 2007-03-29 | 2007-03-29 | ナノ材料接合方法およびナノ材料接合装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2008246521A JP2008246521A (ja) | 2008-10-16 |
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- 2007-03-29 JP JP2007089547A patent/JP5124770B2/ja active Active
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