JP5122867B2 - 液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法、液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法、液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法、液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法に関する。
テレビ、パソコン、携帯電話をはじめとする各種の家電機器や情報端末機器に、液晶表示装置が使用されている。この液晶表示装置に用いられる液晶表示パネルは、対向するようにして貼り合わされたガラス等からなる一対の基板と、一対の基板同士のギャップ(間隔)を保持するためのスペーサと、一対の基板とスペーサとにより形成された空間に充填された液晶と、を備えている。
ここで、スペーサの強度を必要以上に大きくすると、液晶表示パネルの使用環境が、例えば、−10℃程度となるような低温環境下では、収縮率が大きい液晶の収縮にスペーサの収縮が追従できず、充填されている液晶が負圧となり低温気泡が発生しやすくなる。
一方、スペーサの強度を小さくすれば、低温環境下におけるスペーサの収縮が容易となるため低温気泡の発生を抑制することができる。しかし、小さくしすぎると局部的に過剰な荷重を受けた場合などに、基板のギャップが変化して色むらなどが発生しやすくなる。
そのため、高さの異なる2種類のスペーサを用いることで、低温気泡の発生を抑制するとともに、外力に起因する色むらなどの発生を抑制する技術(特許文献1を参照)や、高さと断面積の異なる2種類または3種類のスペーサを用いることで、低温気泡の発生を抑制するとともに、外力に起因する色むらなどの発生を抑制する技術(特許文献2を参照)が提案されている。
特許文献1や2に開示されている技術では、高さの異なるスペーサを配設し、温度の低下時には高さの高いスペーサのみで基板を支え、外力の負荷時に対しては高さの高いスペーサと高さの低いスペーサとで基板を支えるようにしている。
この場合、高さの高いスペーサは温度の低下時および外力の負荷時のいずれの場合においても基板を支えることになる。そのため、高さの高いスペーサに塑性変形が生じるおそれがあった。そして、高さの高いスペーサが塑性変形すると基板が撓むので、液晶の面内厚みがばらつき、色むらなどが発生しやすくなるおそれがあった。
特開2002−341354号公報 特開2003−121857号公報
本発明は、温度や外力が変化しても基板の所定の場所を支えることができ、かつ、温度低下時に発生する低温気泡や、温度の変化や外力に起因する色むらなどの発生を抑制することができる液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法、液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法を提供する。
本発明の一態様によれば、一対の基板と、前記一対の基板間のギャップを保持する柱状体のスペーサと、を備え、前記柱状体は、第1の支持面を有する第1の支持部と、第2の支持面を有する第2の支持部と、を有し、前記第1の支持部は、前記第2の支持面から前記第1の支持面を突出させるようにして前記第2の支持面の内側に設けられ、 前記第2の支持部は、一方の基板の主面から前記第2の支持面を突出させるようにして前記主面に設けられ、前記第1の支持面の面積密度ρ 1 は、前記一対の基板の間に充填される液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、前記液晶に気泡が発生する圧力の閾値と、により決定され、以下の(1)式の関係を満たし、第1の支持部の軸線方向長さg は、ギャップの初期値と、前記第1の支持面の面積密度と、前記液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、により決定され、以下の(2)式の関係を満たし、前記第2の支持面の面積密度ρ は、ギャップの初期値と、変化許容値と、スペーサの塑性歪みと、外部から基板に負荷される応力と、により決定され、以下の(3)式の関係を満たすこと、を特徴とする液晶表示パネルが提供される。
ここで、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化、P は気泡が発生する圧力の閾値である。
ここで、g はギャップの初期値、ρ 1 は第1の支持面の面積密度、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化である。
ここで、 g はギャップの初期値、g は変化許容値、ε (σ)はスペーサの塑性歪み、σは外部から基板に負荷される応力である。
また、本発明の他の一態様によれば、一対の基板と、前記一対の基板間のギャップを保持する柱状体のスペーサと、を有する液晶表示パネルの製造方法であって、前記柱状体は、第1の支持面を有する第1の支持部と、第2の支持面を有する第2の支持部と、を有し、前記一対の基板のうちのいずれかの基板の一方の主面に光硬化性樹脂の膜を形成し、フォトマスクを介して前記膜に光を照射して、前記光硬化性樹脂を硬化させる液晶表示パネルの製造方法であって、第1のフォトマスクを用いて、前記主面から前記第2の支持面を突出させるようにして前記主面に複数の前記第2の支持部を形成し、第2のフォトマスクを用いて、前記複数の第2の支持部の前記第2の支持面のそれぞれから前記第1の支持面を突出させるようにして前記第2の支持面の内側に前記第1の支持部を形成する、液晶表示パネルの製造方法であって、前記第1の支持面の面積密度ρ 1 を、前記一対の基板の間に充填される液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、前記液晶に気泡が発生する圧力の閾値と、により決定し、以下の(1)式の関係を満たすように形成し、第1の支持部の軸線方向長さg を、ギャップの初期値と、前記第1の支持面の面積密度と、前記液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、により決定し、以下の(2)式の関係を満たすように形成し、前記第2の支持面の面積密度ρ を、ギャップの初期値と、変化許容値と、スペーサの塑性歪みと、外部から基板に負荷される応力と、により決定し、以下の(3)式の関係を満たすように形成すること、を特徴とする液晶表示パネルの製造方法が提供される。
ここで、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化、P は気泡が発生する圧力の閾値である。
ここで、g はギャップの初期値、ρ 1 は第1の支持面の面積密度、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化である。
ここで、 g はギャップの初期値、g は変化許容値、ε (σ)はスペーサの塑性歪み、σは外部から基板に負荷される応力である。
また、本発明の他の一態様によれば、一対の基板と、前記一対の基板間のギャップを保持する柱状体のスペーサと、を有する液晶表示パネルの製造方法であって、前記柱状体は、第1の支持面を有する第1の支持部と、第2の支持面を有する第2の支持部と、を有し、前記一対の基板のうちのいずれかの基板の一方の主面に光硬化性樹脂の膜を形成し、フォトマスクを介して前記膜に紫外線を照射して、前記光硬化性樹脂を硬化させる液晶表示パネルの製造方法であって、前記フォトマスクには、前記紫外線の透過率が異なる複数の透過部が設けられ、前記フォトマスクを用いて、前記主面から前記第2の支持面を突出させるようにして前記主面に複数の前記第2の支持部を形成し、前記複数の第2の支持部の前記第2の支持面のそれぞれから前記第1の支持面を突出させるようにして前記第2の支持面の内側に前記第1の支持部を形成する、液晶表示パネルの製造方法であって、前記第1の支持面の面積密度ρ 1 を、前記一対の基板の間に充填される液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、前記液晶に気泡が発生する圧力の閾値と、により決定し、以下の(1)式の関係を満たすように形成し、第1の支持部の軸線方向長さg を、ギャップの初期値と、前記第1の支持面の面積密度と、前記液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、により決定し、以下の(2)式の関係を満たすように形成し、前記第2の支持面の面積密度ρ を、ギャップの初期値と、変化許容値と、スペーサの塑性歪みと、外部から基板に負荷される応力と、により決定し、以下の(3)式の関係を満たすように形成すること、を特徴とする液晶表示パネルの製造方法が提供される。
ここで、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化、P は気泡が発生する圧力の閾値である。
ここで、g はギャップの初期値、ρ 1 は第1の支持面の面積密度、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化である。
ここで、 g はギャップの初期値、g は変化許容値、ε (σ)はスペーサの塑性歪み、σは外部から基板に負荷される応力である。
また、本発明の他の一態様によれば、上記の液晶表示パネルを備えたこと、を特徴とする液晶表示装置が提供される。
また、本発明の他の一態様によれば、上記のいずれかの液晶表示パネルの製造方法により液晶表示パネルを製造する工程を備えたこと、を特徴とする液晶表示装置の製造方法が提供される。
本発明によれば、温度や外力が変化しても基板の所定の場所を支えることができ、かつ、温度低下時に発生する低温気泡や、温度や外力の変化に起因する色むらなどの発生を抑制することができる液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法、液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法が提供される。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明をする。
図1は、本発明の実施の形態に係る液晶表示パネルを例示するための模式断面図である。 また、図2は、比較例に係る液晶表示パネルを例示するための模式断面図である。
まず、本発明者が発明をするに至った過程で検討をした比較例に係る液晶表示パネルについて説明をする。
図2(a)は、比較例に係る液晶表示パネルの断面を例示するための模式図であり、図2(b)は、比較例に係るスペーサを例示するための模式斜視図である。
図2(a)に示すように、液晶表示パネル100には、スペーサ101と、スペーサ101を介して所定のギャップgをもって対向するようにして設けられたカラーフィルタ基板3とアレイ基板4と、が備えられている。そして、スペーサ101、カラーフィルタ基板3、アレイ基板4とで形成された空間には、液晶2が充填されている。また、カラーフィルタ基板3とアレイ基板4とが、その周辺部においてシール部材5を介して液密となるように接合されている。また、スペーサ101の端面と、カラーフィルタ基板3、アレイ基板4とが、接合されている。
カラーフィルタ基板3は、ガラスなどのような透明材料からなる透明基板3aを備えている。そして、透明基板3aの液晶2に面する側には、透明基板3a上から順番に、図示しない遮光膜、図示しない赤緑青の画素などを有するカラーフィルタ層、図示しない透明電極、図示しない配向膜が積層するようにして設けられている。
アレイ基板4は、ガラスなどのような透明材料からなる透明基板4aを備えている。そして、透明基板4aの液晶2に面する側には、図示しない走査線や信号線を備えるスイッチング素子、図示しない画素電極、図示しない配向膜が設けられている。
スペーサ101は、絶縁性、耐候性、耐薬品性、寸法安定性などを考慮して、各種の無機材料、有機材料、複合材料などからなるものとすることができる。
図2(b)に示すように、比較例に係るスペーサ101は中実の円柱形状を呈している。尚、スペーサ101の支持面積(基板を支持する部分の断面積)をAとする。
カラーフィルタ基板3とアレイ基板4との間のギャップgはスペーサ101によって保持されている。ここで、カラーフィルタ基板3、アレイ基板4、スペーサ101により形成された空間に充填された液晶2の線膨張係数αLCは、スペーサ101の線膨張係数αSSより大きいため、温度が大きく低下すると液晶2の収縮量がスペーサ101の収縮量を上回り、液晶2の自由な熱収縮が妨げられて圧力が低下する場合がある。
このとき、温度変化をΔT、面積密度(配設されたすべてのスペーサ101の合計支持面積/液晶表示パネルの表示部の全面積)をρ、液晶2の体積弾性率をK、スペーサ101のヤング率をEとすると、圧力低下ΔPは以下の(4)式で表すことができる。

ここで、圧力低下ΔPにより、圧力が液晶2の物性などから決められる所定の閾値Pより低くなると気泡が発生する。この気泡は低温気泡と呼ばれ、低温気泡が発生すると液晶表示パネルの表示品質が著しく低下する。
(4)式から分かるように、面積密度ρを小さくして、圧力低下ΔPを小さくし、圧力を閾値Pより高くすることができれば、低温気泡の発生を抑制することができる。
一方、液晶表示パネル10に外部から応力が負荷された際に生じるギャップgの変化量Δgは、面積密度をρ、ギャップの初期値をg、液晶表示パネルに負荷される応力をσ,応力σが負荷されたときに発生するスペーサ101の材料の塑性歪をεpとすると、以下の(5)式で表すことができる。

(5)式から分かるように、面積密度ρを小さくすればギャップgの変化量Δgは大きくなる。そして、変化量Δgがギャップの変化許容値gより大きくなると、ギャップむら、あるいは、色むらと呼ばれる不良が発生する。
このように、低温気泡の抑制と、ギャップむら・色むらの抑制とは、いわゆるトレードオフの関係にあり、面積密度ρのみを調整することで、両者を同時に抑制することは困難であった。
この場合、特許文献1や2に開示がされている技術のように、高さの異なるスペーサを設けて変化量Δgが所定の値に達するまでは、高さの高いスペーサのみで基板を支えるようにして圧力低下ΔPを小さくし、変化量Δgが所定の値に達した後にはすべてのスペーサで基板を支えるようにして変化量Δgを小さくすれば、低温気泡の抑制と、ギャップむら・色むらの抑制とを両立させることができる。
しかしながら、このような技術では変化量Δgがある程度大きくならないと、基板を支えるべき位置に配設されている高さの低いスペーサで基板を支えることができない。そのため、使用環境や外部から負荷される応力の大きさによっては、この部分(高さの高いスペーサ同士の間)において基板の撓みが発生しやすくなる。そして、基板が撓むことで液晶の面内厚みがばらつき、色むらなどが発生しやすくなるおそれがあった。
また、高さの高いスペーサには温度低下時、外力の負荷時のいずれの場合であっても応力が負荷されるので、塑性変形を起こすおそれもあった。そして、高さの高いスペーサが塑性変形を起こすことで基板が撓むので、液晶の面内厚みがばらつき、色むらなどが発生しやすくなるおそれもあった。
本発明者は検討の結果、基板を支持する第1の支持面1aと、第2の支持面1bとを備え、第2の支持面1bから第1の支持面1aを突出させるようにして設けるものとすれば、低温気泡の抑制と、ギャップむら・色むらの抑制とを両立させることができ、かつ、スペーサ1とスペーサ1との間において発生する基板の撓みをも抑制することができるとの知見を得た。そして、各スペーサの高さを同一にすることができるので、スペーサに加わる応力を分散させることができ、スペーサの塑性変形をも抑制できるとの知見を得た。
図1(a)は、本発明の実施の形態に係る液晶表示パネルの断面を例示する模式図であり、図1(b)は、本発明の実施の形態に係るスペーサを例示する模式斜視図である。
尚、図2で説明をしたものと同様の部分には同じ符号を付し、説明を省略する。
図1(a)に示すように、液晶表示パネル10には、柱状体の複数のスペーサ1と、スペーサ1を介して所定のギャップgをもって対向するようにして設けられたカラーフィルタ基板3とアレイ基板4と、が備えられている。そして、スペーサ1、カラーフィルタ基板3、アレイ基板4とで形成された空間には、液晶2が充填されている。また、カラーフィルタ基板3とアレイ基板4とが、その周辺部においてシール部材5を介して液密となるように接合されている。また、スペーサ1の端面と、カラーフィルタ基板3、アレイ基板4とは、接合または当接している。尚、スペーサ1の端面が接合したものと、当接したものとが混在するようにすることもできる。
スペーサ1は、絶縁性、耐候性、耐薬品性、寸法安定性などを考慮して、各種の無機材料、有機材料、複合材料などからなるものとすることができる。ただし、後述するフォトリソグラフィ法によりスペーサを形成させる場合には、光硬化性樹脂とすることが好ましい。
図1(b)に示すように、スペーサ1には、第1の支持部1cと第2の支持部1dとが設けられている。第1の支持部1cの一方の端面には第1の支持面1aが設けられ、第2の支持部1dの一方の端面には第2の支持面1bが設けられている。そして、第2の支持面1bから第1の支持面1aを突出させるようにして第2の支持面1bの内側に第1の支持部1cが設けられている。また、第2の支持部1dは、カラーフィルタ基板3の主面から第2の支持面1bを突出させるようにしてカラーフィルタ基板3の主面上に設けられている。尚、第2の支持部1dをアレイ基板4の主面上に設けるようにすることもできる。
ここで、第1の支持面1aの支持面積(円形断面の断面積)をA1、第2の支持面1bの支持面積(円環状部分の断面積)をA2とする。そのため、第2の支持部1dの断面積は、「A1+A2」となる。
このようなスペーサ1において、第1の支持面1aの支持面積A1と、比較例のスペーサ101の支持面積Aとの関係を以下の(6)式のようにすれば、スペーサ1をスペーサ101より容易に収縮させることができるので、液晶2の自由な熱収縮を許容して、低温気泡の発生を抑制することが容易となる。この場合、支持面積Aは、既知の柱状スペーサの支持面積とすればよく、(6)式の関係を満たすスペーサ1を容易に設計することができる。

また、低温気泡が発生する際の閾値Pがわかっている場合には、ΔPがPを超えなければよいので、以下の(7)式の条件が満たされればよい。

そのため、第1の支持面1aの面積密度ρ1 (配設されたすべてのスペーサ1の支持面積A1の合計/液晶表示パネルの表示部の全面積)の条件として、(4)式と(7)式から以下の(8)式を導くことができる。

ここで、(8)式は、液晶表示パネル10の厚み方向の収縮を考慮したものであるが、カラーフィルタ基板3とアレイ基板4の厚み方向の収縮量はわずかであるためこれを考慮しないものとしている。
この場合、カラーフィルタ基板3とアレイ基板4の平面方向の収縮量は厚み方向に比べて大きなものとなる。ただし、平面方向の収縮をも考慮するものとすれば、精度は向上するものの演算式が複雑化してかえって実用上の障害となるおそれがある。
本発明者は検討の結果、予め実験により求めたファクターにより液晶の線膨張係数αLCと、スペーサの線膨張係数αSSとを補正するようにすれば、平面方向の収縮をも考慮した面積密度ρ1の条件を簡便に求めることができるとの知見を得た。
以下に示す(9)式は、この知見により導かれたものであり、fはスペーサの線膨張係数αSSを補正するためのファクター、fは液晶の線膨張係数αLCを補正するためのファクターである。尚、ファクターは、基板の線膨張係数と液晶の線膨張係数との比や、基板の線膨張係数とスペーサの線膨張係数との比などに基づいて導かれるものであり、それぞれの材質、寸法、液晶表示パネルの構成などの影響を受けるため実験により具体的に求めるものとしている。

次に、温度が低下した時の第1の支持部1cの軸線方向の長さ(高さ)の変化量(第1の支持部1c部分のギャップの変化量Δg)は以下の(10)式で表すことができる。

ここで、gはギャップgの初期値、ρ1は第1の支持面1aの面積密度である。
温度低下時に基板を第1の支持部1cのみで支えるようにして、圧力低下ΔPを小さくすれば低温気泡の発生を抑制することができる。
この場合、(10)式で表される変化量より大きな軸線方向の長さ(高さ)を有する第1の支持部1cとすれば、温度低下時に基板を第1の支持部1cのみで支えることができることになるので、以下の(11)式の関係が導かれることになる。

ここで、g1は第1の支持部1cの軸線方向の長さ(高さ)である。
そして、(10)式と(11)式とから第1の支持部1cの軸線方向の長さ(高さ)g1が満たすべき条件として、以下の(12)式が導かれる。

また、(12)式についても、前述した線膨張係数の補正を考慮するものとすれば、以下の(13)式が導かれる。

一方、液晶表示パネル10に外部から応力が負荷された場合に、第1の支持面1aと第2の支持面1bとで基板を支えるようにすれば、すなわち、第2の支持部1dで基板を支えるようにすれば、支持面積A1と支持面積A2との合計である「A1+A2」の支持面積を有するスペーサとして基板を支持することができる。
この場合、支持面積「A1+A2」と、比較例であるスペーサ101の支持面積Aとの関係を以下の(14)式のようにすれば、スペーサ101より大きな支持面積のスペーサで基板を支持することができるので、ギャップgの変化量を抑制することが容易となる。その結果、外力に起因するギャップむら・色むらの発生を抑制することが容易となる。尚、支持面積Aは、既知の柱状スペーサの支持面積とすればよく、(14)式の関係を満たすスペーサ1を容易に設計することができる。

また、外部から応力が負荷された場合において、スペーサ1が塑性変形することによるギャップgの変化量Δgは以下の(15)式で表すことができる。

ここで、ρは第2の支持部1dの断面積の面積密度(配設されたすべてのスペーサ1の第2の支持部1dの断面積「A1+A2」の合計/液晶表示パネルの表示部の全面積)、σは外部から基板に負荷される応力、ε(σ)はスペーサ1の塑性歪みであり外部から負荷される応力σの関数である。
この変化量Δgが、スペーサ1の材料の物性などから決められる所定の変化許容値gを超えなければよいので、以下の(16)式の関係が導かれることになる。

そして、(15)式と(16)式とから第2の支持部1dの断面が満たすべき面積密度の条件として、以下の(17)式が導かれる。

図3は、低温環境下におけるスペーサ1の変形をシミュレーションで解析した結果を例示するものである。
尚、液晶2の温度を常温から30℃低下させるものとし、対称性を考慮して1/4モデルによる解析を行うものとしている。また、スペーサ1は前述の(9)式、(13)式の条件を満たすものとしている。
図3(a)は、初期状態(常温時)を示すものであり、図3(b)と図3(c)は液晶2の温度を常温から30℃低下させた場合を示すものである。また、図3(c)は、図3(b)の拡大断面図である。尚、図3(b)においては、色のトーンが暗いほど歪みが大きいことを示している。また、図3(a)〜(c)において、図1、図2で説明をしたものと同様の部分には同じ符号を付し、その説明を省略する。
図3(b)から分かるように、低温環境下におけるスペーサ1の歪みは第1の支持部1cに集中している。また、図3(c)からは、アレイ基板4と第2の支持面1bとが接触しておらず、温度低下時に基板を第1の支持部1cのみで支えていることが分かる。
そのため、スペーサ1を容易に収縮させることができるので、液晶2の自由な熱収縮を許容して、低温気泡の発生を抑制することが容易となることが分かる。
図4は、基板に外部から応力が負荷された場合におけるスペーサ1の変形をシミュレーションで解析した結果を例示するものである。
尚、基板には1.02MPaの応力が負荷されるものとし、対称性を考慮して1/4モデルによる解析を行うものとしている。また、スペーサ1は前述の(17)式の条件を満たすものとしている。
図4(a)は、初期状態(無負荷時)を示すものであり、図4(b)と図4(c)は基板に1.02MPaの応力が負荷された場合を示すものである。また、図4(c)は、図4(b)の拡大断面図である。尚、図4(b)においては、色のトーンが暗いほど歪みが大きいことを示している。また、図4(a)〜(c)において、図1、図2で説明をしたものと同様の部分には同じ符号を付し、その説明を省略する。
図4(b)からは、応力負荷時におけるスペーサ1の歪みは主に第1の支持部1cに生じているが、第2の支持部1dにも歪みが生じているのが分かる。また、図4(c)からは、アレイ基板4と第2の支持面1bとが接触しており、応力負荷時に基板を第1の支持部1cと第2の支持部1dとで支えていることが分かる。
そのため、ギャップgの変化を抑制することが容易となり、外力に起因するギャップむら・色むらの発生を抑制することが容易となることが分かる。
以上説明したように、本実施の形態に係るスペーサ1は、温度の低下時には小さな支持面積A1で基板を支えるので、液晶の自由な熱収縮を許容して低温気泡の発生を抑制することができる。一方、外部から応力が負荷された際には、支持面積が「A1+A2」と大きくなるので、ギャップgの変化量を抑制することができる。また、温度の低下時には、少なくとも第1の支持部1cにより基板が支えられているので、特許文献1や2に開示されているもののように基板を支えていない部分が生ずることがなく、基板が撓んで色むらなどが発生することをさらに抑制することができる。そして、各スペーサの高さを同一にすることができるので、スペーサに加わる応力を分散させることができ、スペーサの塑性変形をも抑制することができる。
尚、説明の便宜上、第1の支持部1cを第2の支持部1dの一方の支持面に設けているが、両方の支持面にそれぞれ支持部1cを設けるようにすることもできる。また、第1の支持部1cが支持面に略垂直となるように設けられているが、その軸線が斜行するようにして設けられていてもよいし、その断面積が漸減、漸増していたり、任意に変化するものであってもよい。
また、第1の支持部1cの数も例示したものに限定されるわけではなく、例えば、第2の支持面1b上に複数の第1の支持部1cを設けるようにすることもできる。
また、スペーサの軸線に垂直な方向の断面形状も円形に限定されるわけではなく、例えば、多角形などとすることができる。ただし、断面形状が円形や楕円形などのように「角」がない形状とすれば、スペーサにかかる応力を一様にすることができ、欠けやはがれを抑制することができる。
次に、本発明の実施の形態に係るスペーサの製造方法について説明をする。
図5は、本発明の実施の形態に係る液晶表示パネルのスペーサの製造方法を例示するための模式工程断面図である。
まず、図5(a)に示すように、光硬化性の樹脂組成物を基板20の片面に塗布して塗膜21を形成させる。塗布方法としては特に限定されるわけではなく、例えば、スロットダイ法、スリットコータ法、グラビアコータ法、スピンコータ法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法などの塗布方法を用いることができる。
次に、図5(b)に示すように、所定の透過部23を持つフォトマスク22を介して塗膜に紫外線UVを照射し、光硬化性樹脂を硬化させて第2の支持部1dを形成させる。
次に、図5(c)に示すように、光硬化性の樹脂組成物をさらに塗布し、所定の透過部25を持つフォトマスク24を介して塗膜に紫外線UVを照射して光硬化性樹脂を硬化させ、第2の支持部1dの第2の支持面1bの内側に第1の支持部1cを形成させる。
その後、基板20をアルカリ溶液などで洗浄すれば、図5(d)に示すような所望の形状のスペーサ1を製造することができる。
図6は、本発明の他の実施の形態に係る液晶表示パネルのスペーサの製造方法を例示するための模式工程断面図である。
本実施の形態においては、図6(a)に示すように、フォトマスク26に紫外線UVの透過率が異なる透過部27、透過部28を設けて、硬化の範囲や深さを変えるようにしている。この場合、透過率が高い透過部27の直下よりも透過率の低い透過部28の直下の方が硬化速度が遅くなるので、第2の支持部1dの第2の支持面1bの内側に第1の支持部1cが形成されることになる。その後、基板20をアルカリ溶液などで洗浄すれば、図6(b)に示すような所望の形状のスペーサ1を製造することができる。尚、光硬化性の樹脂組成物の塗布については、図5で説明をしたものと同様のためその説明を省略する。
また、透過部における紫外線の透過率を連続的に変化させるようにすれば、スペーサの軸線方向の断面形状を曲面形状、傾斜面形状、断面積が漸減または漸増している形状など任意の形状とすることもできる。
また、透過部の数や配置も例示したものに限定されるわけではなく、第1の支持部1cの数や配置によって適宜変更することができる。例えば、第2の支持面1bの内側に第1の支持部1cを複数形成させるような場合は、それに合わせて複数の透過部を設けるようにすることもできる。
尚、図5、図6に例示をした製造方法において、スペーサを形成させる基板は、カラーフィルタ基板3であってもよいし、アレイ基板4であってもよい。
次に、本発明の実施の形態に係る液晶表示パネルの製造方法について説明をする。
尚、説明の便宜上、TFT(Thin Film Transistor)カラー液晶表示パネルの製造方法について説明をする。
TFTカラー液晶表示パネルの製造工程は、TFTアレイ形成工程、カラーフィルター形成工程、配向膜形成工程、基板貼り合わせ工程、液晶注入工程、基板分断工程からなる。
ここで、前述した本発明の実施の形態に係るスペーサをカラーフィルター基板側に設ける場合には、前述のスペーサの製造方法をカラーフィルター形成工程後、または、カラーフィルター形成工程の中で実施する。
また、前述した本発明の実施の形態に係るスペーサをアレイ基板側に設ける場合には、前述のスペーサの製造方法をTFTアレイ形成工程後、または、TFTアレイ形成工程の中で実施する。
尚、液晶表示パネルの製造方法における他の工程に関しては、既知の各工程の技術を適用させることができるので、それらの説明は省略する。
また、説明の便宜上、TFTカラー液晶表示パネルの製造方法について説明をしたが、TN(Twisted Nematic)型の液晶表示パネルやSTN(SuperTwisted Nematic)型の液晶表示パネルについても、同様にして本発明の実施の形態に係るスペーサを形成させることができる。
次に、本発明の実施の形態に係る液晶表示装置について説明をする。
本実施の形態に係る液晶表示装置は、前述した本実施の形態に係る液晶表示パネルと、機構部材などを備えている。
機構部材としては、ドライバICと、それに入力する制御信号を生成する駆動回路、バックライトなどを例示することができる。
また、必要に応じてカバーなどを適宜設けるようにすることもできる。
尚、機構部材、カバーなどに関しては既知の技術を適用させることができるので、その説明は省略する。
次に、本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明をする。
本実施の形態に係る液晶表示装置の製造においては、前述した本実施の形態に係る液晶表示パネルの製造方法で液晶パネルを製造し、製造された液晶表示パネルに機構部材を装着する。
その後、必要に応じてカバーなどを適宜取り付けることで液晶表示装置の製造が終了する。
尚、機構部材の装着、カバーなどの取り付けに関しては既知の技術を適用することができるので、その説明は省略する。
以上、本発明の実施の形態について説明をした。しかし、本発明はこれらの記述に限定されるものではない。
前述の実施の形態に関して、当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。
例えば、スペーサ1、液晶表示パネル10、フォトマスク22、フォトマスク24、フォトマスク26などが備える各要素の形状、寸法、材質、配置などは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。
また、前述した各実施の形態が備える各要素は、可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
本発明の実施の形態に係る液晶表示パネルを例示するための模式断面図である。 比較例に係る液晶表示パネルを例示するための模式断面図である。 低温環境下におけるスペーサの変形をシミュレーションで解析した結果を例示するものである。 基板に外部から応力が負荷された場合におけるスペーサの変形をシミュレーションで解析した結果を例示するものである。 本発明の実施の形態に係る液晶表示パネルのスペーサの製造方法を例示するための模式工程断面図である。 本発明の他の実施の形態に係る液晶表示パネルのスペーサの製造方法を例示するための模式工程断面図である。
符号の説明
1 スペーサ、1a 第1の支持面、1b 第2の支持面、1c 第1の支持部、1d 第2の支持部、2 液晶、3 カラーフィルタ基板、3a 透明基板、4 アレイ基板、4a 透明基板、5 シール部材、10 液晶表示パネル、20 基板、21 塗膜、22 フォトマスク、24 フォトマスク、26 フォトマスク、23 透過部、25 透過部、27 透過部、28 透過部、A1 支持面積、A2 支持面積、g ギャップ、UV 紫外線、ρ面積密度、ρ 面積密度、

Claims (5)

  1. 一対の基板と、
    前記一対の基板間のギャップを保持する柱状体のスペーサと、
    を備え、
    前記柱状体は、第1の支持面を有する第1の支持部と、第2の支持面を有する第2の支持部と、を有し、
    前記第1の支持部は、前記第2の支持面から前記第1の支持面を突出させるようにして前記第2の支持面の内側に設けられ、
    前記第2の支持部は、一方の基板の主面から前記第2の支持面を突出させるようにして前記主面に設けられ、
    前記第1の支持面の面積密度ρ1 は、前記一対の基板の間に充填される液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、前記液晶に気泡が発生する圧力の閾値と、により決定され、以下の(1)式の関係を満たし、
    第1の支持部の軸線方向長さg は、ギャップの初期値と、前記第1の支持面の面積密度と、前記液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、により決定され、以下の(2)式の関係を満たし、
    前記第2の支持面の面積密度ρ は、ギャップの初期値と、変化許容値と、スペーサの塑性歪みと、外部から基板に負荷される応力と、により決定され、以下の(3)式の関係を満たすこと、を特徴とする液晶表示パネル。
    ここで、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化、P は気泡が発生する圧力の閾値である。
    ここで、g はギャップの初期値、ρ 1 は第1の支持面の面積密度、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化である。
    ここで、 g はギャップの初期値、g は変化許容値、ε (σ)はスペーサの塑性歪み、σは外部から基板に負荷される応力である。
  2. 一対の基板と、前記一対の基板間のギャップを保持する柱状体のスペーサと、を有する液晶表示パネルの製造方法であって、
    前記柱状体は、第1の支持面を有する第1の支持部と、第2の支持面を有する第2の支持部と、を有し、
    前記一対の基板のうちのいずれかの基板の一方の主面に光硬化性樹脂の膜を形成し、フォトマスクを介して前記膜に光を照射して、前記光硬化性樹脂を硬化させる液晶表示パネルの製造方法であって、
    第1のフォトマスクを用いて、前記主面から前記第2の支持面を突出させるようにして前記主面に複数の前記第2の支持部を形成し、
    第2のフォトマスクを用いて、前記複数の第2の支持部の前記第2の支持面のそれぞれから前記第1の支持面を突出させるようにして前記第2の支持面の内側に前記第1の支持部を形成する、液晶表示パネルの製造方法であって、
    前記第1の支持面の面積密度ρ 1 を、前記一対の基板の間に充填される液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、前記液晶に気泡が発生する圧力の閾値と、により決定し、以下の(1)式の関係を満たすように形成し、
    第1の支持部の軸線方向長さg を、ギャップの初期値と、前記第1の支持面の面積密度と、前記液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、により決定し、以下の(2)式の関係を満たすように形成し、
    前記第2の支持面の面積密度ρ を、ギャップの初期値と、変化許容値と、スペーサの塑性歪みと、外部から基板に負荷される応力と、により決定し、以下の(3)式の関係を満たすように形成すること、を特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
    ここで、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化、P は気泡が発生する圧力の閾値である。
    ここで、g はギャップの初期値、ρ 1 は第1の支持面の面積密度、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化である。
    ここで、 g はギャップの初期値、g は変化許容値、ε (σ)はスペーサの塑性歪み、σは外部から基板に負荷される応力である。
  3. 一対の基板と、前記一対の基板間のギャップを保持する柱状体のスペーサと、を有する液晶表示パネルの製造方法であって、
    前記柱状体は、第1の支持面を有する第1の支持部と、第2の支持面を有する第2の支持部と、を有し、
    前記一対の基板のうちのいずれかの基板の一方の主面に光硬化性樹脂の膜を形成し、フォトマスクを介して前記膜に紫外線を照射して、前記光硬化性樹脂を硬化させる液晶表示パネルの製造方法であって、
    前記フォトマスクには、前記紫外線の透過率が異なる複数の透過部が設けられ、
    前記フォトマスクを用いて、前記主面から前記第2の支持面を突出させるようにして前記主面に複数の前記第2の支持部を形成し、前記複数の第2の支持部の前記第2の支持面のそれぞれから前記第1の支持面を突出させるようにして前記第2の支持面の内側に前記第1の支持部を形成する、液晶表示パネルの製造方法であって、
    前記第1の支持面の面積密度ρ 1 を、前記一対の基板の間に充填される液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、前記液晶に気泡が発生する圧力の閾値と、により決定し、以下の(1)式の関係を満たすように形成し、
    第1の支持部の軸線方向長さg を、ギャップの初期値と、前記第1の支持面の面積密度と、前記液晶の線膨張係数と、前記スペーサの線膨張係数と、前記液晶の体積弾性率と、前記スペーサのヤング率と、により決定し、以下の(2)式の関係を満たすように形成し、
    前記第2の支持面の面積密度ρ を、ギャップの初期値と、変化許容値と、スペーサの塑性歪みと、外部から基板に負荷される応力と、により決定し、以下の(3)式の関係を満たすように形成すること、を特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
    ここで、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化、P は気泡が発生する圧力の閾値である。
    ここで、g はギャップの初期値、ρ 1 は第1の支持面の面積密度、α LC は液晶の線膨張係数、α SS はスペーサの線膨張係数、f はスペーサの線膨張係数α SS を補正するためのファクター、f は液晶の線膨張係数α LC を補正するためのファクター、Kは液晶の体積弾性率、Eはスペーサのヤング率、ΔTは温度変化である。
    ここで、 g はギャップの初期値、g は変化許容値、ε (σ)はスペーサの塑性歪み、σは外部から基板に負荷される応力である。
  4. 請求項記載の液晶表示パネルを備えたこと、を特徴とする液晶表示装置。
  5. 請求項またはに記載の液晶表示パネルの製造方法により液晶表示パネルを製造する工程を備えたこと、を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
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