JP5122107B2 - 研磨装置用超強粘着シート - Google Patents
研磨装置用超強粘着シート Download PDFInfo
- Publication number
- JP5122107B2 JP5122107B2 JP2006275882A JP2006275882A JP5122107B2 JP 5122107 B2 JP5122107 B2 JP 5122107B2 JP 2006275882 A JP2006275882 A JP 2006275882A JP 2006275882 A JP2006275882 A JP 2006275882A JP 5122107 B2 JP5122107 B2 JP 5122107B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- foam material
- plastic foam
- polishing apparatus
- pressure
- sensitive adhesive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 93
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 title claims description 87
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 title claims description 86
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 76
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 72
- 239000002984 plastic foam Substances 0.000 claims description 62
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 41
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 3
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 27
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 10
- 239000006261 foam material Substances 0.000 description 9
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 4
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920005830 Polyurethane Foam Polymers 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000011496 polyurethane foam Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Description
2 プラスチックフォーム材
3 粘着剤層
4 剥離シート
11 回転定盤部
12 研磨装置用超強粘着シート
13 研磨パッド
14 ウエハ
15 研磨回転部
16 研磨装置用超強粘着シート
17 研磨用の部材
20 孔
21 駆動部
22 ベルト部
23 研磨装置用超強粘着シート
24 研磨材
30 凹部
35 空隙部
Claims (6)
- 被研磨物を固定し所定の研磨を行なう研磨装置に使用される研磨装置用超強粘着シートにおいて、
前記粘着シートは、粘着対象面に臨むように開口された孔が形成されたプラスチックフォーム材と、前記プラスチックフォーム材に形成された前記孔の大方を埋め込んで形成され且つ前記孔に対応する位置にその中心近傍が前記孔に入り込むように中心に向かって徐々に深くされた吸盤状の凹部を形成するように前記プラスチックフォーム材の粘着対象面に備えられ、前記凹部間が平面とされる粘着剤層とを有し、
前記プラスチックフォーム材の圧縮変形にともなって前記凹部が略平面状に変形し、前記プラスチックフォーム材の弾性復帰に応じて吸着機能を有してなり、
前記研磨装置の可動部に粘着されることを特徴とする研磨装置用超強粘着シート。 - 前記プラスチックフォーム材をシート状基材上に形成してなることを特徴とする請求項1記載の研磨装置用超強粘着シート。
- 前記プラスチックフォーム材は、前記シート状基材の両面に粘着対象面を外側となるように形成されていることを特徴とする請求項2記載の研磨装置用超強粘着シート。
- 前記粘着剤層と接して離型処理された剥離シートが設けられ、使用時に前記剥離シートが粘着剤層から剥離されることを特徴とする請求項1記載の研磨装置用超強粘着シート。
- 前記可動部は、前記研磨装置の定盤部、研磨回転部、若しくはベルト部であることを特徴とする請求項1記載の研磨装置用超強粘着シート。
- 粘着対象面に臨むように開口された孔が形成されたプラスチックフォーム材と、前記プラスチックフォーム材に形成された前記孔の大方を埋め込んで形成され且つ前記孔に対応する位置にその中心近傍が前記孔に入り込むように中心に向かって徐々に深くされた吸盤状の凹部を形成するように前記プラスチックフォーム材の粘着対象面に備えられ、前記凹部間が平面とされる粘着剤層とをシート状基材の両面に有する研磨装置用超強粘着シートを用意し、
研磨装置の可動部に、前記研磨装置用超強粘着シートを、そのプラスチックフォーム材の圧縮変形にともなって前記凹部が略平面状に変形し、前記プラスチックフォーム材の弾性復帰に応じて吸着するように片面を粘着させ、
所要の部材を前記研磨装置用超強粘着シートの他の面に粘着させることを特徴とする研磨装置における部材の固定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006275882A JP5122107B2 (ja) | 2006-10-08 | 2006-10-08 | 研磨装置用超強粘着シート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006275882A JP5122107B2 (ja) | 2006-10-08 | 2006-10-08 | 研磨装置用超強粘着シート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008093759A JP2008093759A (ja) | 2008-04-24 |
JP5122107B2 true JP5122107B2 (ja) | 2013-01-16 |
Family
ID=39377151
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006275882A Active JP5122107B2 (ja) | 2006-10-08 | 2006-10-08 | 研磨装置用超強粘着シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5122107B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI421146B (zh) * | 2010-11-18 | 2014-01-01 | San Fang Chemical Industry Co | 吸附墊片 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3024373B2 (ja) * | 1992-07-07 | 2000-03-21 | 信越半導体株式会社 | シート状弾性発泡体及びウェーハ研磨加工用治具 |
JPH0642059U (ja) * | 1992-11-16 | 1994-06-03 | 千代田株式会社 | 研磨機の研磨布貼付用定盤 |
JPH07166139A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-06-27 | Kansai Form Kako Kk | 粘着テープもしくはシート |
JP2005019669A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 研磨パッド、研磨装置、及びウェハの研磨方法 |
JP4335110B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2009-09-30 | 株式会社トプコン | 眼鏡レンズ取付用粘着シート |
KR101266308B1 (ko) * | 2004-10-15 | 2013-05-22 | 무사시 가세이 고교 가부시키가이샤 | 렌즈 고정용 점착 테이프 및 이를 이용한 렌즈 가공방법 |
-
2006
- 2006-10-08 JP JP2006275882A patent/JP5122107B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008093759A (ja) | 2008-04-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1360034B1 (en) | Fixed abrasive article for use in modifying a semiconductor wafer | |
JPH10156705A (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
JP2001505489A5 (ja) | ||
WO2005070059A2 (en) | Layered support and method for laminating cmp pads | |
JP4193983B2 (ja) | 基板保持具 | |
JP5102426B2 (ja) | 両面粘着シート及び研磨布積層体 | |
TW201208810A (en) | A splicing technique for fixed abrasives used in chemical mechanical planarization | |
JP2006265410A (ja) | 複層研磨パッド用両面粘着テープ及び複層研磨パッドの製造方法 | |
JP2005011972A (ja) | 被研磨加工物の保持材およびこの保持材の製造方法 | |
JP6372662B2 (ja) | 研磨パッド固定用テープおよび研磨パッド | |
JP6914216B2 (ja) | 研磨パッド積層体 | |
JP5122107B2 (ja) | 研磨装置用超強粘着シート | |
JPWO2008044266A1 (ja) | 超強粘着テープ | |
JP2007030144A (ja) | 被研磨物保持材 | |
TWI626118B (zh) | 供cmp使用之多層拋光墊、生產多層拋光墊之方法、化學機械拋光裝置、及拋光工件之方法 | |
WO2016098501A1 (ja) | 研磨パッド | |
JP4181930B2 (ja) | 研磨パッド積層体 | |
KR20130018258A (ko) | 유리 기판 유지용 막체 및 유리 기판의 연마 방법 | |
JP5242884B2 (ja) | 強粘着テープ | |
JP2014113648A (ja) | 研磨パッド | |
JP4273444B2 (ja) | 研磨用被加工物保持具及びこれを用いた研磨方法 | |
KR20130033360A (ko) | 유리 기판 유지용 막체 및 유리 기판의 연마 방법 | |
JP2008272922A (ja) | 研磨パッドの製造方法 | |
JP2004342651A (ja) | ウェーハ保持用シート | |
JP4535675B2 (ja) | 両面粘着シート |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091001 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120313 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120514 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121002 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121024 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5122107 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |