JP5114873B2 - 液晶組成物およびこれを用いた液晶表示素子 - Google Patents
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Description
R.Q.Ma、外1名、"SID 97 DIGEST"、pp.101〜104
液晶に添加するゲル化剤はさまざまな物性において適切な値をもっていることが求められる。たとえば熱物性の場合、ゾル−ゲル転移温度は液晶パネルの使用温度範囲より高く設定したり、パネルへの注入温度より低く設定したり、液晶の等方相転移温度との関係で目的によりそれより高い温度に設定したり、逆に低い温度に設定したりする必要がある。これらの要求を満たすために適切な物性値をもつ新規なゲル化剤を合成するのは大変である。しかしながら、本発明では少なくとも2種類のゲル化剤の混合により熱物性・屈折率などの物性値を調整できる。
ゾル−ゲル転移温度以上になるとゲル化剤のネットワークが崩れ、表示特性が変化してしまう。冷却しても元に戻らない場合もある。少なくとも2種類のゲル化剤の添加でより熱的に安定なネットワークを形成し、ゾル−ゲル転移温度を高くすることができる。例えば、コレステリック液晶にゲル化剤を添加する場合において、ゲル化剤1種類で良好な表示特性を示すもののゾル−ゲル転移温度が低い場合、ゾル−ゲル転移温度の高いゲル化剤と併用することで良好な表示特性を保ったまま、ゾル−ゲル転移温度を元のものより上昇させ得る。すなわち、ゾル−ゲル転移温度を、ゲル化剤Aを単独で用いた場合のゾル−ゲル転移温度TsgAと、ゲル化剤Bを単独で用いた場合のゾル−ゲル転移温度TsgBのうち低い方の温度よりも高い温度に、好ましくはTsgAとTsgBのうち高い方の温度よりも高い温度に制御可能である。
ゲル化剤1種のものより複雑なネットワークを形成することができ、明るさ、および/または、白色度を向上できる。
以下、液晶表示素子の主要な構成部材について詳しく説明する。
液晶層11は液晶にゲル化剤を含有させた液晶組成物からなるものである。液晶は室温で液晶性を示すものであれば特に限定されないが、一例としてコレステリック液晶やネマティック液晶を例示することができる。液晶がコレステリック液晶の場合、本発明においては、得られる表示素子の選択反射のピーク波長が500〜700nm、特に550〜650nmとなるように、当該液晶組成物の含有成分および含有率を調整して、調製されることが好ましい。ピーク波長が500nm未満であったり、または700nmを超えると、プレーナー時の反射率が低下するために白表示時の明るさが低下し、コントラストを高くすることが困難となる。
R3は炭素数1〜20のアルキル基、ベンジル基、−(CH2)a−COO−Re8、−(CH2)a−OCO−Re8、−(CH2)a−CONH−Re8、−(CH2)a−NHCO−Re8 、−(CH2)a−NHCONH−Re8、−(CH2)a−NHCOO−Re8、−(CH2)a−OCONH−Re8、または−(CH2)a−S−Re8である。ただし、aは5以下の自然数であり、Re8は炭素数1〜20のアルキル基である。好ましいR3は炭素数1〜10、特に1〜4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−またはiso−プロピル基、n−、sec−またはtert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等)、−(CH2)a−CONH−Re8、−(CH2)a−NHCO−Re8 、−(CH2)a−NHCONH−Re8、または−(CH2)a−NHCOO−Re8であり、特にA2が−O−のとき、−(CH2)a−CONH−Re8、−(CH2)a−NHCO−Re8 、−(CH2)a−NHCONH−Re8、または−(CH2)a−NHCOO−Re8が好ましい。好ましいR3においてaは5以下の自然数であり、Re8は炭素数10〜20の直鎖状アルキル基である。
nは5以下の自然数であり、好ましくは1〜3の自然数である。
R4は一般式(2)におけるR3と同様である。好ましいR4は炭素数1〜10、特に1〜4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−またはiso−プロピル基、n−、sec−またはtert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等)、ベンジル基である。
mは一般式(2)におけるnと同様である。好ましいmは1〜3の自然数、特に1である。
X1およびX2はそれぞれ独立して水素原子、ビニル基、フェニル基、ビフェニリル基、フェニルオキシ基、ビフェニリルオキシ基、またはシロキサン骨格を有する1価の基である。本明細書中、シロキサン骨格を有する1価の基は、H3SiO(H2SiO)pSiH3(式中、pは1〜30、特に1の自然数である)で表されるポリシロキサンから任意の1つの水素原子を除いてなる残基である。フェニル基、ビフェニリル基、フェニルオキシ基、ビフェニリルオキシ基、およびシロキサン骨格を有する1価の基は置換基を有していてよく、置換基としては、例えば、炭素数1〜3、特に1〜2のアルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基およびiso−プロピル基)およびシアノ基等が挙げられる。好ましいX1は水素原子、ビニル基、フェニル基、ビフェニリル基、またはシロキサン骨格を有する1価の基であり、より好ましくはビニル基、フェニル基、またはシロキサン骨格を有する1価の基である。好ましいX2は水素原子である。
Re1およびRe2はそれぞれ独立して炭素数1〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。好ましいRe1は炭素数1〜10の直鎖状アルキレン基である。好ましいRe2は炭素数11〜18の直鎖状アルキレン基である。
ただし、Re1またはRe2の少なくとも一方は炭素数4以上、特に4〜20、好ましくは6〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。
X1およびRe1はそれぞれ一般式(2a)においてと同様である。好ましいX1およびRe1も一般式(2a)においてと同様である。
Re3は炭素数1〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。好ましいRe3は炭素数11〜18の直鎖状アルキレン基である。
ただし、分子中、2個のRe1およびRe3のうちの少なくとも1つは炭素数4以上、特に4〜20、好ましくは6〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。
一般式(2b)中、2個以上存在する基またはnはそれぞれ独立して所定の範囲内から選択されればよい。
X2およびRe2はそれぞれ一般式(2a)においてと同様である。好ましいX2およびRe2も一般式(2a)においてと同様である。
Re4は炭素数1〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。好ましいRe4は炭素数4〜10の直鎖状アルキレン基である。
ただし、分子中、2個のRe2および2個のRe4のうちの少なくとも1つは炭素数4以上、特に4〜20、好ましくは6〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。
X3は炭素数1〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基、またはシロキサン骨格を有する2価の基である。本明細書中、シロキサン骨格を有する2価の基は、H3SiO(H2SiO)qSiH3(式中、qは1〜5、特に1〜2の自然数である)で表されるポリシロキサンから任意の2つの水素原子を除いてなる残基である。シロキサン骨格を有する2価の基は置換基を有していてよく、置換基としては、例えば、炭素数1〜3、特に1〜2のアルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基およびiso−プロピル基)等が挙げられる。好ましいX3はシロキサン骨格を有する2価の基であり、メチル基等の置換基を有していることがより好ましい。
一般式(2c)中、2個以上存在する基またはnはそれぞれ独立して所定の範囲内から選択されればよい。
Re1、Re2およびX2はそれぞれ一般式(2a)においてと同様である。好ましいRe1、Re2およびX2も一般式(2a)においてと同様である。
ただし、Re1またはRe2の少なくとも一方は炭素数4以上、特に4〜20、好ましくは6〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。
一般式(2d)で表される高分子化合物はxが1〜35程度、yが0〜25程度であることが好ましい。
一般式(2d)において、Siに結合する水素はアルキル基で置換されていてもよい。また、一般式(2d)において、x、yはそれぞれ分子内における部分構造の比率を表すものであり、これらの部分構造は規則的であってもよいし、不規則であってもよい。
X4は一般式(2a)におけるX1およびX2と同様である。好ましいX4は水素原子またはシロキサン骨格を有する1価の基である。
Re5は炭素数4〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。好ましいRe5は炭素数5〜15のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。
X5およびX6はそれぞれ独立して一般式(2a)におけるX1およびX2と同様である。好ましいX5およびX6はそれぞれ独立して水素原子、ビフェニリルオキシ基またはシロキサン骨格を有する1価の基であり、より好ましくは水素原子である。
Re6およびRe7はそれぞれ独立して炭素数1〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。好ましいRe6およびRe7はそれぞれ独立して炭素数5〜15のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基であり、より好ましくは炭素数10〜15の直鎖状アルキレン基である。
ただし、分子中、Re6またはRe7の少なくとも一方は炭素数4以上、特に4〜20、好ましくは6〜20のアルキレン基、特に直鎖状アルキレン基である。
・G35−G36
・G35−G37
・G35−G38
・G35−G40
・G35−G31
・G30−G31
・G21−G22
・G6−G8
・G7−G8
・G19−G20
・G19−G21
・G19−G22
図1において基板1、2はいずれも透光性を有しているが、上記の液晶表示素子に用いることができる一対の基板は、少なくとも一方の基板(少なくとも、光を入射させる側の基板1)が透光性を有していればよい。透光性を有する基板としては、ガラス基板、ならびにポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアリレートおよびポリエチレンテレフタレート等のフレキシブル基板を使用することができる。素子の軽量化の観点からはフレキシブル基板を使用することが好ましい。一対の基板のうち少なくとも一方の基板、好ましくは両方の基板としてフレキシブル基板を用いると、軽量で薄型の素子を作製でき、また破損(割れ)を抑えることができる。
電極3、4としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)、IZO(Indium Zinc Oxide:インジウム亜鉛酸化物)等の透明導電膜や、アルミニウム、シリコン等の金属電極、あるいはアモルファスシリコン、BSO(Bismuth Silicon Oxide)等の光導電性膜等を用いることができる。図1に示す液晶表示素子においては、既述の通り、透明基板1、2の表面に互いに平行な複数の帯状の透明電極3、4が形成されており、これらの電極3、4は互いに交差するように向かい合わされている。電極をこのように形成するには、例えば基板上にITO膜をスパッタリング法等でマスク蒸着するか、ITO膜を全面形成した後、フォトリソグラフィ法でパターニングすればよい。
原理上必須のものではないが、電極間の短絡を防止したり、液晶表示素子のガスバリア性に対する信頼性を向上させたりするために、電極3、4の少なくとも一方に絶縁性薄膜5が形成されていることが好ましい。絶縁性薄膜5としては、例えば、酸化シリコン、酸化チタン、酸化ジルコニウムやそのアルコキシド等から成る無機膜やポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機膜を例示できる。これらの材料を用いて蒸着法、スピンコート法、ロールコート法などの公知の方法によって形成することができる。さらに、絶縁性薄膜は高分子構造物に用いる高分子樹脂と同じ材料を用いて形成することもできる。
配向膜7も原理上必須のものではないが、素子の安定化などのために設けておくことが好ましい。配向膜が形成される場合、電極上に絶縁性薄膜が形成されているときは当該絶縁性薄膜上に、電極上に絶縁性薄膜が形成されていないときは電極上に形成される。配向膜7としては、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂等の有機膜や、酸化シリコン、酸化アルミニウム等の無機膜が例示される。これらの材料を用いて形成した配向膜は、ラビング処置等を施してもよい。さらに、配向膜は高分子構造物に用いる高分子樹脂と同じ材料を用いて形成することもできる。本実施形態においては白表示時の白色度向上の観点から、前記一対の基板の少なくとも一方に垂直配向膜が設けられていることが好ましい。
一対の基板間には、該基板間のギャップを均一に保持するためのスペーサー13が設けられる。スペーサーとしては、樹脂製または無機酸化物製の球体を例示できる。例えば、ボール状のガラスやセラミックス粉、あるいは有機材料からなる球状粒子が挙げられる。また、表面に熱可塑性の樹脂がコーティングしてある固着スペーサーも好適に用いられる。なお、基板間のギャップをより均一に保持するためには、図1に示すように、スペーサー13と高分子構造物10との両方を設けることが好ましいが、いずれか一方のみを設けてもよい。スペーサーの直径は高分子構造物を形成する場合はその高さ以下、好ましくは当該高さに等しい。高分子構造物を形成しない場合はスペーサーの直径がセルギャップの厚み、すなわち液晶組成物からなる液晶層の厚みに相当する。
シール材12は液晶組成物11が基板1、2の間から外に漏れないように封入するためのものであり、エポキシ樹脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいは光硬化性接着剤等を使用することができる。
高分子構造物10は、円柱状体、楕円柱状体、四角柱状体など、形状はどのようなものでもよく、また、その配置はランダムであってもよいし、格子状などの規則性を有するものであってもよい。このような高分子構造物を設けることにより、基板間ギャップを一定に保つことが容易になり、また、液晶表示素子自身の自己保持性を高めることができる。特に、ドット形状の高分子構造物を一定間隔で配置すると、表示性能を均一化しやすい。高分子構造物の高さはセルギャップの厚み、すなわち液晶組成物からなる液晶層の厚みに相当する。液晶層を挟持する基板としてフレキシブルな樹脂製基板を用いる場合に高分子構造物を設けることが特に効果的である。
散乱層(図示せず)を基板1の表面(図中、上面)または/および基板2と可視光吸収層9との間に設けてもよい。散乱層を設けることによって、白表示時の散乱度合いが上がり、白色度が向上する。散乱層としては、例えば、製品名FT−014(ポラテクノ社製)などが挙げられる。
液晶表示素子におけるセルギャップの厚み、すなわち液晶組成物からなる液晶層の厚みは、大きくなるほど白表示時の反射率は大きくなるが、駆動電圧や黒表示時の反射率も大きくなる。よって、本発明においてセルギャップの厚みは2〜50μmであってよいが、3〜15μmが好ましい。そのような好ましい範囲とすることにより、比較的低い印加電圧でも高コントラストを達成できるという本発明の効果をより有効に得ることができるためである。
本発明の好適な実施形態である液晶表示素子の製造方法は、液晶組成物を加熱した状態で液晶空セル中に真空注入する方法であるが、貼り合せ滴下法を用いても良い。
加熱された液晶組成物を液晶表示素子の空セルに真空注入し、その後注入孔を塞ぐ。液晶組成物は熱可逆性である。液晶表示素子の空セルは、液晶表示素子の上記所定の構成部材が形成された2枚の基板を、それらの部材形成面が互いに対向するように重ね合わせて加熱または/および加圧することにより作製可能である。加熱により液晶組成物が流動性を増すので、基板間への注入や基板上への液晶層形成が短時間で容易に行なえる。
以上の構成からなる液晶表示素子では、電極3、4に駆動回路20からパルス電圧を印加することで表示が行われる。例えば、液晶層をプレーナー状態とフォーカルコニック状態との間で切り替えることによって表示を行なうPL−FC駆動方式を採用してもよいし、または液晶層をプレーナー状態とホメオトロピック状態との間で切り替えることによって表示を行なうPL−Homeo駆動方式を採用してもよい。
示差走査熱量計(DSC6200;セイコーインスツル社製)により測定した。測定はサンプルを150℃まで加熱した後、冷却過程で行なった。
表示素子に対して図2に示すパルス(この駆動波形では前段のパルスで液晶を一旦プレーナー状態にリセットしている)を印加し、V−Y曲線を求める。詳しくは図2のパルスにおける区間(X)の電圧(V)を±20〜±50Vまで変化させながら記載の測定ポイントでの素子の分光分布曲線(波長−反射率曲線)およびY値(Y)を分光測色計(CM3700d;コニカミノルタセンシング社製)により複数回繰り返し測定し、V(電圧の絶対値)−Y(Y値)曲線を作成する。V−Y曲線の一例を図3に示す。V−Y曲線において最大のY値(Ymax)を示す状態をプレーナー状態(PL)、最小のY値(Ymin)を示す状態をフォーカルコニック状態(FC)とする。それらのときのY値をそれぞれY値(PL)、Y値(FC)とする。この場合、コントラストはY値(PL)/Y値(FC)で表すことができる。駆動電圧はY値がYmin+(Ymax−Ymin)/2と等しくなったときの電圧の絶対値とした。
d≦0.02;ほぼ完全な白と見なすことが出来る。
0.02<d≦0.04;ほぼ白と見なすことが出来るが、d≦0.02よりも白さの度合いが明らかに劣る。
0.04<d<0.05;光源により、白と見なされない場合がある。
d≧0.05;明らかに黄色や緑と見なされる。
よって、d≦0.02に設定するのが良い。最も好ましくはd≦0.01である。なお各値の測定温度は25℃である。
ネマティック液晶(BL006;メルク社製)84質量部、カイラル材(化学式(C6)で表される化合物および化学式(C2)で表される化合物の2:1混合物)15質量部、化学式(G21)で表されるゲル化剤0.5質量部および化学式(G22)で表されるゲル化剤0.5質量部を混合し、加熱攪拌して均一な状態になった後冷却して、カイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を得た。
一方、以下のようにして空セルを作製した。ITO電極を形成した0.7mm厚のガラス基板上に可溶性ポリイミド配向膜AL2022(JSR社製)を印刷により形成した。上記基板を対向させ、基板間にスペーサー(ミクロパール;積水ファインケミカル社製)を挟んで5.5μmに調整し、シール材(スミライトERS−2400(主剤)−ERS−2840(硬化剤);住友ベークライト社製)で液晶注入部・空気排出部を除いてシールした。
得られた液晶組成物の熱物性、および表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):76℃
・Y値(PL;白表示状態):13.4
・Y値(FC;黒表示状態):4.0
・コントラスト比(CR比):3.4
・距離(d):0.005
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、全面にわたり均質な表示であった。
ネマティック液晶(BL006;メルク社製)84質量部、カイラル材(化学式(C6)で表される化合物および化学式(C2)で表される化合物の2:1混合物)15質量部、化学式(G21)で表されるゲル化剤1質量部を用いて調製したカイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を作成した。
得られた液晶組成物の熱物性、および表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):75℃
・Y値(PL;白表示状態):15.8
・Y値(FC;黒表示状態):3.5
・コントラスト比(CR比):4.5
・距離(d):0.042
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、全面にわたり均質な表示であった。
ネマティック液晶(BL006;メルク社製)84質量部、カイラル材(化学式(C6)で表される化合物および化学式(C2)で表される化合物の2:1混合物)15質量部、化学式(G22)で表されるゲル化剤1質量部を用いて調製したカイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を作成した。
得られた液晶組成物の熱物性、および表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):83℃
・Y値(PL;白表示状態):15.3
・Y値(FC;黒表示状態):3.6
・コントラスト比(CR比):4.3
・距離(d):0.052
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、全面にわたり均質な表示であった。
ネマティック液晶(BL006;メルク社製)84質量部、カイラル材(化学式(C6)で表される化合物および化学式(C2)で表される化合物の2:1混合物)15質量部、化学式(G10)で表されるゲル化剤0.5質量部および化学式(G36)で表されるゲル化剤0.5質量部を用いて調製したカイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を作成した。
得られた液晶組成物の熱物性、および表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):51℃
・Y値(PL;白表示状態):10.8
・Y値(FC;黒表示状態):3.6
・コントラスト比(CR比):3.0
・距離(d):0.004
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、全面にわたり均質な表示であった。
ネマティック液晶(BL006;メルク社製)84質量部、カイラル材(化学式(C6)で表される化合物および化学式(C2)で表される化合物の2:1混合物)15質量部、化学式(G10)で表されるゲル化剤0.3質量部、化学式(G36)で表されるゲル化剤0.3質量部および化学式(G35)で表されるゲル化剤0.3質量部を用いて調製したカイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を作成した。
得られた液晶組成物の熱物性、および表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):56℃
・Y値(PL;白表示状態):12.6
・Y値(FC;黒表示状態):3.8
・コントラスト比(CR比):3.3
・距離(d):0.001
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、全面にわたり均質な表示であった。
ネマティック液晶(BL006;メルク社製)84質量部、カイラル材(化学式(C6)で表される化合物および化学式(C2)で表される化合物の2:1混合物)15質量部、化学式(G2)で表されるゲル化剤0.3質量部および化学式(G36)で表されるゲル化剤0.7質量部を用いて調製したカイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を作成した。
得られた液晶組成物の熱物性、および表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):51℃
・Y値(PL;白表示状態):12.0
・Y値(FC;黒表示状態):3.4
・コントラスト比(CR比):3.5
・距離(d):0.005
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、全面にわたり均質な表示であった。
ネマティック液晶(BL006;メルク社製)84質量部、カイラル材(化学式(C6)で表される化合物および化学式(C2)で表される化合物の2:1混合物)15質量部、化学式(G2)で表されるゲル化剤0.1質量部および化学式(G36)で表されるゲル化剤0.9質量部を用いて調製したカイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を作成した。
得られた液晶組成物の熱物性、および表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):50℃
・Y値(PL;白表示状態):12.9
・Y値(FC;黒表示状態):3.7
・コントラスト比(CR比):3.5
・距離(d):0.010
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、全面にわたり均質な表示であった。
ネマティック液晶(BL035;メルク社製)79質量部、化学式(C7)で表されるカイラル材18質量部、化学式(G15)で表されるゲル化剤1.5質量部および化学式(G37)で表されるゲル化剤1.5質量部を用いて調製したカイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を作成した。
得られた表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):69℃
・Y値(PL;白表示状態):11.8
・Y値(FC;黒表示状態):4.5
・コントラスト比(CR比):2.6
・距離(d):0.015
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、全面にわたり均質な表示であった。
ネマティック液晶(BL035;メルク社製)79質量部、化学式(C7)で表されるカイラル材18質量部、化学式(G37)で表されるゲル化剤3質量部を用いて調製したカイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を作成した。
得られた表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):46℃
・Y値(PL;白表示状態):14.9
・Y値(FC;黒表示状態):3.2
・コントラスト比(CR比):4.7
・距離(d):0.027
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、全面にわたり均質な表示であった。
ネマティック液晶(BL035;メルク社製)79質量部、化学式(C7)で表されるカイラル材18質量部、化学式(G15)で表されるゲル化剤3質量部を用いて調製したカイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を作成した。
得られた表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):75℃
・Y値(PL;白表示状態):10.7
・Y値(FC;黒表示状態):4.2
・コントラスト比(CR比):2.5
・距離(d):0.026
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、ややムラがあり不均質な表示であった。
ネマティック液晶(BL006;メルク社製)84質量部、カイラル材(化学式(C6)で表される化合物および化学式(C2)で表される化合物の2:1混合物)15質量部、化学式(G17)で表されるゲル化剤0.5質量部および化学式(G39)で表されるゲル化剤0.5質量部を用いて調製したカイラルネマティック液晶組成物(選択反射波長600nm)を用いたほかは、実施例1と同様にして液晶表示素子を作成した。
得られた液晶組成物の熱物性、および表示素子の表示特性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):72℃
・Y値(PL;白表示状態):12.2
・Y値(FC;黒表示状態):3.4
・コントラスト比(CR比):3.6
・距離(d):0.012
また白表示状態でセル表示部を目視観察したところ、全面にわたり均質な表示であった。
ネマティック液晶(E44;メルク社製)99質量部、化学式(G2)で表されるゲル化剤0.5質量部および化学式(G37)で表されるゲル化剤0.5質量部を混合し、加熱攪拌して均一な状態になった後冷却して、ネマティック液晶組成物Xを得た。
得られた液晶組成物Xの熱物性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):55℃
ネマティック液晶(E44;メルク社製)99質量部、化学式(G2)で表されるゲル化剤1質量部を混合し、加熱攪拌して均一になった後冷却して、ネマティック液晶組成物Yを得た。
得られた液晶組成物Yの熱物性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):47℃
ネマティック液晶(E44;メルク社製)99質量部、化学式(G37)で表されるゲル化剤1質量部を混合し、加熱攪拌して均一になった後冷却して、ネマティック液晶組成物Zを得た。
得られた液晶組成物Zの熱物性を測定したところ、以下のとおりであった。
・ゾル−ゲル転移温度(Tsg):46℃
トルエン75質量部、化学式(G2)で表されるゲル化剤13質量部および化学式(G36)で表されるゲル化剤13質量部を混合し、加熱攪拌して均一になった後冷却して、トルエンゲルを得た。このトルエンゲルの屈折率を測定したところ、1.50であった。また外挿して算出したゲル化剤の屈折率は1.51であった。
なお、屈折率の測定はアッベ屈折計1型(アタゴ社製)により行なった。またゲル化剤の屈折率はトルエンの屈折率1.49を用い外挿して算出した。以下の実験例も同様である。
トルエン75質量部、化学式(G2)で表されるゲル化剤25質量部を混合し、加熱攪拌して均一になった後冷却して、トルエンゲルを得た。このトルエンゲルの屈折率を測定したところ、1.51であった。また外挿して算出したゲル化剤の屈折率は1.55であった。
トルエン75質量部、化学式(G36)で表されるゲル化剤25質量部を混合し、加熱攪拌して均一になった後冷却して、トルエンゲルを得た。このトルエンゲルの屈折率を測定したところ、1.49であった。また外挿して算出したゲル化剤の屈折率は1.48であった。
Claims (25)
- 少なくとも2種類のゲル化剤および室温で液晶相を示す液晶を含有することを特徴とする液晶組成物。
- 前記少なくとも2種類のゲル化剤が分子中にシロキサン骨格を含む少なくとも1種類のゲル化剤および分子中にシロキサン骨格を含まない少なくとも1種類のゲル化剤を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶組成物。
- 前記少なくとも2種類のゲル化剤のうち少なくとも1種類のゲル化剤が、分子間水素結合性基含有部位と残部とからなる分子構造を有し、該分子間水素結合性基含有部位がアミド結合基およびエステル結合基から選択される分子間水素結合性基を含有し、該残部が炭素数4以上の飽和脂肪族炭化水素基を含有する自己組織型ゲル化剤であることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶組成物。
- 前記少なくとも2種類のゲル化剤が、分子間水素結合性基含有部位と残部とからなる分子構造を有し、該分子間水素結合性基含有部位がアミド結合基およびエステル結合基から選択される分子間水素結合性基を含有し、一般式(1)で表される骨格を含み、該残部が炭素数4以上の飽和脂肪族炭化水素基を含有する自己組織型ゲル化剤であって、ともに一般式(2a)、(3a)または(4a)のいずれか1つの同じ式で表される自己組織型ゲル化剤であることを特徴とする請求項3に記載の液晶組成物;
R 3 は炭素数1〜20のアルキル基、ベンジル基、−(CH 2 )a−COO−Re 8 、−(CH 2 )a−OCO−Re 8 、−(CH 2 )a−CONH−Re 8 、−(CH 2 )a−NHCO−Re 8 、−(CH 2 )a−NHCONH−Re 8 、−(CH 2 )a−NHCOO−Re 8 、−(CH 2 )a−OCONH−Re 8 、または−(CH 2 )a−S−Re 8 (ただし、aは5以下の自然数、Re 8 は炭素数1〜20のアルキル基)である;
nは5以下の自然数である;
X 1 およびX 2 はそれぞれ独立して水素原子もしくはビニル基、または置換基を有しても良い、フェニル基、ビフェニリル基、フェニルオキシ基、ビフェニリルオキシ基またはシロキサン骨格を有する1価の基である;
Re 1 およびRe 2 はそれぞれ独立して炭素数1〜20のアルキレン基である;ただし、Re 1 またはRe 2 の少なくとも一方は炭素数4以上のアルキレン基である);
R 4 は炭素数1〜20のアルキル基、ベンジル基、−(CH 2 )a−COO−Re 8 、−(CH 2 )a−OCO−Re 8 、−(CH 2 )a−CONH−Re 8 、−(CH 2 )a−NHCO−Re 8 、−(CH 2 )a−NHCONH−Re 8 、−(CH 2 )a−NHCOO−Re 8 、−(CH 2 )a−OCONH−Re 8 、または−(CH 2 )a−S−Re 8 (ただし、aは5以下の自然数、Re 8 は炭素数1〜20のアルキル基)である;
mは5以下の自然数である;
X 4 は水素原子もしくはビニル基、または置換基を有しても良い、フェニル基、ビフェニリル基、フェニルオキシ基、ビフェニリルオキシ基またはシロキサン骨格を有する1価の基である;
Re 5 は炭素数4〜20のアルキレン基である);
X 5 およびX 6 はそれぞれ独立して水素原子もしくはビニル基、または置換基を有しても良い、フェニル基、ビフェニリル基、フェニルオキシ基、ビフェニリルオキシ基またはシロキサン骨格を有する1価の基である;
Re 6 およびRe 7 はそれぞれ独立して炭素数1〜20のアルキレン基である;ただし、Re 6 またはRe 7 の少なくとも一方は炭素数4以上のアルキレン基である)。 - 前記少なくとも2種類の自己組織型ゲル化剤が有する残部の飽和脂肪族炭化水素基の炭素数が互いに4以上異なることを特徴とする請求項4に記載の液晶組成物。
- 前記少なくとも2種類の自己組織型ゲル化剤が、分子中にシロキサン骨格を含む少なくとも1種類の自己組織型ゲル化剤および分子中にシロキサン骨格を含まない少なくとも1種類の自己組織型ゲル化剤を含むことを特徴とする請求項4に記載の液晶組成物。
- 前記少なくとも2種類の自己組織型ゲル化剤が分子中にシロキサン骨格を含むものであり、該少なくとも2種類の自己組織型ゲル化剤が有する残部の飽和脂肪族炭化水素基の炭素数が互いに4以上異なることを特徴とする請求項4に記載の液晶組成物。
- B1およびB2がそれぞれ独立して−CONH−、−NHCO−、−COO−または−OCO−である(但し、B1またはB2の少なくとも一方は−CONH−または−NHCO−である)ことを特徴とする請求項4〜8のいずれかに記載の液晶組成物。
- 前記自己組織型ゲル化剤が有する分子間水素結合性基含有部位が一般式(2)、一般式(3)または一般式(4)のいずれかで表される基であることを特徴とする請求項3または8に記載の液晶組成物;
R3およびR4はそれぞれ独立して炭素数1〜20のアルキル基、ベンジル基、−(CH2)a−COO−Re8、−(CH2)a−OCO−Re8、−(CH2)a−CONH−Re8、−(CH2)a−NHCO−Re8 、−(CH2)a−NHCONH−Re8、−(CH2)a−NHCOO−Re8、−(CH2)a−OCONH−Re8、または−(CH2)a−S−Re8(ただし、aは5以下の自然数、Re8は炭素数1〜20のアルキル基)である;
nおよびmはそれぞれ独立して5以下の自然数である)。 - 前記少なくとも2種類の自己組織型ゲル化剤が有する一般式(1)の骨格のb値が互いに同じであることを特徴とする請求項4〜7のいずれかに記載の液晶組成物。
- 前記少なくとも2種類の自己組織型ゲル化剤が有する一般式(1)の骨格のB1が互いに同じであり、かつB2が互いに同じであることを特徴とする請求項4,5,6,7または11に記載の液晶組成物。
- 前記少なくとも2種類のゲル化剤がともに一般式(2a)で表される自己組織型ゲル化剤であり、それらのゲル化剤は、Re 1 および/またはRe 2 の炭素数が互いに4〜20異なり、かつ/またはX 1 および/またはX 2 に含有されるシロキサン骨格の有無が異なる請求項4に記載の液晶組成物。
- 前記少なくとも2種類のゲル化剤がともに一般式(3a)で表される自己組織型ゲル化剤であり、それらのゲル化剤は、Re 5 の炭素数が互いに4〜20異なり、かつ/またはX 4 に含有されるシロキサン骨格の有無が異なる請求項4に記載の液晶組成物。
- 前記少なくとも2種類のゲル化剤がともに一般式(4a)で表される自己組織型ゲル化剤であり、それらのゲル化剤は、Re 6 および/またはRe 7 の炭素数が互いに4〜20異なり、かつ/またはX 5 および/またはX 6 に含有されるシロキサン骨格の有無が異なる請求項4に記載の液晶組成物。
- 前記液晶組成物に含まれるゲル化剤のうち最も含有率の高いゲル化剤の割合が、含まれるゲル化剤の合計量に対して90質量%以下であることを特徴とする請求項1〜15のいずれかに記載の液晶組成物。
- 前記液晶組成物に含まれるゲル化剤のうち最も含有率の高いゲル化剤の割合が、含まれるゲル化剤の合計量に対して80質量%以下であることを特徴とする請求項1〜15のいずれかに記載の液晶組成物。
- 前記ゲル化剤の合計含有量が、液晶組成物の総量に対して0.5〜4.0質量%であることを特徴とする請求項1〜17のいずれかに記載の液晶組成物。
- 前記液晶が室温でコレステリック相を示す液晶であることを特徴とする請求項1〜18のいずれかに記載の液晶組成物。
- 前記室温でコレステリック相を示す液晶がネマティック液晶およびカイラル材からなることを特徴とする請求項19に記載の液晶組成物。
- ゾル−ゲル転移温度が液晶相−等方相転移温度より低いことを特徴とする請求項1〜20のいずれかに記載の液晶組成物。
- 請求項1〜21のいずれかに記載の液晶組成物を用いた液晶表示素子。
- 選択反射のピーク波長が500〜700nmの間にあることを特徴とする請求項22に記載の液晶表示素子。
- 一対の基板間に請求項1〜21のいずれかに記載の液晶組成物を挟持した液晶表示素子であって、前記一対の基板の少なくとも一方に電極が設けられていることを特徴とする液晶表示素子。
- 請求項22〜24のいずれかに記載の液晶表示素子であって、前記一対の基板の少なくとも一方に垂直配向膜が設けられていることを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006157570A JP5114873B2 (ja) | 2005-06-06 | 2006-06-06 | 液晶組成物およびこれを用いた液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005165263 | 2005-06-06 | ||
JP2005165263 | 2005-06-06 | ||
JP2006114154 | 2006-04-18 | ||
JP2006114154 | 2006-04-18 | ||
JP2006157570A JP5114873B2 (ja) | 2005-06-06 | 2006-06-06 | 液晶組成物およびこれを用いた液晶表示素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007308668A JP2007308668A (ja) | 2007-11-29 |
JP5114873B2 true JP5114873B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=38841827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006157570A Expired - Fee Related JP5114873B2 (ja) | 2005-06-06 | 2006-06-06 | 液晶組成物およびこれを用いた液晶表示素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5114873B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005316390A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Konica Minolta Holdings Inc | 液晶表示素子およびその製造方法 |
KR20080010443A (ko) * | 2005-04-28 | 2008-01-30 | 도쿠리쓰교세이호징 가가쿠 기주쓰 신코 기코 | 피부 재생 촉진제 |
US20090075860A1 (en) * | 2005-04-28 | 2009-03-19 | Japan Science And Technology Agency | Transdermal absorption enhancer |
JP2007016156A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Konica Minolta Holdings Inc | 液晶組成物及び液晶表示素子 |
-
2006
- 2006-06-06 JP JP2006157570A patent/JP5114873B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007308668A (ja) | 2007-11-29 |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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A521 | Written amendment |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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