JP5113528B2 - 電解メッキ装置および電解メッキ処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、金属加工品などのワークに電解メッキを施す電解メッキ装置、および、複数個の回転ドラムを経由させて金属加工品などのワークを搬送して、前洗浄処理、メッキ処理および後洗浄を行う電解メッキ処理装置に関するものである。

プレス加工、板金加工、切削加工等の金属加工が施されたワークにメッキを施すためのメッキ処理装置では、例えば、回転ドラム式のワーク洗浄装置を用いてワークの前洗浄を行った後に、メッキ槽にワークを入れてメッキ処理を施し、しかる後に、再び、回転ドラム式などのワーク洗浄装置を用いてワークの後洗浄を行うようにしている。回転ドラムを用いた洗浄装置は、特許文献１〜３に開示されている。
実開平６−８１６７８号公報 特開昭５５−１４９６７１号公報 特開平５−１５４２７２号公報

本発明の目的は、内部に渦巻き状通路を備えた回転ドラムを用いて構成した電解メッキ装置および、これらを用いて構成した小型でコンパクトな電解メッキ処理装置を提案することにある。

本発明の電解メッキ装置は、
水平に配置した中空回転軸と、
この中空回転軸の下側に配置されたメッキ液が貯留されたメッキ槽と、
前記中空回転軸に対して、当該中空回転軸が同心状に貫通した状態に取り付けられ、下側部分が前記メッキ槽のメッキ液に浸漬しながら回転する回転ドラムと、
前記メッキ槽内に配置された電解メッキ用の正側電極板および負側電極板と、
前記中空回転軸を回転させる回転駆動源とを有し、
前記回転ドラムは、前記負側電極板を挟み、同心状に対峙している左右一対の円盤を備え、
これらの円盤の間には、これらの円盤の回転に伴って、外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けて、メッキ対象のワークを案内するための渦巻き状通路が形成されており、
前記中空回転軸の内周面には、当該中空回転軸の中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンが取り付けられ、当該中空回転軸の回転に伴って、ワークを前記中心軸線の方向に送り出すための軸方向通路が形成されており、
前記円盤の間に形成されている前記渦巻き状通路における半径方向の中心側の端が前記軸方向通路の送り出し方向の一方の端に連通していることを特徴としている。

また、本発明の電解メッキ装置では、前記回転ドラムの前記渦巻き状通路において、
前記回転ドラムの前記一対の円盤のそれぞれの内側面には、前記渦巻き状通路を規定している一定の深さの渦巻き状凹部が形成されており、
各渦巻き状凹部の外周側の側面における前記負側電極板を挟み対峙する対峙面部分に連続した部位が、左右に広がるテーパ面となっており、
前記負側電極板は、前記渦巻き状通路に沿った凹円弧状の輪郭縁部分を備えており、
当該輪郭縁部分は、前記渦巻き状通路の前記テーパ面の間に所定の長さだけ突出していることを特徴としている。

さらに、本発明の電解メッキ装置では、前記メッキ槽にメッキ液を供給するためのカートリッジ式のメッキ液タンクを有していることを特徴としている。

また、前記メッキ液タンクから供給されるメッキ液の温度を制御する温度制御部を有していることを特徴としている。

さらには、本発明の電解メッキ装置では、前記正側電極板および負側電極板に対する通電制御部を有しており、当該通電制御部は、前記負側電極板に付着したメッキを除去するために、前記正側電極板および負側電極板に対して逆極性で電圧を印加するようになっていることを特徴としている。

次に、本発明の電解メッキ処理装置は、
水平に配置した中空回転軸と、
この中空回転軸に沿って配置されたワーク投入部、複数の処理槽、およびワーク排出部と、
前記中空回転軸に対して、当該中空回転軸が同心状に貫通した状態で、当該中空回転軸の中心軸線の方向に沿って所定の間隔で取り付けられ、それぞれの下側部分が対応する処理槽に貯留されている処理液に浸漬しながら回転する複数個の回転ドラムと、
前記中空回転軸を回転させる回転駆動源とを有し、
前記処理槽として、前記中空回転軸の中心軸線の方向に沿って配置されているアルカリ脱脂洗浄槽、第１水洗浄槽、酸洗浄槽、第２水洗浄槽、メッキ槽、第３水洗浄槽および乾燥槽が含まれており、
前記回転ドラムとして、アルカリ脱脂洗浄槽回転ドラム、第１水洗浄槽回転ドラム、酸洗浄槽回転ドラム、第２水洗浄槽回転ドラム、メッキ槽回転ドラム、第３水洗浄槽回転ドラム、および、乾燥槽回転ドラムとが含まれており、
前記メッキ槽内には電解メッキ用の正側電極板および負側電極板が配置されており、
前記メッキ槽回転ドラムは、
前記負側電極板を挟み、同心状に対峙している左右一対の円盤を備え、
これらの円盤の間には、これらの円盤の回転に伴って、外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けて、メッキ対象のワークを案内するための渦巻き状通路が形成されており、
前記中空回転軸の内周面には、当該中空回転軸の中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンが取り付けられ、当該中空回転軸の回転に伴って、ワークを前記中心軸線の方向に送り出すための軸方向通路が形成されており、
前記渦巻き状通路に、前段側の前記第２水洗浄槽回転ドラムからメッキ対象のワークが送り込まれ、
前記円盤の間に形成されている前記渦巻き状通路における半径方向の中心側の端から、前記軸方向通路の送り出し方向の上流側の端に、ワークが送り出され、
前記軸方向通路の送り出し方向の下流側の端から、後段側の前記第３水洗浄槽回転ドラムに、メッキ処理済みのワークが送り出されることを特徴としている。

また、本発明の電解メッキ処理装置では、前記回転ドラムの前記渦巻き状通路において、前記負側電極板を挟み対峙する対峙面部分に連続した部位が左右に広がるテーパ面となっており、前記負側電極板は、前記渦巻き状通路に沿った凹円弧状の輪郭縁部分を備えており、当該輪郭縁部分は、前記渦巻き状通路の前記テーパ面の間に所定の長さだけ突出していることを特徴としている。

さらに、本発明の電解メッキ処理装置では、前記正側電極板および負側電極板に対する通電制御部を有しており、当該通電制御部は、前記負側電極板に付着したメッキを除去するために、前記正側電極板および負側電極板に対して逆極性で電圧を印加するようになっていることを特徴としている。

さらには、本発明の電解メッキ装置では、前記メッキ槽以外の前記処理槽に用いられている前記回転ドラムは、
所定間隔で同心状に配置されている左右一対の円盤と、これらの間に取り付けた所定幅の渦巻き状のワークガイド板とを備え、当該ワークガイド板によって、前記回転ドラムの回転に伴って、外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けて、洗浄対象のワークを案内するための渦巻き状通路が形成されており、
前記中空回転軸の内周面には、当該中空回転軸の中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンが取り付けられ、当該中空回転軸の回転に伴って、ワークを前記中心軸線の方向に送り出すための軸方向通路が形成されており、
前記渦巻き状通路における半径方向の外周側の端には、前記ワーク投入部から、あるいは、前段側の前記処理槽の前記軸方向通路の送り出し方向の下流側の端から、ワークが送り込まれ、
前記渦巻き状通路における半径方向の中心側の端から、前記軸方向通路の送り出し方向の上流側の端に、ワークが送り込まれ、
前記軸方向通路の送り出し方向の下流側の端から、次段の前記処理槽の前記渦巻き状通路、あるいは、前記ワーク排出部に、ワークが送り出され、
前記回転ドラムにおける少なくとも前記ワークガイド板は、液体が通過可能な素材であるパンチングメタルまたはメッシュから形成されていることを特徴としている。

ここで、前記回転ドラムは、前記中空回転軸を挟み上下に分離可能な上側半円形部分と下側半円形部分から構成されており、前記上側半円形部分には、左右一対の半円形盤の中心部分に、前記中空回転軸の上半部分が嵌り込んでいる半円形の切り欠きが形成されており、前記下側半円形部分の中心部分は、前記中空回転軸の下側外周面を所定幅で180度に亘って切り取ることにより形成した半円形溝に差し込まれていることを特徴としている。

また、各処理槽に処理液を供給するためのカートリッジ式のタンクを有していることを特徴としている。

さらに、各処理槽に供給される各処理液の温度を制御するための温度制御部を有していることを特徴としている。

本発明では、回転ドラムに中心軸線に直交する方向に渦巻き状通路が形成されているので、回転ドラムの内周面に螺旋状に配置された送りフィンの間の螺旋状の溝に沿ってワークを搬送しながらメッキ、洗浄などの処理を行う場合に比べて、軸線方向の寸法の短いコンパクトな電解メッキ装置およびワーク洗浄装置を構築できる。

また、中空回転軸に複数個の回転ドラムを取り付けた場合などにおいて、各回転ドラムの渦巻き状通路の間が完全に仕切られた状態を形成できる。よって、一方の回転ドラムの渦巻き状通路内の洗浄液などの処理液が他方の回転ドラムの側に流れ込むことを阻止するための液止め機構が不要になる。よって、本発明の回転ドラムを用いて電解メッキ処理装置を構築した場合には、従来の回転ドラム式洗浄装置が用いられている場合に比べて、装置寸法を小さくでき、また、製造コストを下げることが可能になる。

本発明を適用した電解メッキ処理装置の全体構成図である。 図１のメッキ処理部を示す概略構成図である。 洗浄用回転ドラムを示す分解斜視図である。 メッキ用回転ドラムを示す斜視図である。 メッキ用回転ドラムを反対側から見た場合の斜視図である。 メッキ用回転ドラムの円盤を示す斜視図、平面図、断面図および部分拡大断面図である。 メッキ用回転ドラムに取り付けられる負側電極板を示す平面図である。 処理液の循環系を示す説明図である。 回転ドラムおよび中空回転軸の構造を示す説明図である。 回転ドラムおよび中空回転軸によるワーク送り動作を示す説明図である。

以下に、図面を参照して、本発明を適用した電解ニッケルメッキ処理装置の実施の形態を説明する。

(全体構成)
図１は本実施の形態に係る電解ニッケルメッキ処理装置を示す全体構成図である。電解ニッケルメッキ処理装置１は、ＤＴＦと呼ばれる卓上型のものであり、横長のボックス形の装置架台２の上に、メッキ処理部３および制御ボックス４が搭載された構成となっている。装置架台２には、メッキ処理部３に各処理液を供給するためのカートリッジ式の処理液タンク収納部５が形成されており、この隣には、乾燥用圧縮空気を供給するためのエアータンクおよびコンプレッサからなるエアー供給ユニット６と、電解メッキ用の給電制御回路および電源からなる電源ユニット７が組み付けられている。処理液タンク収納部５には複数個のカートリッジ式の処理液タンク１２〜１７が着脱可能な状態で収納されている。

メッキ処理部３は、横長の架台８の上に搭載された矩形の処理槽部１０と、この処理槽部１０の側方に配置された駆動モータ９とを有している。架台８の内部には、下側の処理液タンク収納部５に収納されている各処理液タンク１２〜１７から処理液を処理槽部１０に供給するためのポンプを含む処理液循環機構(図示せず)が内蔵されている。

図２は処理槽部１０を示す概略構成図である。図１および図２を参照して説明すると、処理槽部１０は、上方が開口している横長のボックス２１と、当該ボックス２１の開口を覆う状態に被せた横長のボックス状の透明蓋２２とを備えている。ボックス２１の内部は所定の間隔でその短辺方向に延びる複数枚、本例では７枚の垂直仕切り板３１〜３７によって８つに区画され、図面に向かって左側から、ワーク投入部４１、アルカリ脱脂洗浄槽４２、第１水洗浄槽４３、酸洗浄槽４４、第２水洗浄槽４５、メッキ槽４６、第３水洗浄槽４７および乾燥槽４８が形成されている。最も左側のワーク投入部４１を除く各処理槽４２〜４８が透明蓋２２によって覆われている。また、ボックス２１の右側端面２４と駆動モータの間は、メッキ処理後のワークが排出されるワーク排出部４９とされている。

これらのワーク投入部４１、各処理槽４２〜４８、およびワーク排出部４９の上側には、これらに直交する方向に中空回転軸２３が水平に配置されている。中空回転軸２３は、各垂直仕切り板３１〜３７およびボックス２１の右側の端板２４の上端面の中央部分を半円形に切り欠くことにより形成した軸支部によって回転自在の状態で支持されている。端板２４よりも右側に延びている中空回転軸２３の右端部分は、当該中空回転軸２３を回転させるための駆動モータ９に連結されている。

中空回転軸２３には、その中心軸線の方向に沿って、所定の間隔で９個の回転ドラム５１〜５９が同心状態で固定されており、これらは中空回転軸２３と一体回転するようになっている。処理槽４２〜４８に配置されている各回転ドラム５２〜５８の外周下側に位置する部分が処理槽４２〜４８の処理液内に浸漬した状態となるように、処理液の液面高さが調整されている。メッキ槽４６に配置されているメッキ用回転ドラム５６以外の回転ドラムの構成は基本的に同一である。したがって、以下においては、メッキ用回転ドラム５６と、アルカリ脱脂洗浄槽４２に配置されている洗浄用回転ドラム５２の構成を中心に説明する。

(洗浄用回転ドラム)
図３は洗浄用回転ドラム５２を示す分解斜視図である。洗浄用回転ドラム５２は、一定の間隔で同心状に配置されている左右一対の円盤７１、７２と、これらの間に取り付けた一定幅の渦巻き状のワークガイド板７３ａ、７３ｂとを備え、当該ワークガイド板によって、回転ドラム５２の回転に伴って、外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けて、洗浄対象のワークを案内するための渦巻き状通路７４が形成されている。

ここで、中空回転軸２３の内周面には、後述のように、当該中空回転軸２３の中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンが取り付けられ、当該中空回転軸２３の回転に伴って、ワークを前記中心軸線の方向に送り出すための軸方向通路が形成されている。円盤７１、７２の間に形成されている渦巻き状通路７４における半径方向の中心側の端７４ａが軸方向通路の送り出し方向の一方の端に連通している。軸方向通路の送り出し方向の他方の端は、次段側の回転ドラム５３の渦巻き状通路に連通している。

回転ドラム５２におけるワークガイド板７３ａ、７３ｂは、パンチングメタル、メッシュなどのような液体が通過可能な素材から形成されている。また、ワークガイド板７３ｂが取り付けられている側の左右の円盤７１、７２にも、複数本のスリット７１１からなる通液部分が形成されている。

この構成の回転ドラム５２は、中空回転軸２３を挟み上下に分離可能な上側半円形部分７５と下側半円形部分７６から構成されている。上側半円形部分７５は、左右一対の半円形盤７１ａ、７２ａを備え、それらの中心部分に、中空回転軸２３の上半部分が嵌り込んでいる半円形の切り欠き７１ｃ、７２ｃが形成されており、また、これらの両側にはフランジ７１ｄ、７２ｄが形成されている。下側半円形部分７６は左右の半円形盤７１ｂ、７２ｂを備え、それらの中心部分は、中空回転軸２３の下側外周面を所定幅で180度に亘って切り取ることにより形成した半円形溝２３ａに差し込まれるようになっている。また、フランジ７１ｄ、７２ｄに重ね合わされるフランジ７１ｅ、７２ｅが形成されている。

したがって、上下の上側半円形部分７５と下側半円形部分７６を中空回転軸２３を挟み相互に合わせて、フランジを締結固定するという簡単な作業によって、回転ドラム５２を中空回転軸２３に組付けることができる。また、フランジのねじを緩めることにより、回転ドラム５２を簡単に取り外すことができる。よって、ワークピースが内部に詰まった場合やメンテナンス作業を簡単に行うことができる。

なお、中空回転軸２３には、一定の間隔で半円形溝２３ａが形成されており、各半円形溝２３ａに、各回転ドラム５１〜５９が取り付けられるようになっている。これらの回転ドラムのうちメッキ用回転ドラム５６は次に述べるように、上下分割型ではなく、中空回転軸２３に対して半径方向に移動させることにより、その着脱ができるようになっている。

(メッキ用回転ドラム)
図４はメッキ用回転ドラム組立体を取り出して示す斜視図であり、図５は反対側の面から見た場合の斜視図である。メッキ用回転ドラム組立体６０は、メッキ用回転ドラム５６と、メッキ用の正側電極板６１および負側電極板６２と、電極支持板６３とを備えている。メッキ用回転ドラム５６は、負側電極板６２を挟み、同心状に対峙している左右一対の円盤６４、６５を備えている。これらの円盤６４、６５の間には、これらの円盤６４、６５の回転に伴って、外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けて、メッキ対象のワークを案内するための一定幅の渦巻き状通路が形成されている。なお、中空回転軸２３の内周面には、後述のように、当該中空回転軸２３の中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンが取り付けられ、当該中空回転軸２３の回転に伴って、ワークを中心軸線の方向に送り出すための軸方向通路が形成されている。

電極支持板６３は横長の直方体形状をしており、その上側中央部分には中空回転軸２３の軸穴６３ａが形成され、中空回転軸２３は当該軸穴６３ａを回転自在の状態で貫通している。この電極支持板６３はボックス２１の側に固定されており、当該電極支持板６３の一方の面には負側電極板６２が取り付けられている。電極支持板６３の他方の面には正側電極板６１が取り付けられており、当該正側電極板６１は、回転ドラム５６を挟み、両側から負側電極板６２に対峙している左右の電極板部分６１ａ、６１ｂを備えている。

図６は回転ドラム５６を構成している円盤６４、６５を示す斜視図、平面図、断面図および電極板が取り付けられた状態の部分拡大断面図である。図７は負側電極板６２を示す平面図である。

円盤６４、６５は左右対称な形状をしており、その外側面６４ａ、６５ａは平坦な面であり、その内側面６４ｂ、６５ｂには、一定の深さの渦巻き状凹部６４ｃ、６５ｃが形成されており、各渦巻き状凹部６４ｃ、６５ｃの外周側の側面はテーパ面６４ｄ、６５ｄとされている。また、円盤６４ａ、６５ａの内側面には他の表面よりも僅かに突出した合わせ面部分６４ｅ、６５ｅが形成されており、円盤６４、６５はこれらの合わせ面部分６４ｅ、６５ｅが重ね合わされた状態で、固定ネジ(図示せず)によって相互に固定される。この結果、双方の円盤６４、６５の外周縁部分には一定の隙間が形成され、ここに、負側電極板６２が差し込まれ、その上端縁部分６２ａが渦巻き状通路６６内に僅かに突出した状態となっている(図６(ｄ)参照)。図７から分かるように、負側電極板６２の上端縁部分６２ａは渦巻き状通路６６の外周側部分に対応した凹円弧形状をしている。

さらに、各円盤６４、６５における渦巻き状凹部６４ｂ、６５ｂの底面部分には、複数の箇所に、円弧状の貫通孔６７が形成されており、これらを介して、メッキ液が流通可能となっている。また、各円盤６４、６５には、側方から中空回転軸２３を差し込むために、半径方向に延びる差込溝６４ｆ、６５ｆが形成されている。

なお、円盤６４、６５の間に形成されている渦巻き状通路６６における半径方向の中心側の端６６ａが中空回転軸２３内部の軸方向通路の送り出し方向の一方の端に連通している。軸方向通路の送り方向の他方の端は、次段側の回転ドラムの渦巻き状通路に連通している。

(処理液の循環系)
図８は、アルカリ脱脂洗浄槽４２に洗浄液を供給するための循環系を示す説明図である。本例では、処理液タンク収納部５にカートリッジ式の洗浄液タンク１２が収納されている。洗浄液タンク１２は、その上面に蓋１２ａによって封鎖された口１２ｂが形成されており、その側面の上下には、洗浄液回収口１２ｃおよび洗浄液供給口１２ｄが形成されている。これらの洗浄液回収口１２ｃ、洗浄液供給口１２ｄには差し込み口を備えた回収チューブ１２ｅおよび供給チューブ１２ｆの一端が取り外し可能な状態で接続されている。供給チューブ１２ｆは供給ポンプ１２ｇを介して、アルカリ脱脂洗浄槽４２の底面に形成されている供給口４２ａに連通している。アルカリ脱脂洗浄槽４２の側面にはオーバーフロー口４２ｂが形成されており、ここからオーバーフローした洗浄液は後側の回収タンク４２ｃに回収される。回収タンク４２ｃの底面には回収口４２ｄが形成されており、ここに、回収チューブ１２ｅが接続されている。

なお、アルカリ脱脂洗浄槽４２以外の処理槽４３〜４７においても同様に、各処理液タンク１３〜１７の循環系が構成されている。

また、本例では、各処理液タンク１２〜１７の両側および間には、プレートヒータ１８が配置されている。プレートヒータ１８により、各処理液タンク１２〜１７から供給される処理液の温度がメッキ処理に最適となるように制御されるようになっている。

なお、回転ドラム５１も回転ドラム５２と同様な構造となっている。又、乾燥用の回転ドラム５８には、その内部を搬送されるワークに乾燥空気を吹き付けるためのノズルが配置されており、エアー供給ユニット６から乾燥空気がノズルに供給されるようになっている。これ以外の基本的な回転ドラム５８の構成は回転ドラム５２と同様である。

(回転ドラム、中空回転軸によるワーク搬送動作)
図９および図１０は、回転ドラム５２および中空回転軸２３によるワーク搬送動作を説明するための説明図である。まず、図９を参照して回転ドラム５２の構造を詳細に説明する。

先に述べたように、回転ドラム５２は、中心軸線の方向の両側に一定の間隔で対向配置した円盤７１、７２と、渦巻き状のワークガイド板７３ａ、７３ｂを有している。ワークガイド板７３ａは、円盤７１、７２の外周縁に沿って取り付けられている半円形の大径円弧板であり、このワークガイド板７３ａの一端には、180度の円弧を張る小径のワークガイド板７３ｂが滑らかに連続しており、このワークガイド板７３ｂの一端には、中空回転軸２３の半円形溝２３ａの反対側に位置する円形外周面２３ｃが滑らかに連続しており、これらにより渦巻き状通路７４が形成されている。

中空回転軸２３の内周面１０７ａには、当該内周面に沿って中心軸線を中心とする螺旋状の送りフィン１０８が取り付けられている。この送りフィン１０８は内周面１０７ａから垂直に起立した一定の高さのものであり、一定の送りピッチで形成されている。この送りフィン１０８の間が、ワークを軸線方向に送り出す軸方向通路１１７として機能する。

図１０を参照してワーク搬送動作を説明する。図１０(ａ)に示す状態を回転方向の原点位置Ｐ(０)とする。この状態において、ワークＷ(１)を渦巻き状通路７４に投入すると、ワークＷ（１）は渦巻き状通路７４の最も低い位置に到る。この状態から回転ドラム５２および中空回転軸２３を矢印Ａの方向に回転すると、ワークＷ(１)は自重により相対的に滑り落ちて常に最も低い位置に保持される。

図１０(ｂ)は90度回転した位置Ｐ(９０)の状態を示してある。回転ドラム５２が更に回転すると、ワークＷ(１)は渦巻き状通路７４において最も低い位置に保持される。渦巻き状通路７４は回転に伴って中心側に移動するので、ワークＷ(１)も中心側に向けて徐々に引上げられる。図１０(ｃ)は180度回転した位置Ｐ(１８０)の状態を示し、図１０(
ｄ)は270度回転した位置Ｐ(２７０)を示してある。270度回転すると、ワークＷ(１)は中空回転軸２３の内部に移る。

中空回転軸２３の内周面には送りフィン１０８が取り付けられている。したがって、中空回転軸２３の回転に伴って、ワークＷ(１)は、送りフィン１０８によって規定される軸線方向通路１１７に沿って次段側の回転ドラム５３に向けて送りだされる。回転ドラム５２が１回転した後の位置Ｐ(３６０)の状態では、図１０(ｅ)に示すように、ワークＷ(１)は中空回転軸内に位置している。この状態から回転ドラム５２を更に90度回転させた位置Ｐ(４５０)に到ると、図１０(ｆ)に示すように、ワークＷ(１)が軸線方向に送り出された状態になる。

このような送り動作によって、本例の電解メッキ処理装置１の処理槽部１０では、中空回転軸２３を回転すると、各回転ドラム５１〜５９内に形成されている渦巻き状通路７４によってワークが半径方向に案内され、各処理槽４２〜４７において前洗浄、メッキ処理および後洗浄が行われ、しかる後に、中空回転軸２３内の螺旋状の送りフィン１０８によって次段に送り込まれる。最後に、最終段の乾燥用ドラム５８によって乾燥された後に、メッキ処理されたワークが回転ドラム５９から排出される。

本例の電解メッキ処理装置１は、連続１個流し生産および複数個流し生産に対応することができる。また、機械装置に直結でき、他の機械への搬送が可能なインライン装置として用いることができる。さらに、１個流しの場合には、他のワークとの接触が無く、また、円弧面上を移動するので、ワークと搬送経路を規定している円弧面との間が面接触しないので、傷が付き難いという利点がある。

さらに、本例では、カートリッジ式の処理液タンクを用いているので、液交換が簡単であり、手が汚れることがない。また、ヒータを用いて処理液温度を管理しているので、最適な状態でメッキ処理を行うことが可能になる。

これに加えて、メッキ用の電極に対して逆極性の印加を行うことにより、電極に付いたメッキを除去できるので、耐久性が増すという利点がある。

Claims (12)

1. 水平に配置した中空回転軸と、
   この中空回転軸の下側に配置されたメッキ液が貯留されたメッキ槽と、
   前記中空回転軸に対して、当該中空回転軸が同心状に貫通した状態に取り付けられ、下側部分が前記メッキ槽のメッキ液に浸漬しながら回転する回転ドラムと、
   前記メッキ槽内に配置された電解メッキ用の正側電極板および負側電極板と、
   前記中空回転軸を回転させる回転駆動源とを有し、
   前記回転ドラムは、前記負側電極板を挟み、同心状に対峙している左右一対の円盤を備え、
   これらの円盤の間には、これらの円盤の回転に伴って、外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けて、メッキ対象のワークを案内するための渦巻き状通路が形成されており、
   前記中空回転軸の内周面には、当該中空回転軸の中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンが取り付けられ、当該中空回転軸の回転に伴って、ワークを前記中心軸線の方向に送り出すための軸方向通路が形成されており、
   前記円盤の間に形成されている前記渦巻き状通路における半径方向の中心側の端が前記軸方向通路の送り出し方向の一方の端に連通していることを特徴とする電解メッキ装置。
2. 請求項１において、
   前記回転ドラムの前記一対の円盤のそれぞれの内側面には、前記渦巻き状通路を規定している一定の深さの渦巻き状凹部が形成されており、
   各渦巻き状凹部の外周側の側面における前記負側電極板を挟み対峙する対峙面部分に連続した部位が、左右に広がるテーパ面となっており、
   前記負側電極板は、前記渦巻き状通路に沿った凹円弧状の輪郭縁部分を備えており、
   当該輪郭縁部分は、前記渦巻き状通路の前記テーパ面の間に所定の長さだけ突出していることを特徴とする電解メッキ装置。
3. 請求項１において、
   前記メッキ槽のメッキ液を供給するためのメッキ液タンクを有しており、
   当該メッキ液タンクはカートリッジ式のタンクであることを特徴とする電解メッキ装置。
4. 請求項３において、
   前記メッキ液タンクから供給されるメッキ液の温度を制御する温度制御部を有していることを特徴とする電解メッキ装置。
5. 請求項１において、
   前記正側電極板および負側電極板に対する通電制御部を有しており、
   当該通電制御部は、前記負側電極板に付着したメッキを除去するために、前記正側電極板および負側電極板に対して逆極性で電圧を印加するようになっていることを特徴とする電解メッキ装置。
6. 水平に配置した中空回転軸と、
   この中空回転軸に沿って配置されたワーク投入部、複数の処理槽、およびワーク排出部と、
   前記中空回転軸に対して、当該中空回転軸が同心状に貫通した状態で、当該中空回転軸の中心軸線の方向に沿って所定の間隔で取り付けられ、それぞれの下側部分が対応する処理槽に貯留されている処理液に浸漬しながら回転する複数個の回転ドラムと、
   前記中空回転軸を回転させる回転駆動源とを有し、
   前記処理槽として、前記中空回転軸の中心軸線の方向に沿って配置されているアルカリ脱脂洗浄槽、第１水洗浄槽、酸洗浄槽、第２水洗浄槽、メッキ槽、第３水洗浄槽および乾燥槽が含まれており、
   前記回転ドラムとして、アルカリ脱脂洗浄槽回転ドラム、第１水洗浄槽回転ドラム、酸洗浄槽回転ドラム、第２水洗浄槽回転ドラム、メッキ槽回転ドラム、第３水洗浄槽回転ドラム、および、乾燥槽回転ドラムとが含まれており、
   前記メッキ槽内には電解メッキ用の正側電極板および負側電極板が配置されており、
   前記メッキ槽回転ドラムは、
   前記負側電極板を挟み、同心状に対峙している左右一対の円盤を備え、
   これらの円盤の間には、これらの円盤の回転に伴って、外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けて、メッキ対象のワークを案内するための渦巻き状通路が形成されており、
   前記中空回転軸の内周面には、当該中空回転軸の中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンが取り付けられ、当該中空回転軸の回転に伴って、ワークを前記中心軸線の方向に送り出すための軸方向通路が形成されており、
   前記渦巻き状通路に、前段側の前記第２水洗浄槽回転ドラムからメッキ対象のワークが送り込まれ、
   前記円盤の間に形成されている前記渦巻き状通路における半径方向の中心側の端から、前記軸方向通路の送り出し方向の上流側の端に、ワークが送り出され、
   前記軸方向通路の送り出し方向の下流側の端から、後段側の前記第３水洗浄槽回転ドラムに、メッキ処理済みのワークが送り出されることを特徴とする電解メッキ処理装置。
7. 請求項６において、
   前記メッキ槽回転ドラムにおける前記一対の円盤の内側面には、前記渦巻き状通路を規定している一定の深さの渦巻き状凹部が形成されており、
   各渦巻き状凹部の外周側の側面において、前記負側電極板を挟み対峙する対峙面部分に連続した部位が左右に広がるテーパ面となっており、
   前記負側電極板は、前記渦巻き状通路に沿った凹円弧状の輪郭縁部分を備えており、
   当該輪郭縁部分は、前記渦巻き状通路の前記テーパ面の間に所定の長さだけ突出していることを特徴とする電解メッキ処理装置。
8. 請求項６において、
   前記正側電極板および前記負側電極板に対する通電制御部を有しており、
   当該通電制御部は、前記負側電極板に付着したメッキを除去するために、前記正側電極板および前記負側電極板に対して逆極性で電圧を印加するようになっていることを特徴とする電解メッキ処理装置。
9. 請求項６において、
   前記メッキ槽以外の前記処理槽に用いられている前記回転ドラムは、
   所定間隔で同心状に配置されている左右一対の円盤と、これらの間に取り付けた所定幅の渦巻き状のワークガイド板とを備え、当該ワークガイド板によって、前記回転ドラムの回転に伴って、外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けて、洗浄対象のワークを案内するための渦巻き状通路が形成されており、
   前記中空回転軸の内周面には、当該中空回転軸の中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンが取り付けられ、当該中空回転軸の回転に伴って、ワークを前記中心軸線の方向に送り出すための軸方向通路が形成されており、
   前記渦巻き状通路における半径方向の外周側の端には、前記ワーク投入部から、あるいは、前段側の前記処理槽の前記軸方向通路の送り出し方向の下流側の端から、ワークが送り込まれ、
   前記渦巻き状通路における半径方向の中心側の端から、前記軸方向通路の送り出し方向の上流側の端に、ワークが送り込まれ、
   前記軸方向通路の送り出し方向の下流側の端から、次段の前記処理槽の前記渦巻き状通路、あるいは、前記ワーク排出部に、ワークが送り出され、
   前記回転ドラムにおける少なくとも前記ワークガイド板は、液体が通過可能な素材であるパンチングメタルまたはメッシュから形成されていることを特徴とする電解メッキ処理装置。
10. 請求項９において、
    前記メッキ槽以外の前記処理槽に用いられている前記回転ドラムは、
    前記中空回転軸を挟み上下に分離可能な上側半円形部分と下側半円形部分から構成されており、
    前記上側半円形部分には、左右一対の半円形盤の中心部分に、前記中空回転軸の上半部分が嵌り込んでいる半円形の切り欠きが形成されており、
    前記下側半円形部分の中心部分は、前記中空回転軸の下側外周面を所定幅で１８０度に亘って切り取ることにより形成した半円形溝に差し込まれていることを特徴とする電解メッキ処理装置。
11. 請求項６において、
    各処理槽に処理液を供給するためのカートリッジ式のタンクを有していることを特徴とする電解メッキ処理装置。
12. 請求項１１において、
    各処理槽に供給される各処理液の温度を制御するための温度制御部を有していることを特徴とする電解メッキ処理装置。

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