JP5102065B2 - 画像形成装置 - Google Patents

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Description

本発明は、一般に画像形成装置に関し、とりわけ、マルチビーム方式で潜像を形成する画像形成装置に関する。
ディジタル複合複写機の省スペース性は、特に、ローエンド製品においてより重視される傾向にある。省スペース性を実現するための光学系の方式として、従来、斜入射方式が知られている。
図16は、斜入射方式の一例を示す側面図である。図16によれば、潜像を形成するためのビームを出力する発光素子1601、潜像を保持する感光ドラム1603及びビームを走査するためのポリゴンミラー1602が、高さ方向において、それぞれ異なる位置に配置されている。発光素子1601から出力されたビームは、ポリゴンミラー1602の側面に設けられた鏡面(走査平面)に対して斜入射する。なお、1602’は、ポリゴンミラー1602の上面を示している。
斜入射方式によれば、鏡面の中央と端とでは、ポリゴンミラー1602の中心位置(回転軸)からの距離が異なっている(距離a、b)。この距離の違いが、感光ドラム1603に照射されるビームの位置を高さ方向で変動させる。
図17は、斜入射方式における感光ドラム1603上に形成される実際の走査線と、理想的な走査線との違いを説明するための図である。実線1701により示された曲線が実際の走査線である。破線1702により示された直線が、理想的な走査線である。斜入射方式においては、このように走査線が湾曲してしまう。
この湾曲化を緩和するためには、ビーム経路上に補正レンズを配置すればよい。補正レンズは、走査位置に応じて、高さ方向への屈折率が異なるように成形されている。この補正レンズにより、湾曲化がある程度緩和され、高画質化が達成される。
しかし、湾曲化を効果的に緩和するためには、補正レンズの加工精度を確保したり、光学系を所望の状態に調整したりする必要がある。これは、製造時間の長時間化と、製造コストの上昇を招くため、ローエンド製品には向いていないだろう。
ところで、ポリゴンミラー1602の回転軸に対してビームを垂直に入射させる垂直入射方式においても、斜入射方式と同様の変動が発生し得る。理想的な垂直方式では、ポリゴンミラー1602の回転平面内にビームの軌跡が存在する。
図18A、18Bは、回転軸に有意なずれのない理想的な光学系と、回転軸に有意なずれのある実際の光学系との一例を示す図である。図18Aには、理想的な光学系が示されている。回転軸がずれていないため、ポリゴンミラー1602の回転によって回転軸から鏡面の反射位置までの距離が変化したとしても、感光ドラム1603上におけるビームの照射位置の高さは一定に保持される。一方で、図18Bには、取り付け誤差によって、回転軸がずれて配置されている様子が示されている。そのため、ポリゴンミラー1602の回転によって回転軸から鏡面の反射位置までの距離が変化し、それに連動して照射位置の高さもずれてしまう。このようなずれは、画質を低下させるため好ましくない。特に、ハイエンドの機種においては、こうした回転軸の取り付け誤差も無視できない問題となる。
図19は、ラインの乗り換えによって湾曲を補正する方法の一例を示す図である。ここでは、図19を用いて、従来提案されている補正方法(特許文献1〜4)について説明する。図19において、破線は、理想的な走査軌跡L0を示している。それぞれ実線は、理想的な走査軌跡に対して±0.5ライン以内を通過する実際の走査軌跡L1、L2、L3をしている。
走査軌跡の両端に着目してみると、3つの走査軌跡L1、L2、L3のうち、L1が最も理想的な走査軌跡L0に近い。走査軌跡の中央部に位置する走査領域では、L3が最も理想的な走査軌跡L0に近い。なお、端部と中央部との間に位置する領域では、L2が最も理想的な走査軌跡L0に近い。よって、理想的な直線を実現するためには、走査領域に応じて、L1=>L2=>L3=>L2=>L1と順に、副走査方向において異なるラインに乗り換えれば、ほぼ理想的な直線を実現できる。このように、1つの走査周期を複数の領域に分割し、領域ごとに実際の走査線を選択して所望の画像を形成することをラインの乗り換えと呼ぶことにする。また、領域と領域との区切りを乗り換え点と呼ぶことにする。
特開平02−050176号公報 特開2003−182146号公報 特開2003−276235号公報 特開2005−304011号公報
上述した方法を採用すれば、ほぼ理想的な直線を実現できるが、乗り換え点付近には一種の段差が発生する。この段差(ジャギー)は、画像データの解像度の粗さや階調の少なさに起因して発生する現象である。
ジャギーを目立ちにくくする技術としてスムージング処理が挙げられる。スムージング処理は、乗り換え点が画像データの形状のみに依存することに着目して、乗り換え点付近の画素をパターンマッチングによって抽出し、その画素を予め用意された画素データと置換する手法である。
図20は、関連技術に係るスムージング処理回路のブロック図である。ラインバッファ2001は、パターンマッチングの対象となる画素データを一時的に格納するバッファである。パターンマッチング部2002は、ラインバッファ2001から出力された幾つかの画素データと所定のパターンとを比較するブロックである。画素変換部2003は、パターンマッチングの結果に応じて画素データを置換するブロックである。所定のパターンとしては、1:2、1:3、1:4、1:(5以上)の線エッジなどのパターンとすることが望ましい。なぜなら、これらはジャギーとして視覚的に認識されやすい画像だからである。
図21は、マッチングに使用されるパターンの一例を示す図である。パターン2101及び2102は、1:2のパターンである。パターン2103及び2104は、1:3のパターンである。パターン2101及び2102は、乗り換え点の形状が異なっている。同様に、パターン2103及び2104も、乗り換え点の形状が異なっている。
図22は、スムージング処理によって置換さられた画素データの一例を示す図である。画素データ2201は、パターン2101に対応している。画素データ2202は、パターン2102に対応している。画素データ2203は、パターン2103に対応している。画素データ2204は、パターン2104に対応している。図22からわかるように、乗り換え点付近では画素の濃度が変更されている。これにより、段差が視覚的に目立ちにくくなっている。
ところで、図19に示した走査線の湾曲を補正する方法は、一種の副走査方向における補間処理である。しかし、補間により微細な位相(副走査方向におけるドット形成位置)をシフトすることは、電子写真の特性上、難易度の高い技術である。特にローエンド製品においては、微小ドットの階調再現性の乏しさから、細線の太さの均一性が損なわれ易い傾向にある。
図23は、細線の太さの均一性を維持することが困難であることを説明するための図である。図23において、四角がPWM(パルス幅変調)による1ドットを示している。(a)は理想的な1ドット幅の細線を示している。(b)は、乗り換えが適用されたラインの一例である。乗り換えによって、ジャギーが目立つ細線となっている。(c)は、ジャギーを軽減するためにスムージング処理を施されたラインの一例を示している。なお、(c)では、微小ドットを再現するための精度が大きく画質に影響する。(d)は、ジャギーを軽減するためにスムージング処理を施されたラインの一例を示している。とりわけ、(d)では、微小ドットの再現性が十分でないために、乗り換え点の周囲におけるスムージングのための追加ドットが消失している。これでは、細線が掠れたり、細ったりしてしまうため好ましくない。(e)は、ジャギーを軽減するためにスムージング処理を施されたラインの一例を示している。とりわけ、(e)では、微小ドットの再現性が十分でないために、追加ドットが所望の幅よりも肥大してしまっている。これでは、細線が本来の幅よりも太く見えてしまうため好ましくない。
そこで、本発明は、このような課題および他の課題のうち、少なくとも1つを解決することを目的とする。例えば、本発明は、走査線の湾曲を補正しつつ、この補正による生じうる1ライン以内のズレを補正して細線の均一性を維持することを目的とする。なお、他の課題については明細書の全体を通して理解できよう。
本発明の画像形成装置は、例えば、
出力画素データに対応した照射光を偏向することで感光体上を主走査方向に走査する走査手段と、
注目出力画素データの主走査位置に対応した、前記感光体上における前記照射光の主走査ラインの副走査方向におけるズレ量を示す曲がり特性に基づき、副走査位置の異なる複数の画素データを読み出す読出手段と、
前記注目出力画素データの主走査位置に対応した前記曲がり特性から第1の係数を決定する第1決定手段と、
前記読み出された複数の画素データに対してパターン認識を実行し、パターン認識率を求めるパターン認識手段と、
前記パターン認識率から第2の係数を決定する第2決定手段と、
前記第1の係数および前記第2の係数を用いて、前記複数の画素データを補間し、前記注目出力画素データを求める補間処理手段と
を有することを特徴とする
本発明によれば、走査線のズレに依存した第1の係数群、補間方向に関連した第2の係数群及び注目画素付近の濃度に関与するパターン認識率を考慮して補間が実行される。そのため、走査線の湾曲を補正しつつ、この補正による生じうる1ライン以内のズレを補正して細線の均一性を維持することが可能となる。
以下に本発明の一実施形態を示す。もちろん以下で説明される個別の実施形態は、本発明の上位概念、中位概念および下位概念など種々の概念を理解するために役立つであろう。また、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲によって確定されるのであって、以下の個別の実施形態によって限定されるわけではない。
[実施形態1]
図1は、実施形態に係る複数の色を重ね合わせて多色画像を形成する画像形成装置の概略断面図である。この画像形成装置は、4つの感光体をタンデムに配した4ドラム系のカラー複写機を示している。なお、画像形成装置は、例えば、印刷装置、プリンター、複合機、ファクシミリとして実現されてもよい。また、色の数は2以上であればよい。よって、感光体も2以上であればよい。以下では、このカラー複写機100を構成するカラー画像読み取り装置(以下「カラースキャナー」という。)1及びカラー画像記録装置(以下「カラープリンター」という。)2の概略について説明する。
カラースキャナー1は、照明ランプ14、ミラー群15A、B、C、及びレンズ16を介してカラーセンサー17に原稿13の画像を結像させる。さらに、カラースキャナー1は、原稿のカラー画像情報を、例えばブルー(以下Bという)、グリーン(以下Gという)、レッド(以下Rという)の色分解光ごとに読み取り、電気的な画像信号に変換する。
カラースキャナー1は、B、G、Rの各画像信号の強度レベルをもとにして、色変換処理を行う。これにより、ブラック(K)、シアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)のカラー画像データが得られる。
次に、カラープリンター2について説明する。各色のトナーに対し1つずつ、書き込み光学ユニット28M(マゼンタ用)、28Y(イエロー用)、28C(シアン用)、28K(ブラック用)が設けられている。なお、参照番号に付されたサフィックス、MYCKは、トナーの色を示している。これらの書き込み光学ユニットは、各色ごとに、蓄積手段から読み出された画素のデータにより変調されたビームを用いて対応する像担持体を走査する各色ごとの走査手段の一例である。書き込み光学ユニットは、露光装置やスキャナ装置と呼ばれることもある。
書き込み光学ユニットは、カラースキャナー1からのカラー画像データを光信号に変換して、光書き込みを行う。これにより、各色ごとに設けられた感光体21M、21Y、21C、21Kに静電潜像が形成される。これらの感光体は、発光素子の照射光により形成された静電潜像を担持する像担持体の一例である。なお、感光体は、潜像の形成中に自ら回転することで照射光を副走査方向に操作する。よって、感光体は、像担持体の受光面を副走査方向に移動させる副走査手段の一例である。
これら感光体21M、21Y、21C、21Kは、矢印が示すように反時計回転する。感光体の周辺には、感光体を一様に帯電させるための帯電器27M、27Y、27C、27Kが設けられている。また、現像剤(例:トナー)を用いて静電潜像を現像するための、M現像器213M、C現像器213C、Y現像器213Y、Bk現像器213Kも配置されている。また、中間転写体としての中間転写ベルト22は、駆動ローラ220と、従動ローラ219、237に張架されている。なお、各感光体に対向するように、第1の転写手段である第1転写バイアスブレード217M、217Y、217C、217Kも設けられている。
第2転写バイアスローラ221は、従動ローラ219に対向する位置に配置されている。第2転写バイアスローラ221は、不図示の離接機構により、中間転写ベルト22に対して離間したり、接したりする。
カラープリンター2において、まずマゼンタから画像形成が開始される。その後、中間転写ベルト22の回転速度に対し、感光体21Mと感光体21Cとの離間距離に対応して遅れたタイミングでシアンの画像形成が開始される。次に中間転写ベルト22の回転速度に対し、感光体21Cと感光体21との離間距離に対応して遅れたタイミングでイエローの画像形成が開始される。最後に、中間転写ベルト22の回転速度に対し、感光体21Yと感光体21Kの位置との離間距離に対応して遅れたタイミングでブラックの画像形成が開始される。このように、中間転写ベルト22上には、各色の現像剤像が重ね合わされ多色画像が形成される。この多色画像は、従動ローラ219と第2転写バイアスローラ221とによって形成される2次転写位置において、搬送ローラ228、227、226、225によって搬送されてきた記録材に転写される。その後、定着装置25において、記録材は、その表面にカラー画像が定着処理される。なお、記録材は、例えば、記録媒体、用紙、シート、転写材、転写紙と呼ばれることもある。
図2Aは、実施形態に係る書き込み光学ユニットの概略断面図である。図2Bは、実施形態に係る書き込み光学ユニットの概略平面図である。発光素子アレー281は、4つの発光素子を備え、同時に4つのビーム(レーザー光)を照射できる。発光素子アレー281は、画像を形成するためのM個の発光素子を持つ発光素子ユニットの一例である。
各ビームは、レンズ282を介して、回転するポリゴンミラー283の鏡面に照射される。ポリゴンミラー283は、ポリゴンモーターによって回転駆動される。ポリゴンミラー283が1回転すると、感光体上を6回走査できる。これは、ポリゴンミラー283が6つの鏡面を備えているからである。ポリゴンミラー283により偏向されたビームは、まず、BD素子286により検知される。BDは、ビーム検知の略である。BD素子286から出力されるBD信号が、各主走査ごとの露光開始のトリガーとなる。すなわち、対応する4つのラインに含まれる画素のデータが順次読み出され、4つの発光素子にそれぞれ印加される。fθレンズ284により、感光体上におけるビームの走査速度が一定となるように走査速度が補正される。その後、ビームは、平面ミラー285により偏向され、感光体を露光及び走査する。
図3は、実施形態に係る制御系及び画像処理系についての例示的なブロック図である。読取系画像処理部301は、カラースキャナー1から出力される画像信号に対して、例えば、シェーディング補正などの画像処理を適用して、中央画像処理部305に渡す。中央画像処理部305は、画像メモリ304に画像信号を格納し、感光体間の距離を反映した適切なタイミングで出力系画像処理部306ないし309に画像信号を渡す。出力系画像処理部306は、イエロー(Y)用の画像処理部である。出力系画像処理部307は、マゼンタ(M)用の画像処理部である。出力系画像処理部308は、シアン(C)用の画像処理部である。出力系画像処理部309は、ブラック(K)用の画像処理部である。
出力系画像処理部306〜309は、それぞれ、Y、M、C、Kの各色に応じた補正処理や補間処理を実行する。とりわけ、出力系画像処理部306〜309は、入力された画像データについての副走査方向におけるレーザー光の照射位置を調節し、副走査方向における照射光の照射位置を誤差範囲内に収める。これにより、副走査方向に生じうる照射光による走査線のズレが補正される。よって、出力系画像処理部306〜309は、副走査方向における照射光の照射位置を調節する照射位置調節手段の一例である。照射光の照射位置は、例えば、上述したラインの乗り換えによって実現される。
中央画像処理部305は、電話回線、ネットワークなどに接続された外部インターフェース303を介して、データを送受信する。受信したデータがPDL(ページ記述言語)により記述されたデータであれば、PDL処理部302が画像情報に展開する。CPU310は、各部を統括的に処理する制御装置である。
図4は、実施形態に係る出力系画像処理部の一例を示すブロック図である。ラインバッファ401は、後段の補間演算部403に使用されるラインの本数に応じた画素データを格納する記憶装置である。例えば、ラインのずれ幅が製造バラツキも含めて最大で20ラインであれば、ラインバッファ401は、21ライン分の画素データを保持できる。1ライン余分なのは、補間処理演算処理で必要となるためである。ラインバッファ401は、1ラインの画素データが転送されるごとに、最初に転送されたラインの画素データと最新の画素データとを入れ替える。例えば、1番目のラインの画素データが転送されたときは、22番目のラインの画素データが新たにラインバッファ401に保持される。これによりラインバッファ401は、常に、最新の21本分の画素データを保持することになる。
ライン・セレクタ402は、ラインバッファが保持している全てのデータを受けて所望のラインを選択して出力する。例えば、ライン・セレクタ402は、曲り特性メモリ406から読み出した曲がりの歪を示す副走査方向のズレ情報に基づいてラインを選択する。これによってラインの乗り換えが実現される。本実施形態において、補間演算部403は、線形補間をベースとするため、ライン・セレクタ402は、注目画素群を含む2ラインの画素データを出力する。
具体的には、整数部を取り出す関数によって、ライン選択位置を決定する。曲り特性が10.5のとき、
Int(10.5)=10、Int(10.5)+1=11
10番目と11番目をライン選択して出力する。
補間演算部403は、湾曲を軽減するための補間処理とジャギーを軽減するための補正処理とを実行するブロックである。補間演算部403は、照射光の照射位置を調節された後で、1つ以上の画素からなる注目画素群の画素データを補間演算することで補間された画素データを出力する補間処理手段の一例である。
係数セレクタ404は、ジャギーを軽減するための係数を補間演算部に出力するブロックである。例えば、係数セレクタ404は、エッジ検出部409から検出結果と、一致率判定部410からの判定結果と、曲り特性メモリ406からの補間方向の情報に基づいて係数α、βを生成して出力する。係数α、βは、第1の係数群を補正するための第2の係数群の一例である。
主走査カウンタ405は、現在の主走査位置を示すタイミング信号を生成して、曲がり特性メモリ406や位相演算部408に供給する。なお、曲がり特性メモリ406においてこのタイミング信号は読み出しアドレスとして利用される。主走査位置は、例えば、0〜8191の範囲で指定される。
曲り特性メモリ406に記憶されているズレ情報は、例えば、補間が適用される区間(主走査方向の画素数)と補間の方向(上にシフトするか/下にシフトするか)を指示するための情報である。
テーブル407は、CPU310によって読み書き可能な複数のテーブルを保持している。テーブル407は、位相演算部408によって決定された位相情報に対応して情報を係数セレクタ404へ出力する。テーブル407は、パターン認識率にしたがって第1の係数群を補正する第2の係数群を出力する補正係数出力手段の一例である。パターン認識率を、以下、パターン一致率と称す。
位相演算部408は、主走査カウンタ405から出力された現在の主走査位置に応じて曲り特性メモリ406から出力されたズレ情報から位相を決定して補間演算部403へ出力する。位相は曲り特性の小数部(=Frac(曲り特性))に相当する。例えば、ズレの最小値を0とすると、このときの位相は0度である。ズレが1のとき、位相は360度となる。よって、本実施例の演算上、0度を0、360度を128に割り当てるとすれば、以下の式に基づいて位相(Phase)が算出される。
Phase=128xFrac(曲り特性)
例えば、所定の主走査位置の曲り特性が10.5であれば、位相Phaseは64となる。なお、小数点以下Frac(10.5)=0.5として位相の算出が実行されている。なお、位相演算部408は、走査線のズレ量を位相情報として算出し、位相情報から補間処理手段へ供給される第1の係数群を出力する位相演算手段の一例である。
エッジ検出部409は、ライン・セレクタ402から出力された画素データからエッジを検出するブロックである。一致率判定部410は、パターン一致率(Diff_abs)算出して係数セレクタ404へ出力する。なお、一致率判定部410は、パターン一致率に加えて、パターン一致率と所定の閾値との比較結果も係数セレクタ404へ出力してもよい。エッジ検出部409又は一致率判定部410は、注目画素群を含む周辺画素の濃度をパターン認識してパターン一致率を出力するパターン認識手段の一例である。
図5は、ズレ情報に応じた4種類の事例を示す図である。事例501、502は、補間の方向が異なる2つの事例を示している。事例501における上下に並んだ2つの画素において、下側画素の濃度がPxaであり、上側の画素の濃度がPxbである。事例502における上下に並んだ2つの画素において、上側画素の濃度がPxaであり、側の画素の濃度がPxbである。また、補間後の画素データをPxとする。各画素の濃度は、例えば、16値で表されるものとする。事例503及び504は、補間(ラインの乗り換え)が不要な事例を示している。よって、注目画素の値がそのまま後段へ出力される。
位相演算部408は、補間係数a、bを決定するためのテーブルを内部に備えている。位相演算部408は、ズレ情報に応じて決定した位相情報(Phase)に基づいてテーブルを参照することで、補間係数a、bを決定する。よって、このテーブルは補間係数決定テーブルと呼ばれてもよい。
補間係数a、bは、第1の係数群の一例であり、例えば、8bitのデータである。本実施例において、α=β=0のとき、画素間の演算が線形補間されるよう、a、bを設定している。
a = Table_a[Phase]
b = Table_b[Phase]
ここで、Table_a[Phase]及びTable_b[Phase]は、位相がPhaseであるときの補間係数であり、予め位相演算部408のテーブルに登録されている。このように、位相を用いてテーブルを参照することで、補間係数がテーブルから読み出されることになる。なお、位相演算部408におけるテーブルは、CPU310により読み書きが可能である。なお、本実施形態においては、テーブルとしているが、以下の式を用いてもよい。これによって、画質を大幅に損なうことなく、ハード構成が削減されよう。
a=128−Phase
b=Phase
テーブル407は、位相演算部408から供給される位相(Phase)に対応した2つの値を出力する。この際の出力値は以下の通りである。
Table_Dbk[Phase]
Table_Dwh[Phase]
これらの出力値は、テーブル407において位相と関連付けて記憶されている。Table_Dbk[Phase]及びTable_Dwh[Phase]は、後述するように係数α、βを決定又は算出するために係数セレクタ404によって使用される。
図6は、エッジ検出部が検出する2つのエッジパターンの一例を示す図である。もちろん、他のエッジパターンが採用されてもよいが、ここでは、最も簡単でわかりやすいパターンを採用している。
エッジパターン601、602は、副走査方向に並んだ2つの画素からなる。ここでは、上下に並んだ2つの画素の画素データ(濃度)をそれぞれPu、Pdとする。エッジ検出部409は、注目画素群についてPu、Pdを比較する。比較の結果、Pu<Pdが成立すれば、エッジパターン601が検出されたことになる。一方、Pu>Pdが成立すれば、エッジパターン602が検出されたことになる。エッジ検出部409は、検出されたエッジパターンを識別するための識別情報などを検出結果として係数セレクタ404へ出力する。このように、エッジ検出部409は、2つの画素の値の大小関係に応じて予め定められたパターンを検出する検出手段の一例である。
係数セレクタ404は、例えば、ズレ情報から補間方向を認識し、係数α、βを生成して補間演算部403へ出力する。例えば、補間方向が事例501で、かつ、エッジパターン601が検出されたとき、又は、補間方向が事例502でエッジパターン602が検出されたときの係数α、βは以下の通りである。
α = Table_Dbk[Phase]*Diff_abs/16
β = Table_Dwh[Phase]*Diff_abs/16
なお、Table_Dbk[Phase]やTable_Dwh[Phase]はテーブル407から供給されたものである。また、Diff_absは、一致率判定部410から供給されたものである。
事例501とエッジパターン602が検出されたとき、又は、事例502とエッジパターン601が検出されたときの係数α、βは以下の通りである。
α = Table_Dwh[Phase]*Diff_abs/16
β = Table_Dbk[Phase]*Diff_abs/16
このように、テーブル407や係数セレクタ404は、予め定められたパターンが検出されるとパターン一致率に応じて選択されたテーブルから位相情報に応じて取得されたテーブルデータを第2の係数群として出力する。また、テーブル407や係数セレクタ404は、予め定められたパターンが検出されないときは、第2の係数群として第1の係数群に影響を与えない値(例:ゼロ)を出力する。
一致率判定部410は、Diff_abs(パターン一致率)を、例えば、次式に基づいて算出する。
Diff_abs =|Pu−Pd|
すなわち、Diff_absは、PuとPdとの差の絶対値として求められる。さらに、一致率判定部410は、算出したDiff_absを予め定められた閾値Diff_thと比較してもよい。例えば、閾値Diff_thをDiff_absが超えるのであれば、一致率判定部410は、エッジパターンが一致したと判定する。このように、一致率判定部410は、2つの画素の値の差分を算出し、差分の絶対値をパターン一致率として算出する算出手段の一例である。
補間演算部403は、一致率判定部410の判定結果に応じて、補間演算を実行する。一致率判定部410の判定結果は、一致率判定部410から係数セレクタ404を介して間接的に、又は、一致率判定部410から直接的に補間演算部403へ渡される。
Diff_abs > Diff_th であれば、補間演算部403は、次式に基づいて補間後の画素データPxを算出する。
Px = (A・Pxa + B・Pxb + 64)/128
上の式において、画素に対する乗算係数A、またはBを1にする場合128が割り当てられる。128の除算は本実施例の構成上、7bitのシフト演算で実現される。また、64は四捨五入のためのオフセットであって、ここで、係数A、Bは、上述した係数a、b、α、βを用いて次のように表現される。
A = a + α
B = b + β
本実施例において、a、bを線形演算のパラメータ、α、βを電子写真上のエッジ特性の補正パラメータとして役割を持たせている。一方、Diff_abs ≦ Diff_th であれば、補間演算部403は、α = β = 0 としてPxを算出する。
図7、8は、補間処理されたPWM信号の一例を示す図である。縦方向は副走査位置を示し、左方向は濃度を示している。とりわけ、図7は、α=β=0の場合におけるPWMパターンの組合せ(0度、90度、180度、270度)を示している。また、図8には、係数α、βによって、エッジ部の幅を拡張するよう画素が補正された様子が示されている。
図7や図8が示すように、本実施形態によれば、走査線の湾曲を補正しつつ、この補正による生じうる1ライン以内のズレを補正して細線の均一性を維持することができる。
図9は、実施形態に係る補間方法の一例を示すフローチャートである。ステップS901で、ライン・セレクタ402は、ズレ情報にしたがって2つのラインを選択し、その画素データ(ラインデータ)を後段に出力する。
ステップS902で、位相演算部408は、ズレ情報にしたがって位相を決定し、位相に対応した補間係数a、bを補間演算部403へ出力する。なお、位相の情報は、テーブル407にも供給される。ステップS903で、テーブル407は、供給された位相に対応するテーブルデータであるTable_Dwh[Phase]やTable_Dbk[Phase]を係数セレクタ404へ出力する。
ステップS904で、エッジ検出部409は、ラインデータにしたがってエッジパターン601、602を検出し、検出結果を係数セレクタ404へ出力する。ステップS905で、一致率判定部410は、ラインデータからパターン一致率であるDiff_absを算出し、係数セレクタ404へ出力する。また、一致率判定部410は、パターン一致率と閾値との比較結果も係数セレクタへ出力する。
ステップS906で、係数セレクタ404は、ズレ情報にしたがって補間方向を判別する。ステップS907で、係数セレクタ404は、入力されたテーブルデータ、検出結果、パターン一致率、補間方向などから係数α、βを決定し、補間演算部403へ出力する。ステップS908で、補間演算部403は、補間係数a、b、係数α、β、一致率の比較結果なども基づいて補間演算を実行する。これにより、注目画素について補間された画素データPxが決定される。
本フローチャートにおいて、ステップS903ないしS907までの処理は、処理に矛盾が起きない限りにおいて実行順序が入れ代わってもよい。また、本フローチャートに係る補間処理は、すべての対象画素について補間が完了するまで繰り返し実行される。
以上説明したように、本実施形態によれば、走査線のズレに依存した第1の係数群である補間係数a、bを、補間方向に関連した第2の係数群α、β及び注目画素付近の濃度に関与するパターン一致率を考慮して補間が実行される。そのため、走査線の湾曲を補正しつつ、この補正による生じうる1ライン以内のズレを補正して細線の均一性を維持することが可能となる。すなわち、細線のエッジなど、微小なドットの再現性が要求される画像においても良好な画質を得られるようになる。
また、パターン一致率の違いに応じて用意された複数のテーブルから、算出されたパターン一致率に対応したテーブルを選択し、選択されたテーブルに位相情報を入力することで第2の係数群が出力されてもよい。テーブルは一般にCPU310によって書換可能であるため、第2の係数群を状況に応じて修正しやすくなる。もちろん、テーブルに代えて関数を採用してもよい。この場合、ハードウエア構成をより簡単にすることができる。
また、副走査方向において隣接した2つの画素の値の大小関係に応じて予め定められたパターンを検出するとともに、2つの画素の値の差分の絶対値をパターン一致率として算出してもよい。ラインの乗り換えによって生じるジャギーは、副走査方向に生じる。よって、副走査方向に隣接した画素に注目することは、パターンの認識率を向上させるうえで好ましい。また、検出対象パターンを2つの画素とすれば、パターンを検出するための構成を簡易にできる。
また、予め定められたパターンが検出されると、パターン一致率に応じてテーブルを選択し、選択したテーブルから位相情報に応じたテーブルデータを取得し、これを第2の係数群として出力してもよい。なお、予め定められたパターンが検出されないときは、第2の係数群として第1の係数群に影響を与えない値を出力してもよい。とりわけ、予め定められたパターンが検出されないときは、ジャギーが問題となりにくいことを意味する。よって、第2の係数群として第1の係数群に影響を与えない値を出力すれば、補間係数である第1の係数群が過剰に補正されることを禁止できる。
注目画素群は、副走査方向において隣接した2つ以上の画素を含むとともに、主走査方向において隣接した2つ以上の画素も含むようにしてもよい。この詳細については実施形態2で説明するが、この場合、注目画素に対して主走査方向で隣接した画素が含まれているの、補間係数に対する補正の精度が向上すると考えられる。補正のための情報量が増えるからである。
[実施形態2]
図10は、実施形態に係る出力系画像処理部の一例を示すブロック図である。実施形態2は、実施形態1の変形例である。両者の基本的な動作は同一であるが、実施形態1におけるエッジ検出部409及び一致率判定部410が、パターンマッチング部1001に置換されている。また、テーブル407は、パターンマッチング部1001により認識可能なパターンの数に応じたテーブルデータを保持している。パターンマッチング部1001も上述したパターン認識手段の一例である。
パターンマッチング部1001は、注目画素群について所定のマッチングパターンとのパターンマッチングを実行する。例えば、注目画素群が、副走査方向に隣接した2つの画素であれば、パターンマッチング部1001は、注目画素群を取り囲む主走査方向に並んだ3つの画素及び副走査方向に並んだ4つの画素をラインデータから参照する。このような3×4の矩形領域を参照領域と呼ぶことにする。このように、注目画素群は、副走査方向において隣接した2つ以上の画素を含むとともに、主走査方向において隣接した2つ以上の画素も含んでもよい。
図11A、11Bは、実施形態に係るマッチングパターンの一例を示す図である。図11Aには、8つのマッチングパターン1101〜1108が示されている。また、図11Bには、残りの6つのマッチングパターン1109〜1114が示されている。Pnijは、n番目のマッチングパターンにおける主走査位置がiで、副走査位置がjである要素を示している。nは、マッチングパターンの識別番号であり、図11Aにおける、上段左から右のパターンについて1〜4が割り当てられており、下段左から右のパターンについて5〜8が割り当てられている。さらに、図11Bにおける、上段左から右のパターンについてnは9〜11であり、下段左から右のパターンについてnは12〜14が割り当てられている。
図11A、11Bにおいて、iは主走査位置を示し、jは副走査位置を示す。マッチングパターンの要素Pnijの値は、要素が黒で示されていれば1であり、白で示されていれば−1であり、xで示されていれば0である。このように、Pnijは、一種のマスク値として役割を果たす。よって、マッチングパターンはマスク・パターンと呼ばれてもよいだろう。
図12は、重み付けパターンの一例を示す図である。重み付けパターン1201の要素の配列は、マッチングパターンの要素の配列に一致している。本実施形態で、パターンマッチング部1001は、マッチングパターンと重み付けパターンとからパターン一致率(Match[n])を算出する。ここで、Wijは重み付けパターンの要素とし、注目画素の濃度をPxijとすると、Match[n]は次式により表現できる。
Match[n] = Σ (Pxij − 8) * Wij * Pnij
このように、パターンマッチング部1001は、注目画素群に含まれる各画素の濃度を示す画素データと、予め決定された複数のマスク値と、予め決定された複数の重み係数とを乗算することでパターン一致率を算出する。
図13は、実施形態に係る補間方法の一例を示すフローチャートである。図9と比較すると、ステップS903ないしS907がステップS1301に置換されている。ステップS1301は、パターンマッチング部1001がパターンマッチングを実行し、一致率を算出して係数セレクタ404に渡す。
図14は、実施形態に係るパターン一致率及び各種係数の決定方法の一例を示すフローチャートである。本フローチャートは、ステップS1301をサブルーチンとして示したものである。
ステップS1401で、パターンマッチング部1001は、n=9〜14(図11Bに示したマッチングパターン)についてそれぞれパターン一致率Match[n]を算出する。ステップS1402で、パターンマッチング部1001は、算出したパターン一致率を比較し、そのうちで最大となるパターン一致率を決定し、決定した最大のパターン一致率が予め定められた第1の閾値を超えるか否かを判定する。閾値を超えれば、ステップS1403に進む。閾値を超えなければ、ステップS1407へ進む。
ステップS1403で、パターンマッチング部1001は、パターン一致率が最大となったnの値を保持する。ステップS1404で、パターンマッチング部1001は、保持しているnを係数セレクタ404へ出力し、係数セレクタ404は、受け取ったnに対応するテーブルデータをテーブル407から読み出す。この際には、位相演算部408から受け取った位相の値も考慮される。すなわち、テーブル407は、nに対応するテーブルデータTable_Nwh[Phase]及びTable_Nbk[Phase]を出力する。このように、テーブル407は、パターン一致率に応じて用意された複数のテーブルである。また、複数のテーブルのなかからパターン一致率に対応したテーブルが選択され、選択されたテーブルに位相情報を入力することで第2の係数群が出力される。
ステップS1405で、係数セレクタ404は、ズレ情報にしたがって補間方向を判別する。ステップS1406で、係数セレクタ404は、入力されたテーブルデータ、識別番号n及び補間方向などから係数α、βを決定し、補間演算部403へ出力する。
例えば、補間方向が事例501でかつ識別番号nが1〜4若しくは12〜14のとき、または、補間方向が事例502でかつ識別番号nが5〜8若しくは9〜11のときは、次式により係数α、βが決定される。
α = Table_Dbk[Phase]*Diff_abs/16
β = Table_Dwh[Phase]*Diff_abs/16
一方、補間方向が事例501でかつ識別番号nが5〜8若しくは9〜11、または、補間方向が事例502で、n=1〜4若しくは12〜14であれば、次式により係数α、βが決定される。
α = Table_Dwh[Phase]*Diff_abs/16
β = Table_Dbk[Phase]*Diff_abs/16
ところで、ステップS1402で、最大のパターン一致率が第1の閾値を超えない場合、ステップS1407に進む。ステップS1407で、パターンマッチング部1001は、n=1〜8(図11Aに示したマッチングパターン)についてそれぞれパターン一致率Match[n]を算出する。ステップS1408で、パターンマッチング部1001は、算出したパターン一致率を比較し、そのうちで最大となるパターン一致率を決定し、決定した最大のパターン一致率が予め定められた第2の閾値を超えるか否かを判定する。第2の閾値を超えれば、ステップS1403に進み、ステップS1403ないしS1406が実行される。第2の閾値を超えなければ、ステップS1409へ進む。
ステップS1409で、パターンマッチング部1001は、条件を満たす識別番号nを決定できなかったことを示す情報を係数セレクタ404に出力する。例えば、識別番号nを決定できなかったことを示す情報としては、nの値を99などの特殊な値としてもよい。係数セレクタ404は、識別番号nを決定できなかったことを示す情報を受け取ると、係数α=β=0とする。
本実施形態において、n番目のマッチングパターンに対して副走査方向において線対称となる他のマッチングパターンn’(例:n=1、n’=5)については、テーブルデータTableNwh、TableNbkは同一のテーブルから抽出される。よって、テーブルの数を半減できるメリットがある。
図15は、補間処理されたPWM信号の一例を示す図である。縦方向は副走査位置を示し、左方向は濃度を示している。とりわけ、図1では、α=β=0のケースが示されている。ここで、図15を図8と比較する。図中下部の黒→白→黒の変化に着目する。図8では黒く潰れる傾向にあったが、図15では、パターンマッチングの精度が向上しているため黒く潰れるが軽減されている。
このように、実施形態2によれば、走査線の湾曲を補正しつつ、この補正による生じうる1ライン以内のズレを補正して細線の均一性を維持することが可能となる。とりわけ、細線におけるエッジ部の再現性の影響を受けやすい画像であっても、補間処理によるジャギーが軽減される。例えば、マッチングパターン(マスク・パターン)と画像との相関を求めることでパターン一致率を決定するため、パターン一致率の精度が向上すると考えられる。例えば、注目画素群に含まれる各画素の濃度を示す画素データと、予め決定された複数のマスク値と、予め決定された複数の重み係数とを乗算することで、パターン一致率を算出してもよい。とりわけ、経験的に重み係数を最適化すれば、パターン一致率の算出精度が向上するだろう。
本発明の実施形態においては、補間処理の一例として線形補間について説明した。しかし、これは一例に過ぎない。例えば、ハードウェア規模が許容される範囲でバイキュービックやその他の良好なフィルタ特性をもつ補間処理が採用されてもよい。
本実施形態において、光学系の走査手段としてポリゴンミラーを用いた。しかし、これも一例に過ぎない。ガルバノ・ミラー、EO(電気光学素子)など、他の走査手段が採用されてもよい。本発明は、走査手段の種類に依存せずに適用できるからである。
なお、上述した閾値などは、実際に使用される画像形成装置ごとに異なる可能性もある。よって、使用される画像形成装置ごとに、本発明の効果が得られるような好適な閾値を経験的に決定することが望ましいだろう。
実施形態に係る複数の色を重ね合わせて多色画像を形成する画像形成装置の概略断面図である。 実施形態に係る書き込み光学ユニットの概略断面図である。 実施形態に係る書き込み光学ユニットの概略平面図である。 実施形態に係る制御系及び画像処理系についての例示的なブロック図である。 実施形態に係る出力系画像処理部の一例を示すブロック図である。 ズレ情報に応じた4種類の事例を示す図である。 エッジ検出部が検出する2つのエッジパターンの一例を示す図である。 補間処理されたPWM信号の一例を示す図である。 補間処理されたPWM信号の一例を示す図である。 実施形態に係る補間方法の一例を示すフローチャートである。 実施形態に係る出力系画像処理部の一例を示すブロック図である。 実施形態に係るマッチングパターンの一例を示す図である。 実施形態に係るマッチングパターンの一例を示す図である。 重み付けパターンの一例を示す図である。 実施形態に係る補間方法の一例を示すフローチャートである。 実施形態に係るパターン一致率及び各種係数の決定方法の一例を示すフローチャートである。 補間処理されたPWM信号の一例を示す図である。 斜入射方式の一例を示す側面図である。 斜入射方式における感光ドラム1603上に形成される実際の走査線と、理想的な走査線との違いを説明するための図である。 回転軸に有意なずれのない理想的な光学系と、回転軸に有意なずれのある実際の光学系との一例を示す図である。 回転軸に有意なずれのない理想的な光学系と、回転軸に有意なずれのある実際の光学系との一例を示す図である。 ラインの乗り換えによって湾曲を補正する方法の一例を示す図である。 関連技術に係るスムージング処理回路のブロック図である。 マッチングに使用されるパターンの一例を示す図である。 スムージング処理によって置換さられた画素データの一例を示す図である。 、細線の太さの均一性を維持することが困難であることを説明するための図である。

Claims (10)

  1. 出力画素データに対応した照射光を偏向することで感光体上を主走査方向に走査する走査手段と、
    注目出力画素データの主走査位置に対応した、前記感光体上における前記照射光の主走査ラインの副走査方向におけるズレ量を示す曲がり特性に基づき、副走査位置の異なる複数の画素データを読み出す読出手段と、
    前記注目出力画素データの主走査位置に対応した前記曲がり特性から第1の係数を決定する第1決定手段と、
    前記読み出された複数の画素データに対してパターン認識を実行し、パターン認識率を求めるパターン認識手段と、
    前記パターン認識率から第2の係数を決定する第2決定手段と
    前記第1の係数および前記第2の係数を用いて、前記複数の画素データを補間し、前記注目出力画素データを求める補間処理手段と
    を有することを特徴とする画像形成装置。
  2. 前記第2決定手段は、それぞれ異なるパターン認識率ごとに予め用意された複数のテーブルを備え、前記複数のテーブルのうち、前記パターン認識手段により求められたパターン認識率に対応したテーブルを選択し、選択したテーブルに前記ズレ量を入力することで前記第2の係数を決定することを特徴とする請求項1に記載の画像形成装置。
  3. 前記複数の画素データは、副走査方向において隣接した2つの画素の画素データを含み、
    前記パターン認識手段は、
    前記2つの画素の画素データの大小関係に応じて予め定められた2つのパターンのいずれかに一致する画素群を検出する検出手段と、
    前記検出手段が検出した画素群を構成する2つの画素の画素データの差分を算出し、該差分の絶対値を前記パターン認識率として算出する算出手段と
    を含み、
    前記第2決定手段は、
    前記予め定められた2つのパターンのいずれかに一致する画素群が検出されたときは、前記複数のテーブルから前記パターン認識率に対応したテーブルを選択し、選択した該テーブルから前記ズレ量に対応したテーブルデータを取得して前記第2の係数として出力し、
    前記予め定められた2つのパターンのいずれもが検出されなかったときは、前記第2の係数として前記第1の係数に影響を与えない値を出力する
    ことを特徴とする請求項2に記載の画像形成装置。
  4. 前記複数の画素データは、副走査方向において隣接した2つ以上の画素の画素データを含むとともに、主走査方向において隣接した2つ以上の画素の画素データも含むことを特徴とする請求項1または2に記載の画像形成装置。
  5. 前記パターン認識手段は、
    前記複数の画素データのそれぞれごとに、各画素データが示す濃度と、予め決定された複数のマスク値と、予め決定された複数の重み係数とを乗算し、各画素データの乗算結果を加算することで、前記パターン認識率を算出することを特徴とする請求項1に記載の画像形成装置。
  6. 走査手段が、出力画素データに対応した照射光を偏向することで感光体上を主走査方向に走査するステップと、
    読出手段が、注目出力画素データの主走査位置に対応した、前記感光体上における前記照射光の主走査ラインの副走査方向におけるズレ量を示す曲がり特性に基づき、副走査位置の異なる複数の画素データを読み出すステップと、
    第1決定手段が、前記注目出力画素データの主走査位置に対応した前記曲がり特性から第1の係数を決定するステップと、
    パターン認識手段が、前記読み出された複数の画素データに対してパターン認識を実行し、パターン認識率を求めるステップと、
    第2決定手段が、前記パターン認識率から第2の係数を決定するステップと、
    補間処理手段が、前記第1の係数および前記第2の係数を用いて、前記複数の画素データを補間し、前記注目出力画素データを求めるステップと
    を有することを特徴とする画像形成装置の制御方法。
  7. 出力画素データに対応した照射光を偏向することで感光体上を主走査方向に走査する走査手段と、
    注目出力画素データの主走査位置に対応した、前記感光体上における前記照射光の主走査ラインの副走査方向におけるズレ量を示す曲がり特性に基づき、副走査位置の異なる複数の画素データを読み出す読出手段と、
    前記読み出された複数の画素データからエッジ情報を検出する検出手段と、
    前記注目出力画素データの主走査位置に対応した前記曲がり特性に応じた位相情報と、前記検出手段により検出された前記エッジ情報とに対応した補間条件を使用して前記複数の画素データを補間し、前記注目出力画素データを求める補間手段と
    を有することを特徴とする画像形成装置。
  8. 前記位相情報は、前記主走査ラインの副走査方向におけるズレ量の小数部に相当する情報であり、
    前記読出手段が読み出す前記複数の画素データのそれぞれの前記副走査位置は、前記主走査ラインの副走査方向におけるズレ量の整数部に相当する情報であることを特徴とする請求項7に記載の画像形成装置。
  9. 前記エッジ情報には、前記複数の画素データによるエッジの方向を示す情報と、前記エッジの度合いを示す情報とが含まれていることを特徴とする請求項7または8に記載の画像形成装置。
  10. 前記検出手段は、パターンマッチング処理を行うことを特徴とする請求項7ないし9のいずれか1項に記載の画像形成装置。
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