JP5089513B2 - プラズマ処理装置システムの制御装置、プラズマ処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体 - Google Patents
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Description
各プラズマ処理装置の次のクリーニング又はシーズニングまでは前記調整テーブルを更新しなくてもよい。前記プラズマ処理は、プラズマエッチング処理であってもよい。
まず、本発明の第1実施形態に係るプラズマ処理システム10について、図1を参照しながら説明する。本実施形態に係るプラズマ処理システム10では、シリコンウエハ(以下、ウエハWとも称呼する。)をエッチング処理し、その間にクリーニング処理を実行する。クリーニングの替わりに、又はクリーニングに加えてシーズニング処理を実行してもよい。エッチング処理は、レシピの手順に従い実行される。なお、クリーニング処理とは、プラズマ処理によって発生した処理室(チャンバ)内の堆積物をO2プラズマ等で除去し、処理室内をクリーンな状態で安定させる処理をいう。また、シーズニング処理とは、ある特定のプラズマ処理を行うことによって処理室内の温度や堆積物の状態を安定させるための処理をいう。
プラズマ処理システム10は、ホストコンピュータ100、管理サーバ105、装置コントローラEC(Equipment Controller)、3つのマシーンコントローラMC(Machine Controller)1〜MC3、2つのプロセスモジュールPM(Process Module)1,PM2,2つのロードロックモジュールLLM(Load Lock Module)1、LLM2及び1つのローダーモジュールLM(Loader Module)を有している。
つぎに、プラズマ処理システム10の内部構成について、図2を参照しながら説明する。プラズマ処理システム10は、第1のプロセスシップPS1、第2のプロセスシップPS2、ローダーモジュールLM、位置合わせ機構ORT(Orientor)およびロードポートLP1、LP2、LP3を有している。
つぎに、装置コントローラECのハードウエア構成について、図3を参照しながら説明する。装置コントローラECは、プラズマ処理システム10の制御装置の一例である。なお、マシーンコントローラMCのハードウエア構成は装置コントローラECと同様であるためここでは説明を省略する。
つぎに、装置コントローラECの機能構成について、各機能をブロックにて示した図4を参照しながら説明する。装置コントローラECは、記憶部250、通信部255、演算部260、テーブル生成部265および処理実行制御部270の各ブロックにより示された機能を有している。
つぎに、装置コントローラECにより実行される本実施形態に係る調整処理について図6に示したフローチャートを参照しながら説明する。図6の調整処理は、予め定められた所定時間経過毎に起動される。なお、本調整処理では、プロセスモジュールPMのクリーニング処理後にシーズニング処理は行わない。
本処理は、図6のステップS600から開始され、演算部260は、ステップS605にてプロセスモジュールPM1、PM2のいずれかがクリーニング後であってウエハ処理前であるかを判定する。たとえば、図7に示したプロセスモジュールPMの処理の遷移によれば、タイミングAでは、プロセスモジュールPMにてウエハを処理しているので直ちにステップS695に進んで本処理を終了する。一方、図7のタイミングBでは、プロセスモジュールPMがクリーニング後であってウエハ処理前なので、ステップS610に進み、演算部260はテストウエハが処理済みであるかを判定する。タイミングBでは、テストウエハが処理済みなので、ステップS615に進み、演算部260は、図示しない測定装置により測定されたテストウエハの断面形状に基づきエッチング量、エッチングレートなどのエッチング状態を演算する。
ホストコンピュータ100や工場内のディスプレイにモニタ出力する際、処理実行制御部270は、基準レシピ300を調整して出力した出力データ(図5参照)を、図8に示したようにデータ入力し(モニタリング)、調整テーブル310及びAIパラメータテーブル330の分解能を用いて元の基準レシピ300の設定値に戻し、モニタ出力する。たとえば、高周波電力RFの場合、ウエハ処理時には基準レシピ300の設定値「1000(w)」が10%増えるように調整され、「1100(w)」の高周波電力が高周波電源から出力される。しかしながら、モニタリングでは、「1100(w)」のデータを入力し、「1100(w)」が10%減るように調整され、「1000(w)」としてモニタ出力される。これにより、管理者は、プロセスモジュールPMの変動値を意識することなく、基準レシピ300に基づきエッチング処理が予定通り遂行されていることを確認することができる。
つぎに、本発明の第2実施形態に係るプラズマ処理システム10について、図9を参照しながら説明する。本実施形態に係るプラズマ処理システム10では、ウエハWの製品種類に基づきグループ化された複数の調整テーブルをプロセスモジュールPM毎に生成する点で製品種類を考慮せず調整テーブルをプロセスモジュールPM毎に生成する第1実施形態に係るプラズマ処理システム10と異なる。よって、この相違点を中心に本実施形態に係るプラズマ処理システム10について説明する。
第2実施形態に係る調整処理について図10に示したフローチャートを参照しながら説明する。図10の調整処理は、予め定められた所定時間経過毎に起動される。なお、本調整処理においても、プロセスモジュールPMのクリーニング処理後にシーズニング処理は行わない。
本処理は、ステップS1000から開始され、演算部260は、ステップS605にてプロセスモジュールPM1、PM2のいずれかがクリーニング後であってウエハ処理前であるかを判定し、ステップS610にてテストウエハが処理済みであるかを判定する。いずれもYESの場合、ステップS615にて、演算部260は、図示しない測定装置により測定されたテストウエハの断面形状に基づきエッチング量、エッチングレートなどのエッチング状態を演算する。
100 ホストコンピュータ
105 管理サーバ
250 記憶部
255 通信部
260 演算部
265 テーブル生成部
270 処理実行制御部
300 基準レシピ
310 調整テーブル
310a PM1用調整テーブル
310b PM2用調整テーブル
320 AOパラメータテーブル
330 AIパラメータテーブル
EC 装置コントローラ
MC マシーンコントローラ
PM、PM1,PM2 プロセスモジュール
Claims (10)
- 複数のプラズマ処理装置の処理室内にて被処理体にプラズマ処理を施すプラズマ処理システムの制御装置であって、
プラズマ処理の手順を示した基準レシピを記憶する記憶部と、
少なくとも複数ロットの処理間隔を置いて所定のタイミングに前記複数のプラズマ処理装置内の状態を示す変動値を算出する演算部と、
前記演算部により演算された前記プラズマ処理装置内の状態の変動値から前記基準レシピを調整するための調整テーブルを前記プラズマ処理装置毎に生成するテーブル生成部と、
前記テーブル生成部により生成された前記プラズマ処理装置毎の調整テーブルのいずれかを用いて前記基準レシピを調整し、調整された基準レシピの手順に従い前記プラズマ処理装置にて被処理体をプラズマ処理する処理実行制御部と、を備えるプラズマ処理システムの制御装置。 - 前記演算部は、クリーニング又はシーズニングの少なくともいずれかの後であって被処理体を処理する前の各プラズマ処理装置内の状態の変動値を演算する請求項1に記載されたプラズマ処理システムの制御装置。
- 前記テーブル生成部は、被処理体の製品種類に基づきグループ化した複数の調整テーブルを生成し、
前記処理実行制御部は、前記グループ化した複数の調整テーブルのうち、次に処理する被処理体の製品が属する調整テーブルを用いて前記基準レシピを調整し、調整された基準レシピの手順に従い前記プラズマ処理装置にて被処理体をプラズマ処理する請求項1又は2のいずれかに記載されたプラズマ処理システムの制御装置。 - 前記テーブル生成部は、
前記基準レシピに定められた各プロセス条件値を増減する比率をプロセス条件毎に調整テーブルに設定する請求項1〜3のいずれかに記載されたプラズマ処理システムの制御装置。 - 前記テーブル生成部は、
前記基準レシピに定められた各プロセス条件値を増減する比率をプロセス条件のステップ毎に調整テーブルに設定する請求項1〜3のいずれかに記載されたプラズマ処理システムの制御装置。 - 前記テーブル生成部は、
各プラズマ処理装置の次のクリーニング又はシーズニングまでは前記調整テーブルを更新しない請求項1〜5のいずれかに記載されたプラズマ処理システムの制御装置。 - 前記プラズマ処理は、プラズマエッチング処理である請求項1〜6のいずれかに記載されたプラズマ処理装置システムの制御装置。
- 前記演算部は、
クリーニング又はシーズニングの少なくともいずれかの後のプラズマ処理装置にてテスト用の被処理体をプラズマエッチング処理した結果、前記テスト用の被処理体のエッチング状態から前記プラズマ処理装置の状態を示した変動値を演算する請求項7に記載されたプラズマ処理システムの制御装置。 - 複数のプラズマ処理装置の処理室内にて被処理体にプラズマ処理を施すプラズマ処理システムの制御方法であって、
プラズマ処理の手順を示した基準レシピを記憶部に記憶し、
少なくとも複数ロットの処理間隔を置いて所定のタイミングに前記複数のプラズマ処理装置内の状態を示す変動値を演算し、
前記演算された前記プラズマ処理装置内の状態の変動値から前記基準レシピを調整するための調整テーブルを前記プラズマ処理装置毎に生成し、
前記生成された前記プラズマ処理装置毎の調整テーブルのいずれかを用いて前記基準レシピを調整し、調整された基準レシピの手順に従い前記プラズマ処理装置にて被処理体をプラズマ処理するプラズマ処理システムの制御方法。 - 複数のプラズマ処理装置の処理室内にて被処理体にプラズマ処理を施すプラズマ処理システムの制御をコンピュータに実行させる制御プログラムを記憶した記憶媒体であって、
プラズマ処理の手順を示した基準レシピを記憶部に記憶する処理と、
少なくとも複数ロットの処理間隔を置いて所定のタイミングに前記複数のプラズマ処理装置内の状態を示す変動値を演算する処理と、
前記演算された前記プラズマ処理装置内の状態の変動値から前記基準レシピを調整するための調整テーブルを前記プラズマ処理装置毎に生成する処理と、
前記生成された前記プラズマ処理装置毎の調整テーブルのいずれかを用いて前記基準レシピを調整し、調整された基準レシピの手順に従い前記プラズマ処理装置にて被処理体をプラズマ処理する処理と、を含む制御プログラムを記憶した記憶媒体。
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