JP5088385B2 - 高強度高導電性銅合金 - Google Patents

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Description

本発明は、例えばコネクタやリードフレーム等の電子電気部品に適した高強度高導電性銅合金に関するものである。
従来、電子機器や電気機器等の小型化にともない、これら電子機器や電気機器等に使用されるコネクタ端子、リードフレーム等の電子電気部品の小型化及び薄肉化が図られている。このため、電子電気部品を構成する材料として、バネ性、強度、導電率の優れた銅合金が要求されている。
そこで、バネ性、強度、導電率の優れた銅合金として、例えば特許文献1には、Beを含有したCu−Be合金が提供されている。このCu−Be合金は、Cuの母相中にCuBeを時効析出させることで導電率を低下させることなく強度を向上させた、析出硬化型の高強度合金である。
しかしながら、このCu−Be合金には、高価な元素であるBeを含有していることから、原料コストが非常に高いものである。また、Cu−Be合金を製造する際には、毒性のあるBe酸化物が発生することになる。よって、製造工程において、Be酸化物が誤って外部に放出されないように、製造設備を特別な構成とし、厳しく管理する必要がある。このように、Cu−Be合金は、原料コスト及び製造コストがともに高く、非常に高価であるといった問題があった。また、前述のように、有害な元素であるBeを含有していることから、環境対策の面からも敬遠されていた。
そこで、Cu−Be合金を代替可能な材料が強く望まれていた。
例えば非特許文献1には、Be銅を代替する銅合金として、Cu−Sn−Mg合金が提案されている。このCu−Sn−Mg合金は、Cu−Sn合金(青銅)にMgを添加したものであり、強度が高く、バネ性に優れた合金である。
特開平04−268033号公報
P.A.Ainsworth,C.J.Thwaites,R.Duckett 、Properties and manufacturing characteristics of precipitation-hardening tin-magnesium bronze 、"Metals Technology"August(1974),p. 385-390
しかしながら、非特許文献1に記載されたCu−Sn−Mg合金においては、加工時に割れが発生し易いといった問題があった。すなわち、非特許文献1に記載されたCu−Sn−Mg合金は、Snを比較的多く含んでいることから、Snの偏析により、鋳塊の内部に低融点の金属間化合物が不均一に生成してしまう。このように低融点の金属間化合物が生成すると、その後の熱処理の際に、低融点の金属間化合物が残存してしまい、その後の加工時において割れが発生するのである。
また、Snは、Beよりは安価であるものの比較的高価な元素であることから、やはり、原料コストが上昇してしまうことになる。
この発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、Beを含有することなく、原料コスト及び製造コストが低く、引張強度及び導電性に優れ、かつ、加工性にも優れた高強度高導電性銅合金を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明の高強度高導電性銅合金は、Mg;1.0質量%を超えて4質量%未満、Sn;0.1質量%を超えて5質量%未満、Ni;0.1質量%を超えて7質量%未満を含み、残部がCu及び不可避不純物の組成を有し、Mgの含有量とSnの含有量の質量比Mg/Snが0.4以上とされていることを特徴としている。
この構成の高強度高導電性銅合金においては、MgとSnとNiとを含有し、残部が実質的にCu及び不可避不純物とされた銅合金とされており、Mgの含有量、Snの含有量、及び、Niの含有量を規定したものである。このような成分組成とされた銅合金は、以下に示すように、引張強度、導電性及び加工性に優れたものとなる。
すなわち、Mg、Snは、それぞれ銅の強度を向上させ、かつ、再結晶温度を上昇させる作用を有する元素である。しかしながら、Mg、Snを多量に含有すると、MgやSnを含む金属間化合物に起因して加工性が悪くなる。よって、Mgの含有量を1.0質量%を超えて4質量%未満とし、Snの含有量を0.1質量%を超えて5質量%未満とすることで、強度の向上及び加工性の確保を図ることが可能となるのである。
詳述すると、MgとSnとを共添加することで、(Cu,Sn)MgやCuMgSnといった析出物が銅の母相中に分散される。この析出物による析出硬化によって、強度及び再結晶温度が向上することになる。
また、Mg、Snを多量に含有すると、Mg、Snの偏析により、鋳塊内部においてMgやSnを含有する金属間化合物が不均一に生成することになる。特に、Snを多く含む金属間化合物は融点が低く、その後の熱処理工程において溶解してしまうおそれがある。溶解すると、その後の熱処理の際に金属間化合物が残存し易くなる。このような金属間化合物の残存に起因して加工性が悪くなるのである。
一方、Niは、Mg及びSnとともに共添加することで、強度と再結晶温度とを、さらに向上させる作用を有する。これは、(Cu,Sn)MgやCuMgSnにNiが固溶した析出物によるものと推測される。また、Niは、鋳塊内部において生成される金属間化合物の融点を高くする作用を有していることから、その後の熱処理工程において金属間化合物が溶融することが抑制され、この金属間化合物の残存に起因した加工性の悪化を抑制することが可能となる。一方、Niを多量に含有した場合には、導電率が低下することになる。
以上のことから、Niの含有量を0.1質量%を超えて7質量%未満とすることで、強度の向上、加工性の向上及び導電性の確保を図ることが可能となるのである。
また、Mgの含有量とSnの含有量の質量Mg/Snを0.4以上とすることによって、Mgに比較してSnの含有量が必要以上に多くならず、低融点の金属間化合物の生成を抑制することが可能となる。よって、前述したMgとSnとを共添加による強度向上の効果を確実に奏功せしめることができるとともに加工性を確保することができる。
また、Niの含有量とSnの含有量の質量比Ni/Snが0.2以上3以下とされていることが好ましい。
Niの含有量とSnの含有量の質量比Ni/Snが0.2以上とされているので、Snの含有量が少なくなり、低融点の金属間化合物の生成を抑制でき、加工性を確保することができる。さらに、質量比Ni/Snが3以下とされているので、過剰なNiが存在せず、導電率の低下を防止することができる。
さらに、P、Bのうちの1種以上を含み、その含有する合計量が0.001質量%以上0.5質量%以下とされていることが好ましい。
P,Bは、強度及び耐熱性を向上させる元素である。また、Pは、溶解鋳造時において、銅溶湯の粘性を低下させる効果がある。しかしながら、P、Bを多量に含有すると導電率が低下することになる。よって、P、Bの含有量を0.001質量%以上0.5質量%以下とすることで、導電率の低下を抑えつつ、強度及び耐熱性の向上を図ることが可能となる。
また、Fe,Co,Al,Ag,Mn,Znのうちの少なくとも1種以上を含み、その含有する合計量が0.01質量%以上5質量%以下とされていることが好ましい。
Fe,Co,Al,Ag,Mn,Znといった元素は、銅合金の特性を向上させる効果を有しており、用途にあわせて選択的に含有させることによって特性を向上させることが可能となる。
さらに、引張強度が750MPa以上、導電率が10%IACS以上とされていることが好ましい。
この場合、強度及び導電率に優れており、前述の電子電気部品として適した高強度高導電性銅合金を提供することができる。例えば、コネクタ端子やリードフレーム等をこの高強度高導電性銅合金で構成することで、これらコネクタ端子やリードフレーム等の薄肉化を図ることが可能となる。
本発明によれば、Beを含有することなく、原料コスト及び製造コストが低く、引張強度及び導電性に優れ、かつ、加工性にも優れた高強度高導電性銅合金を提供することができる。
以下に、本発明の一実施形態である高強度高導電性銅合金について説明する。
本実施形態である高強度高導電性銅合金は、Mg;1.0質量%を超えて4質量%未満、Sn;0.1質量%を超えて5質量%未満、Ni;0.1質量%を超えて7質量%未満を含み、かつ、P、Bのうちの1種以上を合計で0.001質量%以上0.5質量%以下、Fe,Co,Al,Ag,Mn,Znのうちの少なくとも1種以上を合計で0.01質量%以上5質量%以下、を含み、残部がCuと不可避不純物からなる組成を有している。
そして、Mgの含有量とSnの含有量の質量比Mg/Snが0.4以上とされ、Niの含有量とSnの含有量の質量比Ni/Snが0.2以上3以下とされている。
以下に、これらの元素の含有量を前述の範囲に設定した理由について説明する。
(Mg)
Mgは、導電率を大きく低下させることなく、強度を向上させるとともに再結晶温度を上昇させる作用効果を有する元素である。ここで、Mgの含有量が1.0質量%以下では、その作用効果を奏功せしめることはできない。
一方、4.0質量%以上のMgを含有した場合、均質化及び溶体化のために熱処理を行った際に、Mgを含む金属間化合物が残存してしまい、十分な均質化及び溶体化を行うことができなくなる。これにより、熱処理後の冷間加工や熱間加工において割れが発生するおそれがある。
このような理由から、Mgの含有量を、1.0質量%を超えて4質量%未満に設定している。
さらに、Mgは活性元素であることから、過剰に添加されることによって、溶解鋳造時に、酸素と反応して生成されたMg酸化物を巻きこむおそれがある。このMg酸化物の巻きこみを抑制するためには、Mgの含有量を、1.0質量%を超えて3質量%未満とすることが好ましい。
(Sn)
Snは、銅の母相中に固溶することにより、強度を向上させるとともに再結晶温度を上昇させる作用効果を有する元素である。ここで、Snの含有量が0.1質量%以下では、その作用効果を奏功せしめることはできない。
一方、5質量%以上のSnを含有した場合、導電率が大きく低下することになる。また、Snの偏析により、Snを含有する低融点の金属間化合物が不均一に生成し、均質化及び溶体化のために熱処理を行った際に、Snを含有する低融点の金属間化合物が残存してしまい、十分な均質化及び溶体化を行うことができなくなる。これにより、熱処理後の冷間加工や熱間加工において割れが発生することになる。また、Snは比較的高価な元素であることから、必要以上に添加した場合には、製造コストが増加することになる。
このような理由から、Snの含有量を、0.1質量%を超えて5質量%未満に設定している。なお、前述の作用効果を確実に奏功せしめるためには、Snの含有量を、0.1質量%を超えて2質量%未満とすることが好ましい。
(Ni)
Niは、Mg及びSnと共添加することにより、強度を向上させるとともに再結晶温度を上昇させる作用効果を有する元素である。また、Niは、鋳塊内部において偏析する金属間化合物の融点を高くする作用を有していることから、その後の熱処理工程における金属間化合物の溶融を抑制でき、加工性を向上させる効果を有する。ここで、Niの含有量が0.1質量%以下では、その作用効果を奏功せしめることはできない。
一方、7質量%以上のNiを含有した場合、導電率が大きく低下することになる。
このような理由から、Niの含有量を、0.1質量%を超えて7質量%未満に設定している。
(Mg/Sn)
MgとSnとを共添加した場合には、これらの化合物である(Cu,Sn)MgやCuMgSnの析出物が銅の母相中に分散し、析出硬化によって強度を向上させることができる。
ここで、Mgの含有量とSnの含有量の質量比Mg/Snが0.4未満である場合には、Mgの含有量に比して多くのSnを含有することになる。すると、前述のように、低融点の金属間化合物が生じ、加工性が悪化してしまうことになる。よって、Mgの含有量とSnの含有量の質量比Mg/Snを0.4以上とし、加工性を確保している。
なお、Snを含有する低融点の金属間化合物の残存を抑制して加工性を確実に確保するとともに、Snによる強度向上の効果を確実に奏功せしめるためには、Mgの含有量とSnの含有量の質量比Mg/Snを0.8以上10以下とすることが好ましい。
(Ni/Sn)
Niの含有量とSnの含有量の質量比Ni/Snが0.2未満である場合には、Niの含有量に比して多くのSnを含有することになる。すると、前述のように、低融点の金属間化合物が生じやすくなり、加工性が低下してしまうことになる。
また、Niの含有量とSnの含有量の質量比Ni/Snが3を超える場合には、Niの含有量が多くなり、導電率が大きく低下してしまう
よって、Niの含有量とSnの含有量の質量比Ni/Snを0.2以上3以下とし、加工性を確保するとともに、導電率を確保しているのである。
(B、P)
B、Pは、強度及び耐熱性を向上させる元素である。また、Pは、溶解鋳造時において、銅溶湯の粘性を低下させる効果がある。ここで、B、Pの含有量が0.001質量%未満では、その作用効果を奏功せしめることはできない。
一方、B、Pを0.5質量%を超えて含有した場合には、導電率が大きく低下することになる。
このような理由から、B、Pの含有量を、0.001質量%以上0.5質量%以下に設定している。
(Fe,Co,Al,Ag,Mn,Zn)
Fe,Co,Al,Ag,Mn,Znといった元素は、銅合金の特性を向上させる効果を有しており、用途にあわせて選択的に含有させることによって特性を向上させることが可能となる。ここで、Fe,Co,Al,Ag,Mn,Znといった元素の含有量が0.01質量%以下では、その作用効果を奏功せしめることはできない。
一方、Fe,Co,Al,Ag,Mn,Znといった元素を5質量%を超えて含有した場合には、導電率が大きく低下することになる。
このような理由から、Fe,Co,Al,Ag,Mn,Znといった元素の含有量を、0.01質量%以上5質量%以下に設定している。
なお、不可避不純物としては、Ca,Sr,Ba,Sc,Y,希土類元素,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Cr,Mo,W,Re,Ru,Os,Se,Te,Rh,Ir,Pd,Pt,Au,Cd,Ga,In,Li,Si,Ge,As,Sb,Ti,Tl,Pb,Bi,S,O,C,Be,N,H,Hg等が挙げられる。これらの不可避不純物は、総量で0.3質量%以下であることが好ましい。
次に、本実施形態である高強度高導電性銅合金の製造方法について説明する。
(溶解鋳造工程)
まず、銅原料を溶解して得られた銅溶湯に、前述の元素を添加して成分調整を行い、銅合金溶湯を製出する。なお、元素の添加には、元素単体や母合金等を用いることができる。また、これらの元素を含む原料を銅原料とともに溶解してもよい。また、本合金のリサイクル材及びスクラップ材を用いてもよい。
ここで、銅溶湯は、純度が99.99%以上とされたいわゆる4NCuとすることが好ましい。また、溶解工程では、Mg等の酸化を抑制するために、真空炉、あるいは、不活性ガス雰囲気又は還元性雰囲気とされた雰囲気炉を用いることが好ましい。
そして、成分調整された銅合金溶湯を鋳型に注入して鋳塊を製出する。なお、量産を考慮した場合には、連続鋳造法又は半連続鋳造法を用いることが好ましい。
(1次熱処理工程)
次に、得られた鋳塊の均質化及び溶体化のために熱処理を行う。鋳塊の内部には、凝固の過程において添加元素が偏析で濃縮することにより発生した金属間化合物等が存在することになる。そこで、熱処理を行うことで、これらの偏析及び金属間化合物等を消失又は低減させるために、鋳塊内において、添加元素を均質に拡散させたり、添加元素を銅の母相中に固溶させたりするのである。
この熱処理工程における熱処理条件は、特に限定はないが、500℃から800℃、非酸化性又は還元性雰囲気中で実施することが好ましい。
また、粗加工の効率化と組織の均一化のために、前述の熱処理後に熱間加工を実施してもよい。加工方法に特に限定はなく、例えば最終形態が板や条の場合には圧延、線や棒の場合には線引きや押出や溝圧延等、バルク形状の場合には鍛造やプレス、を採用することができる。なお、この熱間加工の温度も特に限定はないが、500℃から800℃とすることが好ましい。
(加工工程)
熱処理された鋳塊を切断するとともに、熱処理等で生成された酸化膜等を除去するために表面研削を行う。そして、所定の形状へと加工を行う。
ここで、加工方法に特に限定はなく、例えば最終形態が板や条の場合には圧延、線や棒の場合には線引きや押出や溝圧延、バルク形状の場合には鍛造やプレス、を採用することができる。なお、この加工時の温度条件は特に限定はないが、冷間又は温間加工とすることが好ましい。また、加工率は、最終形状に近似するように適宜選択されることになるが、20%以上とすることが好ましい。
なお、この加工工程の中で、溶体化を促進するために、あるいは、再結晶組織を得るため、また、加工性を向上させるために、適宜、熱処理を実施してもよい。この熱処理の条件は、特に限定はないが、500℃から800℃、非酸化性又は還元性雰囲気中で実施することが好ましい。
(2次熱処理工程)
次に、加工工程によって得られた加工材に対して、低温焼鈍硬化及び析出硬化を行うために、又は、残留ひずみの除去のために、熱処理を実施する。この熱処理条件については、製出される製品に求められる特性に応じて適宜設定することになる。
なお、熱処理条件は、特に限定はないが、温度が150℃から600℃で、10秒から24時間、非酸化性又は還元性雰囲気中で実施することが好ましい。また、熱処理前の加工とこの熱処理とを複数回実施してもよい。
このようにして、本実施形態である高強度高導電性銅合金が製出される。そして、本実施形態である高強度高導電性銅合金は、その引張強度が750MPa以上、導電率が10%IACS以上とされている。
以上のような構成とされた本実施形態である高強度高導電性銅合金によれば、MgとSnとNiとを含有し、Mgの含有量が1.0質量%を超えて4質量%未満とされ、Snの含有量がSn;0.1質量%を超えて5質量%未満とされ、Niの含有量がSn;0.1質量%を超えて7質量%未満とされているので、Mg、Sn及びNiの共添加によって、固溶硬化及び析出硬化による強度の向上を図ることが可能となるとともに、Mg、Sn及びNiの含有量が抑制され、加工性及び導電率を確保することができる。
また、P、Bのうちの1種以上を含有し、その含有量が0.001質量%以上0.5質量%以下とされているので、導電率の低下を抑えつつ、強度及び耐熱性の向上を図ることが可能となる。
さらに、Fe,Co,Al,Ag,Mn,Znのうちの少なくとも1種以上を含有し、その含有量が0.01質量%以上5質量%以下とされているので、Fe,Co,Al,Ag,Mn,Znといった元素によって、導電率を著しく低下させることなく、銅合金の特性を向上させることが可能となる。
さらに、本実施形態では、引張強度が750MPa以上、導電率が10%IACS以上とされているので、本実施形態である高強度高導電性銅合金を用いて、コネクタ端子やリードフレーム等を構成することで、これらコネクタ端子やリードフレーム等の薄肉化を図ることが可能となる。
以上、本発明の実施形態である高強度高導電性銅合金について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、Mg,Sn及びNi以外の元素を含有するものとして説明したが、これに限定されることはなく、Mg,Sn及びNi以外の元素については必要に応じて添加すればよい。
また、高強度高導電性銅合金の製造方法の一例について説明したが、製造方法は本実施形態に限定されることはなく、既存の製造方法を適宜選択して製造してもよい。
以下に、本発明の効果を確認すべく行った確認実験の結果について説明する。
純度99.99%以上の無酸素銅からなる銅原料を準備し、これを高純度グラファイト坩堝内に装入して、Arガス雰囲気とされた雰囲気炉内において高周波溶解した。得られた銅溶湯内に、各種添加元素を添加して表1に示す成分組成に調製し、カーボン鋳型に注湯して鋳塊を製出した。なお、鋳塊の大きさは、厚さ約20mm×幅約20mm×長さ約100mmとした。
得られた鋳塊に対して、Arガス雰囲気中において715℃で4時間の熱処理を実施した。
熱処理後の鋳塊を切断するとともに、酸化被膜を除去するために表面研削を実施した。これにより、厚さ約8mm×幅約18mm×長さ約100mmの素体ブロックを製出した。
この素体ブロックに対して、圧延率約92%から94%の冷間圧延を実施し、厚さ約0.5mm×幅約20mmの条材を製出した。
この条材に対して、Arガス雰囲気中で表1に記載した温度で1〜4時間の熱処理を実施し、特性評価用条材を作成した。
(加工性評価)
加工性の評価として、前述の冷間圧延時における耳割れの有無を観察した。目視で耳割れが全くあるいはほとんど認められなかったものを◎、長さ1mm未満の小さな耳割れが発生したものを○、長さ1mm以上3mm未満の耳割れが発生したものを△、長さ3mm以上の大きな耳割れが発生したものを×、耳割れに起因して圧延途中で破断したものを××とした。
なお、耳割れの長さとは、圧延材の幅方向端部から幅方向中央部に向かう耳割れの長さのことである。
また、前述の特性評価用条材を用いて、引張強度及び導電率を測定した、
(引張強度)
特性評価用条材からJIS Z 2201に規定される13B号試験片を採取し、JIS Z 2241の規定にしたがって、室温(25℃)での引張強度を測定した。なお、試験片は、引張試験の引張方向が特性評価用条材の圧延方向に対して平行になるように採取した。
(導電率)
特性評価用条材から幅10mm×長さ60mmの試験片を採取し、4端子法によって電気抵抗を求めた。また、マイクロメータを用いて試験片の寸法測定を行い、試験片の体積を算出した。そして、測定した電気抵抗値と体積とから、導電率を算出した。なお、試験片は、その長手方向が特性評価用条材の圧延方向に対して平行になるように採取した。
評価結果を表1、表2に示す。
Figure 0005088385
Figure 0005088385
Mgの含有量が1.0質量%以下とされた比較例1、Sn及びNiを含有していない比較例2,Snを含有していない比較例3では、いずれも引張強度が750MPa未満であった。
また、Niの含有量が7質量%以上とされた比較例4においては、導電率が9.6%IACSと低い値を示した。
Snの含有量が5質量%以上とされた比較例5,7,8においては、冷間圧延時に大きな耳割れが発生し、比較例7,8では圧延の途中で破断した。
また、Niを含有していない比較例6では、圧延時に大きな耳割れが発生し、圧延の途中で破断した。
さらに、Mgの含有量が4質量%以上とされた比較例9,10についても、冷間圧延時に大きな耳割れが発生し、比較例10では圧延の途中で破断した。
これに対して、本発明例1−42においては、引張強度が750MPa以上、導電率が10%以上とされていることが確認された。また、冷間圧延において、3mm以上の大きな耳割れは確認されなかった。
以上のことから、本発明例によれば、引張強度が750MPa,導電率が10%以上の高強度高導電性銅合金を、耳割れ等による加工トラブルなく、製出できることが確認された。

Claims (5)

  1. Mg;1.0質量%を超えて4質量%未満、Sn;0.1質量%を超えて5質量%未満、Ni;0.1質量%を超えて7質量%未満を含み、残部がCu及び不可避不純物の組成を有し、Mgの含有量とSnの含有量の質量比Mg/Snが0.4以上とされていることを特徴とする高強度高導電性銅合金。
  2. 請求項1に記載の高強度高導電性銅合金において、
    Niの含有量とSnの含有量の質量比Ni/Snが0.2以上3以下とされていることを特徴とする高強度高導電性銅合金。
  3. 請求項1又は請求項2に記載の高強度高導電性銅合金において、
    P、Bのうちの1種以上を含み、その含有する合計量が0.001質量%以上0.5質量%以下とされていることを特徴とする高強度高導電性銅合金。
  4. 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の高強度高導電性銅合金において、
    Fe,Co,Al,Ag,Mn,Znのうちの少なくとも1種以上を含み、その含有する合計量が0.01質量%以上5質量%以下とされていることを特徴とする高強度高導電性銅合金。
  5. 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の高強度高導電性銅合金において、
    引張強度が750MPa以上、導電率が10%IACS以上とされていることを特徴とする高強度高導電性銅合金。
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