JP5075458B2 - 表面検査装置 - Google Patents

Description

本発明は半導体製造での検査工程に使用され、ウェーハ表面に付着したパーティクル等異物の有無を検査する表面検査装置に関するものである。

シリコンウェーハ等の基板表面に薄膜の生成、エッチング等の表面処理を行い微細なパターンを形成する等してＣＰＵ等の半導体デバイスを製造する。半導体デバイスの製造工程に於ける加工は非常に微細であり、基板表面にパーティクルが付着すると、回路の切断等の支障があり、品質の低下、歩留りの低下を招く。

従って、半導体製造工程の１つとして、基板表面にパーティクルが付着した数、或は付着の状態を検査する表面検査が組込まれる。

又、基板表面の微細なパーティクル、傷を検出する方法としては、基板表面にレーザ光線等の光を照射し、パーティクル、傷による散乱光を受光し、パーティクル、傷の有無、数等を散乱光の受光状態から検出している。又、表面検査を実施するに当り、表面検査精度の信頼性を高める為、基板の表面検査毎に、或は所定枚数の基板検査毎に、パーティクル検出結果の較正が行われる。

検出結果の較正は、付着したパーティクルの粒径、数、パーティクルの分布状態が既知である較正用ウェーハを用いて表面検査を行い、表面検査装置により実施した較正用ウェーハの表面検出結果と、較正用ウェーハの既知のパーティクルの情報とを比較し、表面検査の検出結果が前記較正用ウェーハのパーティクルの情報に合致する様に前記表面検査装置の検査精度、検査状態を較正するものである。

一般的に較正用ウェーハは、表面検査が行われる度に、表面検査装置外部から搬入され、表面検査装置にセットされ、表面検査が実行されると、表面検査装置より搬出されていた。又、較正用ウェーハは表面検査の基準となるものであるから、較正用ウェーハ自体がパーティクル等に汚染されることは避けなければならず、清浄な雰囲気で保管しなければならない等、較正用ウェーハによる表面検査は非能率的であり、又保管管理も面倒なものであった。

そこで、本出願人は特許文献１に示される様に、表面検査装置内部に較正用ウェーハを保管し、表面検査装置が持つ搬送ロボットにより較正用ウェーハの表面検査部への搬入出を行う様にし、作業性を向上させた。又、装置内部を清浄雰囲気に保つことで、較正用ウェーハの汚染も防止する様にした。

近年の半導体デバイスの高密度化は、更に微細なパーティクルの存在、傷の存在も製品品質、歩留りを低下させる要因となっている。この為、表面検査装置に於いても、更に高精度の検査精度が求められる様になっている。

特開２００３−１３０８０９号公報

本発明は斯かる実情に鑑み、表面検査装置に於いて較正用ウェーハの汚染を高度に防止し、検査結果の較正精度、較正の信頼性を向上させ、延いては表面検査装置の検査精度の向上、信頼性の向上を図るものである。

本発明は、基板表面の異物、傷を検査する検査部と、該検査部に被検査体の基板、較正用基板を搬入出する搬送部とを具備する表面検査装置に於いて、前記搬送部が較正用基板を複数収納する較正用基板収納部を具備し、該較正用基板収納部は前記搬送部内に開口する容器であり、開口上部を横断する様に清浄気体吐出ノズルが設けられ、該清浄気体吐出ノズルから清浄気体が吐出され、該清浄気体は収納された基板表面に沿って収納部奥に向って流れ、奥壁面で折返し流れ、前記開口下部より流出する清浄流れが形成され、前記清浄気体吐出ノズルから吐出される前記清浄気体は上段の前記較正用基板の表面に衝突し、一部は逆流し、前記開口から流出する様に構成された表面検査装置に係り、又基板表面の異物、傷を検査する検査部と、該検査部に被検査体の基板、較正用基板を搬入出する搬送部とを具備する表面検査装置に於いて、前記搬送部が較正用基板を収納する較正用基板収納部を具備し、該較正用基板収納部は前記搬送部内に開口し、該開口を開閉する蓋を有すると共に少なくとも１段の基板載置板を有する容器であり、開口上部を横断する様に清浄気体吐出ノズルが設けられ、該清浄気体吐出ノズルから清浄気体が吐出され、該清浄気体は収納された基板表面に沿って収納部奥に向って流れ、奥壁面で折返し流れる清浄流れが形成され、前記蓋は閉状態で前記開口の一部を開放し、前記較正用基板収納部内部の清浄流れが維持される様構成した表面検査装置に係るものであり、又前記清浄気体吐出ノズルから吐出される清浄気体の一部は逆流し、前記開口から流出する様にした表面検査装置に係り、又前記搬送部内部には清浄空気流れが形成され、前記清浄気体吐出ノズルから吐出される清浄気体は前記清浄空気流れとは独立して供給される表面検査装置に係り、又前記較正用基板収納部は前記開口を開閉する蓋を具備し、該蓋は前記搬送部内部の清浄度が低下した場合に閉塞される様構成した表面検査装置に係り、又前記蓋は閉状態で前記較正用基板収納部内部に清浄流れが維持される様、前記開口の一部が開放される様になっている表面検査装置に係り、又前記較正用基板収納部は、基板の有無を検出する基板検知器を具備し、該基板検知器により基板を検知している状態では、前記清浄流れを維持する表面検査装置に係り、更に又前記較正用基板収納部は、基板収納位置を設定する為のティーチング用覗き窓を具備する表面検査装置に係るものである。

本発明によれば、基板表面の異物、傷を検査する検査部と、該検査部に被検査体の基板、較正用基板を搬入出する搬送部とを具備する表面検査装置に於いて、前記搬送部が較正用基板を収納する較正用基板収納部を具備し、該較正用基板収納部は内部に清浄流れが形成される様構成したので、較正用基板がパーティクル等の異物に汚染されることなく清浄な状態に維持され、表面検査の較正精度の信頼性、精度が向上し、表面検査の精度の信頼性、精度が向上する。

又本発明によれば、前記較正用基板収納部は前記搬送部内に開口する容器であり、開口上部を横断する様に清浄気体吐出ノズルが設けられ、該清浄気体吐出ノズルから清浄気体が吐出され、該清浄気体は収納された基板表面に沿って収納部奥に向って流れ、奥壁面で折返し流れる清浄流れが形成される様構成されたので、較正用基板がパーティクル等の異物に汚染されることなく清浄な状態に維持され、表面検査の較正精度の信頼性、精度が向上し、表面検査の精度の信頼性、精度が向上する。

又本発明によれば、前記清浄気体吐出ノズルから吐出される清浄気体の一部は逆流し、前記開口から流出する様にしたので、外部からの空気の浸入が防止され、較正用ウェーハ収納部内部の清浄度の低下が防止される。

又本発明によれば、前記搬送部内部には清浄空気流れが形成され、前記清浄気体吐出ノズルから吐出される清浄気体は前記清浄空気流れとは独立して供給されるので、搬送部内の清浄空気流れが停止、又は清浄度が低下した場合でも、較正用ウェーハ収納部内部を高清浄に維持できる。

又本発明によれば、前記較正用基板収納部は前記開口を開閉する蓋を具備し、該蓋は前記搬送部内部の清浄度が低下した場合に閉塞される様構成したので、搬送部内の雰囲気が較正用ウェーハ収納部内に浸入することがなく、較正用ウェーハ収納部内を高清浄に維持できる。

又本発明によれば、前記蓋は閉状態で前記較正用基板収納部内部に清浄流れが維持される様、前記開口の一部が開放される様になっているので、外部の雰囲気の浸入を防止しつつ清浄流れを維持でき、較正用ウェーハ収納部内部の清浄度を維持できる。

又本発明によれば、前記較正用基板収納部は、基板の有無を検出する基板検知器を具備し、該基板検知器により基板を検知している状態では、前記清浄流れを維持するので、表面検査装置に異常等あった場合でも、較正用ウェーハ収納部内の清浄度は維持でき、較正用ウェーハの異物からの汚染が防止できる。

更に又本発明によれば、前記較正用基板収納部は、基板収納位置を設定する為のティーチング用覗き窓を具備するので、較正基板の搬入出に関するティーチング作業が容易になる等の優れた効果を発揮する。

以下、図面を参照しつつ本発明を実施する為の最良の形態を説明する。

先ず、図１、図２に於いて、本発明が実施される表面検査装置の概略を説明する。

表面検査装置は、ウェーハ搬送ロボットを具備する搬送部１と該搬送部１に連設され、表面検査部を具備する検査部２とにより構成されている。

前記搬送部１は前面にカセット授受ステージ３が設けられ、該カセット授受ステージ３と臨接する位置にカセット搬入出口４が設けられ、該カセット搬入出口４は開閉扉によって開閉される様になっている。前記搬送部１の後面上部には較正用ウェーハ収納部５が設けられている。前記検査部２は、前面に操作部６を有すると共に前面上部には表示部７が設けられている。又、前記搬送部１、前記検査部２の上部にはクリーンユニット９が設けられている。

前記検査部２に具備されている表面検査部８について図３を参照して説明する。

前記検査部２の内部は上下に区分され、上部は前記クリーンユニット９から吐出されるクリーンエアによって清浄雰囲気に維持され、前記表面検査部８が収納され、前記クリーンエアの下流に位置する下部には制御部、電源部等が収納されている。

前記表面検査部８は、ウェーハ１１が載置される検査テーブル１２、該検査テーブル１２を高速回転するモータ１３、検査用レーザ光線を発するレーザ光源１４、レーザ光線を前記ウェーハ１１表面に照射する投光部１５、前記ウェーハ１１表面で直接反射されたレーザ光線の反射光を受光し、受光状態を電気信号に変換してコンピュータ１６に入力する受光部１７、前記ウェーハ１１表面のパーティクル、傷等で反射された散乱光を検出する受光センサ１８、該受光センサ１８からの受光信号を増幅し、Ａ／Ｄ変換等所要の信号処理をして前記コンピュータ１６に出力する信号処理部１９を有し、前記コンピュータ１６は前記受光部１７からの信号を基に前記レーザ光源１４の発光状態を制御し、又前記信号処理部１９からの信号に基づき前記ウェーハ１１に付着しているパーティクルの数等を演算する。

前記コンピュータ１６での演算結果、即ち表面検査結果はプリンタ２１、前記表示部７に出力される。又、前記操作部６から検査開始指令、或は検査条件等が入力される。

尚、前記コンピュータ１６は表面検査プログラムを内蔵すると共に前記搬送部１の搬送ロボット（後述）を駆動制御する為のシーケンスプログラム等のプログラムを内蔵し、前記搬送部１に前記ウェーハ１１を搬入搬出する為の制御信号を発している。又、前記表面検査プログラムには、対象ウェーハの表面検査を実施する為のプログラムと、製品用のウェーハの検査結果と較正用ウェーハの検査結果とを比較し、製品用のウェーハの検査結果を較正する較正プログラムが含まれている。

該較正プログラムは所定の条件により自動的に作動する様になっており、例えば、作動する条件としては、検査対象であるウェーハ１１の種類変更や、表面検査が実行された経過時間、表面検査回数、前記レーザ光源１４の使用時間、装置内汚染度の変化が挙げられる。又、オペレータの意志により任意に作動させることも可能である。

図４を参照して前記搬送部１について説明する。

前記カセット授受ステージ３（図１参照）には前記ウェーハ１１が装填されたカセット（図示せず）が搬送され、載置される。

前記搬送部１はフレーム２３、該フレーム２３に設けられたパネル（図示せず）により構成される密閉又は略密閉された筐体２４を有し、該筐体２４の上部にはクリーンユニット２５が設けられ、前記筐体２４の内部、前記クリーンユニット２５の下方は搬送空間２６となっており、該搬送空間２６には搬送ロボット２７が収納されている。

前記搬送空間２６の下方は収納部２８となっており、該収納部２８には駆動部２９、ＣＰＵ等で構成される搬送部用の制御部３１、電源、電磁弁等を含む付属機器３２が収納されている。

前記クリーンユニット２５は浄化した空気を下方に送出しており、前記搬送空間２６には上方から下方に向う清浄空気流れ３０が形成される様になっている。

前記搬送ロボット２７は昇降部３３、該昇降部３３の上端に設けられた２組のアーム３４，３５を有し、該アーム３４，３５は独立して屈伸可能となっている。又該アーム３４，３５の先端にはそれぞれウェーハ受載板３６，３６が設けられている。

前記アーム３４，３５は複節アーム構造であり、該アーム３４，３５の屈伸により前記ウェーハ受載板３６，３６が独立して進退する様になっていると共に前記アーム３４，３５は独立して回転可能となっており、前記アーム３４，３５は前記駆動部２９によって駆動されると共に前記制御部３１によって駆動が制御される。

前記搬送空間２６の上部に位置する様に、前記較正用ウェーハ収納部５が前記フレーム２３に取付けられている。前記較正用ウェーハ収納部５は中空構造であり、前記搬送空間２６の上部に開口し、開口部は前記搬送ロボット２７の動作範囲内に位置している。又、前記較正用ウェーハ収納部５は清浄空気の流れの障害とならない様に、外方に水平に突出している。

前記搬送ロボット２７は搬送動作により発塵するが、前記較正用ウェーハ収納部５を前記搬送ロボット２７の上方に配置することで、前記較正用ウェーハ収納部５が前記搬送ロボット２７の上流側となり、該搬送ロボット２７によって発生したパーティクルが前記較正用ウェーハ収納部５に到達することはない。

該較正用ウェーハ収納部５はウェーハ載置板３８を少なくとも１段、図示では上下２段に有し、該ウェーハ載置板３８には較正用ウェーハ３７が載置される。

前記較正用ウェーハ収納部５には清浄流れ形成手段３９が設けられ、該清浄流れ形成手段３９は前記較正用ウェーハ３７の表面に沿って一方向に流れる清浄流れ４１（後述）を形成する様になっている。前記清浄流れ形成手段３９により前記較正用ウェーハ収納部５内部に清浄流れ４１が形成されることで、前記清浄空気流れ３０は前記較正用ウェーハ収納部５に浸入することなく流下し、該較正用ウェーハ収納部５内部は前記搬送空間２６より高度の清浄雰囲気が形成される。

前記較正用ウェーハ３７には既知の粒径、既知の分布密度でパーティクルが付着されており、前記較正用ウェーハ３７により表面検査した信号に基づき表面検査結果の較正を行うことができる様になっている。又、前記較正用ウェーハ収納部５に複数の較正用ウェーハ３７が収納される場合は、各較正用ウェーハ３７毎にパーティクルの粒径、分布が異なっており、種々の較正条件が得られる様になっている。

上記した様に、前記較正用ウェーハ収納部５の内部には、即ち収納されている較正用ウェーハ３７の周囲には滞留のない清浄空気の流れが形成されるので、清浄空気内にパーティクルが僅かに含まれたとしても、パーティクルは前記較正用ウェーハ３７に付着することはなく、該較正用ウェーハ３７の表面は常に清浄状態が保たれる。

次に、図５〜図８を参照して前記較正用ウェーハ収納部５について説明する。

ウェーハ収納箱４２がブラケット４３を介して前記筐体２４に取付けられる。前記ウェーハ収納箱４２は扁平な箱形状の容器であり、一端部は前記搬送空間２６内部に突入され、突入端は該搬送空間２６に向って開放された開口４４を有している。突入端部の上側に軸受４５を介して扉軸４６が回転自在に設けられ、該扉軸４６に蓋４７が取付けられ、該蓋４７は前記開口４４を閉塞可能となっている。

前記扉軸４６の一端には、該扉軸４６を介して前記蓋４７を回転させるアクチュエータ、例えばロータリソレノイド４８が取付けられ、他端には前記蓋４７の開閉状態、即ち前記扉軸４６の回転角を検出する蓋開閉検出器４９が取付けられている。

前記ロータリソレノイド４８の作動で前記扉軸４６を介して前記蓋４７が回転し、該蓋４７によって前記開口４４が開閉され、又開閉状態は前記蓋開閉検出器４９によって検出される。又、前記ロータリソレノイド４８は、半開、全閉状態が可能な２段動作駆動可能であることが好ましい。前記蓋開閉検出器４９が検出した前記蓋４７の開放状態は前記制御部３１に送出される。

前記ウェーハ収納箱４２の内部には、ウェーハ置台５１が設置される。該ウェーハ置台５１は、４本の支柱５２により上下２段に前記ウェーハ載置板３８，３８が支持され、該ウェーハ載置板３８は前記ウェーハ受載板３６によるウェーハ搬送動作と干渉しない様に、凹形状をしている。

前記ウェーハ載置板３８の上面には４箇所に受載駒５３が設けられ、前記較正用ウェーハ３７は前記受載駒５３に周辺４箇所を支持され載置される様になっている。該受載駒５３のウェーハ受載面５３ａは一段低くなっており、上面から該ウェーハ受載面５３ａへは斜面５３ｂとなっており、該斜面５３ｂによってウェーハの前記受載駒５３への載置が容易になっている。前記受載駒５３は前記較正用ウェーハ３７を汚染しない材質、例えば、ポリアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、セラミック等が用いられる。ウェーハ表裏面の金属汚染防止の為である。

又、前記ウェーハ載置板３８上面の所要位置、例えば前記受載駒５３の近傍にウェーハ検知器５４が設けられ、該ウェーハ検知器５４は光センサ、超音波センサ等の非接触検知器となっており、ウェーハの有無を検知する。ウェーハの検知結果は前記制御部３１に送出される。

前記開口４４の上端、前記ウェーハ収納箱４２の上面に沿って清浄気体吐出ノズル５５が設けられ、該清浄気体吐出ノズル５５は清浄気体供給系５７を介して図示しない清浄気体供給源に接続されている。前記清浄気体吐出ノズル５５は、前記開口４４を水平方向に横断する中空管に所要ピッチで気体吐出孔５６が穿設されたものであり、該気体吐出孔５６は、図７に見られる様に、水平、或は略水平に穿設され、清浄気体を前記ウェーハ収納箱４２の奥に向って水平に吐出する様になっている。前記気体吐出孔５６の数、ピッチ、孔径は吐出される清浄気体が均一な速度分布、若しくは略均一な速度分布が形成される様に選択される。

清浄気体供給源の一例としては、ポンプ等の空気圧送手段と、流量制御器、漸次目が小さくなる複数段のフィルタ等によって構成され、充分にパーティクルを除去して供給可能なもの、或は気体供給源として不活性ガス、例えば、窒素ガスを供給可能としたもの等が挙げられる。

而して、前記清浄気体吐出ノズル５５、前記清浄気体供給系５７、前記清浄気体供給源等により前記清浄流れ形成手段３９が構成され、該清浄流れ形成手段３９により清浄気体が前記ウェーハ収納箱４２内に吐出され、該ウェーハ収納箱４２内部に清浄流れが形成される。前記清浄流れ形成手段３９からの清浄気体供給のオン／オフ、清浄気体供給量は、前記制御部３１によって制御される。

尚、前記ウェーハ収納箱４２の上面にティーチング用の覗き窓５８が設けられ、外部に突出した奥壁面４２ａにティーチング用の覗き窓５９が設けられ、該覗き窓５８，５９を通して前記ウェーハ収納箱４２内部が観察可能であると共に前記覗き窓５８，５９は密閉状態となっている。該覗き窓５８，５９は、前記搬送ロボット２７により前記較正用ウェーハ３７を搬送する場合に、該較正用ウェーハ３７が正確に前記受載駒５３に載置される様、前記搬送ロボット２７にウェーハの受載位置を設定する場合に用いられる。

以下、前記表面検査装置の作動について説明する。

先ず、較正用ウェーハ３７の搬送工程を説明する。

該較正用ウェーハ３７を収納するカセット（図示せず）が前記カセット授受ステージ３に載置される。前記カセットには１枚又は複数枚の較正用ウェーハ３７が収納されている。複数枚の較正用ウェーハ３７が収納される場合は、各較正用ウェーハ３７は付着された粒子径、粒子の個数、或は分布密度が異なるものが用いられる。

前記ロータリソレノイド４８により前記扉軸４６を介して前記蓋４７が上方に回転され、前記開口４４が開放される。

前記蓋４７が完全に解放された状態で、前記搬送ロボット２７による前記アーム３４，３５の昇降、回転、進退の協動により、前記カセット授受ステージ３上のカセットから前記較正用ウェーハ収納部５の前記ウェーハ置台５１の各段の前記ウェーハ載置板３８にそれぞれ前記較正用ウェーハ３７が搬送され、前記受載駒５３を介して前記ウェーハ載置板３８に載置される。

図９（Ａ）に示される様に、前記清浄気体吐出ノズル５５の前記気体吐出孔５６からは、清浄気体が水平方向に吐出される。清浄気体は水平に流れ、前記奥壁面４２ａで反転し、又上下２段に分流して前記較正用ウェーハ３７の表面に沿って流れ、前記開口４４からは前記清浄空気流れ３０と合流して下方に流下する。従って、前記ウェーハ収納箱４２内部には滞留のない、前記較正用ウェーハ３７表面に沿って流れる清浄流れ４１が形成され、前記較正用ウェーハ３７の表面が清浄な状態に維持される。

前記較正用ウェーハ３７が前記較正用ウェーハ収納部５に収納されると、製品用のウェーハ１１の表面検査が行われる前工程として、検出部（受光センサ１８、信号処理部１９）の較正が行われる。

較正工程で使用される前記較正用ウェーハ３７は、検査の対象となるウェーハ１１に適合したもの、例えば膜質が同一であるもの、検査の対象となる粒子径、粒子の個数、或は分布密度等の条件が一致しているものが選択される。

前記搬送ロボット２７により、前記較正用ウェーハ収納部５内の前記較正用ウェーハ３７が前記表面検査部２内の前記検査テーブル１２上に移載される。

前記モータ１３により前記検査テーブル１２が回転され、前記投光部１５を介してレーザ光線が前記較正用ウェーハ３７上に照射される。該較正用ウェーハ３７で反射された反射光は前記受光部１７で受光され、受光結果が前記コンピュータ１６に入力される。該コンピュータ１６では受光結果より、前記較正用ウェーハ３７へのレーザ光線の投光状態が一定となる様に、前記レーザ光源１４を制御する。

又、前記較正用ウェーハ３７についての検査結果に基づき、前記受光センサ１８への印加電圧が調整され、該受光センサ１８の感度が調整される。或は、前記信号処理部１９での受光信号の増幅率が調整される。或は、その両方を行う等適宜な方法により較正が行われる。

較正が完了すると、前記搬送ロボット２７により前記検査テーブル１２上の前記較正用ウェーハ３７が前記較正用ウェーハ収納部５に戻される。

次に、前記カセット授受ステージ３上のカセットから検査対象のウェーハ１１が前記検査テーブル１２に搬送され、ウェーハ１１についての表面検査が順次実行される。

ウェーハ１１についての表面検査が実行されている間、前記開口４４は開放され、前記清浄気体吐出ノズル５５からは清浄気体が吐出される。前記較正用ウェーハ収納部５内部に清浄流れ４１が形成され、前記較正用ウェーハ３７の清浄な状態が維持される。

尚、前記較正用ウェーハ収納部５内部に前記較正用ウェーハ３７が収納されるているかどうかは前記ウェーハ検知器５４により検出され、前記較正用ウェーハ収納部５に前記較正用ウェーハ３７が収納されている状態では、前記表面検査部８による表面検査が実行されているいないに拘らず、前記清浄気体吐出ノズル５５からは清浄気体が吐出され続け、前記清浄流れ４１が形成される。

尚、前記表面検査部８の非常停止、或は前記クリーンユニット２５が停止した場合等、前記搬送空間２６の清浄度が低下する様な状況では、前記制御部３１により異常が判断され、前記ロータリソレノイド４８を駆動して、前記蓋４７を閉状態とする。該蓋４７を閉状態とすることで、前記清浄空気流れ３０が停止したことによる気流の変化に起因したパーティクルの巻込みを防止する。

又、閉状態として、前記較正用ウェーハ収納部５内を完全に密閉すると、内部の気流が停滞し、収納されている較正用ウェーハ３７がパーティクルにより汚染される可能性が生ずるので、前記蓋４７は閉状態でも前記開口４４を密閉せず、下部が一部開放された状態とする。

図９（Ｂ）に示される様に、前記開口４４が一部開放され、前記清浄気体吐出ノズル５５から清浄気体が吐出され続けることで、前記清浄流れ４１が維持され、前記較正用ウェーハ収納部５内部が清浄雰囲気に維持される。

尚、前記蓋４７の下部に切欠き部を形成し、該蓋４７を完全に閉状態としても前記清浄流れ４１の流路が確保される様にしてもよい。

又、前記清浄気体吐出ノズル５５から吐出される流量、或は前記気体吐出孔５６の吐出方向を調整し、吐出される清浄気体が上段の前記較正用ウェーハ３７の表面に衝突し、一部が前記開口４４に向って逆流する様にしてもよい。一部を前記開口４４に向って逆流させることで、前記開口４４全面から前記搬送空間２６に向って清浄気体が流出する状態となり、前記清浄空気流れ３０の前記較正用ウェーハ収納部５内への浸入を防止し、前記較正用ウェーハ収納部５内を高清浄度に維持できる。

本発明に係る表面検査装置の正面からの斜視図である。 本発明に係る表面検査装置の背面からの斜視図である。 該表面検査装置が具備する表面検査部の一例を示す概略ブロック図である。 該表面検査装置の搬送部の内部を示す側面図である。 該搬送部が具備する較正用ウェーハ収納部の側断面図である。 該較正用ウェーハ収納部の平面図である。 該較正用ウェーハ収納部の蓋が開いた状態での正面図である。 該較正用ウェーハ収納部に用いられる清浄気体吐出ノズルの断面図である。 （Ａ）は較正用ウェーハ収納部の蓋が開いた状態での清浄流れを示す説明図、（Ｂ）は較正用ウェーハ収納部の蓋が閉じた状態での清浄流れを示す説明図である。

符号の説明

１ 搬送部
２ 検査部
５ 較正用ウェーハ収納部
８ 表面検査部
２６ 搬送空間
２７ 搬送ロボット
３０ 清浄空気流れ
３１ 制御部
３７ 較正用ウェーハ
３８ ウェーハ載置板
３９ 清浄流れ形成手段
４１ 清浄流れ
４４ 開口
４７ 蓋
４８ ロータリソレノイド
５１ ウェーハ置台
５３ 受載駒
５４ ウェーハ検知器
５５ 清浄気体吐出ノズル
５６ 気体吐出孔

Claims (8)

1. 基板表面の異物、傷を検査する検査部と、該検査部に被検査体の基板、較正用基板を搬入出する搬送部とを具備する表面検査装置に於いて、前記搬送部が較正用基板を複数収納する較正用基板収納部を具備し、
   該較正用基板収納部は前記搬送部内に開口する容器であり、開口上部を横断する様に清浄気体吐出ノズルが設けられ、該清浄気体吐出ノズルから清浄気体が吐出され、該清浄気体は収納された基板表面に沿って収納部奥に向って流れ、奥壁面で折返し流れ、前記開口下部より流出する清浄流れが形成され、
   前記清浄気体吐出ノズルから吐出される前記清浄気体は上段の前記較正用基板の表面に衝突し、一部は逆流し、前記開口から流出する様に構成されたことを特徴とする表面検査装置。
2. 基板表面の異物、傷を検査する検査部と、該検査部に被検査体の基板、較正用基板を搬入出する搬送部とを具備する表面検査装置に於いて、前記搬送部が較正用基板を収納する較正用基板収納部を具備し、
   該較正用基板収納部は前記搬送部内に開口し、該開口を開閉する蓋を有すると共に少なくとも１段の基板載置板を有する容器であり、
   開口上部を横断する様に清浄気体吐出ノズルが設けられ、該清浄気体吐出ノズルから清浄気体が吐出され、該清浄気体は収納された基板表面に沿って収納部奥に向って流れ、奥壁面で折返し流れる清浄流れが形成され、
   前記蓋は閉状態で前記開口の一部を開放し、前記較正用基板収納部内部の清浄流れが維持される様構成したことを特徴とする表面検査装置。
3. 前記清浄気体吐出ノズルから吐出される清浄気体の一部は逆流し、前記開口から流出する様にした請求項２の表面検査装置。
4. 前記搬送部内部には清浄空気流れが形成され、前記清浄気体吐出ノズルから吐出される清浄気体は前記清浄空気流れとは独立して供給される請求項２の表面検査装置。
5. 前記較正用基板収納部は前記開口を開閉する蓋を具備し、該蓋は前記搬送部内部の清浄度が低下した場合に閉塞される様構成した請求項１の表面検査装置。
6. 前記蓋は閉状態で前記較正用基板収納部内部に清浄流れが維持される様、前記開口の一部が開放される様になっている請求項１の表面検査装置。
7. 前記較正用基板収納部は、基板の有無を検出する基板検知器を具備し、該基板検知器により基板を検知している状態では、前記清浄流れを維持する請求項１又は請求項２の表面検査装置。
8. 前記較正用基板収納部は、基板収納位置を設定する為のティーチング用覗き窓を具備する請求項１の表面検査装置。

Images