JP5073658B2 - 粉砕媒体 - Google Patents
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Description
本出願は、同時係属中の2004年3月10日出願の米国特許出願第10/797,343号(名称「MULTI−CARBIDE MATERIAL MANUFACTURE AND USE」)の一部継続出願であり、2003年3月11日出願の米国仮特許出願第60/453,427号(名称「SPHERES IMPARTING HIGH WEAR RATES」)に対する優先権を主張する。上記の出願の両方は、本明細書において、参考によって援用される。
本発明は、概して、粒子の縮小、特に粉砕媒体および粉砕媒体に関連する方法、ならびに小さな粒子組成物に関する。
粒子の縮小(粉砕としても公知)は、例えば石臼でひくことによって穀粒から粉を生成するために昔の人が行っていた、非常に古い技術である。色々な工業用途に使用するために、より小さくより揃った粉末を生成するため、製粉など、より洗練された手法が開発された。微粉砕処理では、一般的に、粉砕媒体を使用して生成物をより小さな寸法に押し潰したりまたは打ち砕いたりする。例えば、生成物は、比較的大きな粒子を有する粉末の形で提供され、微粉砕処理は、粒子の寸法を縮小するために使用され得る。
(a)金属酸化物(特にチタン酸化物)の大きな粒子(そのような粒子は、以後供給酸化物という)を得る工程であって、そのような酸化物粒子は、チタンの酸化物の微細粒子よりも調達することが一般的に非常により安価であることに起因している、工程と、
(b)粒子寸法を好適な寸法(例えば、上述のようなもの)に縮小するために粉砕媒体を使用して供給酸化物を粉砕し、あるケースでは、200ppm未満を含む上述の低い汚染レベルを維持する工程と
を有している。
(a)不適当な透明度のチタニアのスラリーを得る工程と、
(b)粒子寸法を好適な寸法(例えば、上述の寸法)に縮小するために粉砕媒体を使用してチタニアのスラリーを粉砕し、あるケースでは、上述のような低い汚染レベルを維持する工程と
を有している。あるケースでは、粒子寸法の分布D100は90nm以下となっている。
(a)チタニア供給材料を得る工程であって、供給材料が、容易に入手可能な塩化物処理されたチタニアなどの高純度源に由来する、工程と、
(b)粒子寸法を所望の値(例えば、上述の値、または約200nm未満)に縮小するために粉砕媒体を使用してチタニアを粉砕し、あるケースでは、上述の低い汚染レベルを維持する工程と、
(c)必要に応じて、炭化チタンを形成せずに酸化物の還元に適した条件下でCOまたは炭素などのカーボサーミック還元剤などの別の還元剤と組み合わせて水素などの還元剤を使用してチタニアをチタン金属に化学的に還元する工程と、
(d)超微細チタン金属の酸化または窒化を起こす条件下で酸素または窒素に曝さずに還元設備からチタン金属を取り除くか、または還元設備から取り除く前に粒子の溶着を起こすために超微細チタン金属の温度を上げるかのいずれかの工程
を有している。他の還元剤も当該分野では公知である。
(a)適当な供給材料寸法の工業ダイヤモンドを得る工程と、
(b)粒子寸法を所望の寸法に(例えば、上述の平均粒子寸法に、あるケースでは、約2nmと100nmとの間に)縮小するために粉砕媒体を使用してダイヤモンドを粉砕し、あるケースでは、上述の低い汚染レベルを維持する工程と、
(c)汚染物を除去するために、必要に応じて、汚染物を化学溶解するか、または当該分野で公知の他の方法によって処理ダイヤモンドを浄化する工程と
を有している。
(a)所望の組成の、または目標組成に組成されるように粒子材料を組み合わせた微粒子供給材料を得る工程と、
(b)粒子寸法を所望の寸法に(例えば、上述のような平均粒子寸法に、あるケースでは、約50nmと200nmとの間に)縮小するために粉砕媒体を使用して供給材料を粉砕し、あるケースでは、上述の低い汚染レベルを維持する工程と、
(c)加圧成形、射出成形、凍結成形、電気泳動成形、静電析出および他の公知の方法などの当該分野で公知の方法によって処理粒子を成形物品へと形成する工程であって、本形成方法が独特なMEMSデバイスを創作できるようにするものであり、そのような構造の個別の部分が異なった構成材料を有するようにする、工程と、
(d)そのデバイスの意図した性能に適した特性を有するために十分な密度に成形物品を溶融する工程と
を有している。
(a)大きなセラミック粒子(これら粒子を供給粒子と称している)を得る工程であって、大きな粒子は一般に生成するのに微細セラミック粒子よりも遥かに安価なのである、工程と、
(b)粒子寸法を所望の寸法に(例えば、上述の寸法に)縮小するために粉砕媒体を使用して供給粒子を粉砕し、あるケースでは、上述のような(600ppm未満を含む)低い汚染レベルを維持する工程と
を有している。
(a)所望の組成の粒子状供給材料を得る工程と、
(b)粒子寸法を所望の値に(例えば、200nm未満、50nm未満、または更に10nm未満にも及ぶ上述の値に)縮小するために粉砕媒体を使用して供給材料を粉砕し、あるケースでは、上述のような低い汚染レベルを維持する工程と、
(c)適切なキャリア流体において、粉砕された生成物を集中させる工程であって、このようなキャリア流体は、用途によって特定され、水、油および有機物を含み、該流体における粒子状材料の集中度は、用途によって特定される、工程と
を有している。
(a)大きな粒子は一般には調達が微細粒子よりも遥かに安価なので、大きな(例えば、タングステンまたはモリブデンの)供給粒子を得る工程と、
(b)供給材料の寸法に比例するが窒化を起こすために十分な時間にわたって500℃で解離アンモニア中において加熱するなどの公知の窒化方法によって、供給材料を脆いことが公知の窒化物へと窒化する工程と、
(c)供給粒子の所望粒子寸法への(例えば、上述の平均粒子寸法への)寸法縮小を起こすために、粉砕媒体を使用して窒化された供給粒子を粉砕し、あるケースでは、上述の低い汚染レベルを維持する工程と、
(d)必要に応じて、現在当該分野で公知の方法によってタングステンまたはモリブデンの窒化物粒子を約600℃以上に加熱することで脱窒化を行う工程と
を有している。そのような粒子は、顔料、研摩コンパウンド、電子インキ、金属−有機化合物、重合充填材、センサー、触媒などの用途と、金属−セラミックの製造と構成要素の製造に有用であり、更に他の方法によって入手されるものよりも経済的である。
(a)例えば、400nm未満、100nm未満、または50nm未満の寸法の窒化されたタングステンまたはモリブデンの粉砕された生成物を得る工程と、
(b)タングステンまたはモリブデンの金属成分を圧密化による粉末冶金処理によって生成し、脱窒化に先だって窒化タングステンまたは窒化モリブデンを形成する工程と、
(c)粒子間からの残留ガスの洗浄に寄与する窒素を放出して焼結温度に加熱中に窒化タングステンまたは窒化モリブデンの成分を脱窒化する工程と、
(d)形成された成分を粒子寸法に比例した温度で焼結する工程であって、該温度は、従来の市販されているタングステンとモリブデンの粉末において一般的に使用されている温度よりも実質的に低い工程と
を有している。
(a)大きなコバルト粒子または窒化コバルト粒子(そのような粒子を供給粒子と称している)を入手する工程であって、そのような大きな粒子が一般には気体噴霧され、従って微細なコバルト粒子または窒化コバルト粒子よりも調達が遥かに安価である、工程と、
(b)既に窒化されていなければ、供給材料の寸法に比例しているが、窒化を起こすために十分な時間にわたって600℃で解離アンモニア中においてコバルトを加熱するなどの公知の窒化方法によって、脆いと知られている窒化物に供給材料を窒化する工程と、
(c)供給粒子寸法を所望粒子寸法に(例えば、上述のような平均粒子寸法に)縮小するために、粉砕媒体を使用して窒化された供給粒子を粉砕すると共に、あるケースでは上述の低い汚染レベルを維持する工程と、
(e)必要に応じて、現在当該分野で公知の方法によって約600℃以上に加熱することで窒化コバルトの粒子の脱窒化を行う工程と
を有している。そのような粒子は、触媒、コバルト含有合金体ボディ、組成にコバルトを含有するセラミックボディ、電子インキ、および金属−有機化合物の製造と、顔料、研摩コンパウンド、重合充填材、センサー、触媒、および促進剤の用途と、コバルトを含有する超合金成分の製造と、コバルトがバインダー金属と成っている硬質金属工業に使用するのに役立つと共に、更に他の方法によって入手されるものよりも生成がより経済的である。
(a)300℃から約900℃に加熱されると解離する窒化物を有する金属グループから金属または金属窒化物の大きな粒子(そのような粒子を供給粒子と称している)を得る工程であって、あるケースでは、そのような大きな粒子が気体噴霧を使用して生成され、従って微細な金属粒子または金属窒化物粒子よりも生成が遥かに安価である、工程と、
(b)既に窒化されていなければ、供給材料の寸法に比例しているが、窒化を起こすために十分な時間にわたって窒化を起こすために十分な温度で、解離アンモニア内で金属粒子を加熱するなどの公知の窒化方法によって、延性の金属よりも脆いことが公知の窒化物に供給材料を窒化する工程と、
(c)粒子寸法を好適な寸法に(例えば、上述のような平均粒子寸法に)縮小するために、粉砕媒体を使用して窒化供給粒子を粉砕し、あるケースでは上述の低い汚染レベルを維持する工程と、
(d)必要に応じて、現在当該分野で公知の方法によって約600℃以上に加熱することで金属の窒化物微粒子を脱窒化する工程と
を有している。そのような粒子は、触媒、金属含有の合金体ボディ、組成に金属を含有するセラミックボディ、電子インキ、および金属−有機化合物の製造と、顔料、研摩コンパウンド、重合充填材、センサー、触媒、および促進剤の用途と、超合金成分の製造と、この請求によって処理された色々な金属を結合する金属成分の製造と、金属がバインダー金属と成っている硬質金属工業での使用とに役立ち、更に他の方法によって入手されるものよりも生成がより経済的である。
(a)加熱されると解離する水素化物を形成する金属グループから金属水素化物の大きな粒子(そのような粒子を供給粒子と称している)を入手する工程であって、そのような大きな粒子は一般には加圧水素化されて、従って微細な金属粒子または金属水素化物よりも調達が遥かに安価である、工程と、
(b)粒子寸法を好適な寸法に(例えば、上述のような平均粒子寸法に)縮小するために、粉砕媒体を使用して水素化された供給粒子を粉砕し、あるケースでは上述の低い汚染レベルを維持する工程と、
(c)必要に応じて、現在当該分野で公知の方法によって脱水素化温度に加熱することで超微細な金属水素化物微粒子を脱水素化する工程と
を有している。そのような粒子は、触媒、金属を含有する合金体ボディ、組成に金属を含有するセラミックボディ、電子インキ、および金属−有機化合物の製造と、顔料、研摩コンパウンド、重合充填材、センサー、触媒、および促進剤の用途と、超合金成分の製造と、このクレームによって処理された色々な金属を結合する金属成分の製造と、金属がバインダー金属となっている硬質金属工業での使用とに有用であり、更に他の方法によって入手されるものよりもより経済的である。
本実施例は、本発明の一実施形態に係るマルチ炭化物の粉砕媒体の製造と特性決定について説明する。
本実施例は、本発明の粉砕媒体組成物を使用した小さな粒子のチタニア組成物の生産について説明する。
Claims (4)
- セラミック材から形成された粉砕媒体粒子を含み、該セラミック材が1250nm未満の層間間隔を有する、粉砕媒体。
- 前記層間間隔は100nm未満である、請求項1記載の粉砕媒体。
- 前記層間間隔は10nm未満である、請求項1記載の粉砕媒体。
- 前記粉砕媒体粒子は、約150マイクロメートル未満の平均寸法の断面直径を有する、請求項1記載の粉砕媒体。
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