JP5057409B2 - Flux transfer device - Google Patents

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Description

本発明は、転写テーブル上のフラックスを均一に押し広げてフラックス膜を形成するフラックス転写装置に関する発明である。   The present invention relates to a flux transfer apparatus that uniformly spreads a flux on a transfer table to form a flux film.

電子部品実装機を使用して電子部品のバンプや端子を回路基板に半田付けする場合、半田の濡れ性等を良くするために、例えば、特許文献1(特開2001−85830号公報)に示すように、電子部品実装機に小型のフラックス転写装置をセットして、予め電子部品のバンプや端子にフラックスを転写してから、半田付けすることがある。   When soldering the bumps and terminals of an electronic component to a circuit board using an electronic component mounting machine, for example, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-85830) shows an example in order to improve solder wettability. As described above, there is a case where a small flux transfer device is set in the electronic component mounting machine, the flux is transferred to the bumps and terminals of the electronic component in advance, and then soldered.

この種のフラックス転写装置は、フラックスを貯留した皿状の回転テーブル(転写テーブル)を回転させることで、その上方に配置されたスキージによって回転テーブル上のフラックスを均一に押し広げてフラックス膜を形成し、該回転テーブルの回転を停止させて、電子部品実装機の吸着ノズルに吸着した電子部品のバンプや端子を回転テーブル上のフラックス膜に浸すことで、電子部品のバンプや端子にフラックスを転写するようにしている。   This type of flux transfer device rotates a plate-shaped rotary table (transfer table) that stores flux, and forms a flux film by uniformly spreading the flux on the rotary table with a squeegee placed above it. Then, the rotation of the rotary table is stopped, and the bumps and terminals of the electronic components adsorbed by the suction nozzle of the electronic component mounting machine are immersed in the flux film on the rotary table, thereby transferring the flux to the bumps and terminals of the electronic components. Like to do.

また、特許文献2(特開平10−76210号公報)には、転写テーブル上のフラックスの残量を検出する残量センサとして、透過型の光電センサ、レーザーセンサを用いることが記載されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-76210 discloses that a transmissive photoelectric sensor and a laser sensor are used as a remaining amount sensor for detecting the remaining amount of flux on the transfer table.

特開2001−85830号公報(第3頁〜第4頁等)JP 2001-85830 A (pages 3 to 4 etc.) 特開平10−76210号公報(第3頁〜第4頁等)Japanese Patent Laid-Open No. 10-76210 (pages 3 to 4 etc.)

しかし、転写テーブル上のフラックスの残量を残量センサで検出する場合、フラックスが検出しにくい透明な粘性流体であるため、検出しにくいという問題があった。   However, when the remaining amount of flux on the transfer table is detected by the remaining amount sensor, there is a problem that it is difficult to detect because the flux is a transparent viscous fluid that is difficult to detect.

上記目的を達成するために、請求項1に係る発明は、転写テーブル上にフラックスを供給し、その上方に配置されたスキージによって前記転写テーブル上のフラックスを均一に押し広げてフラックス膜を形成し、このフラックス膜に転写対象物を浸すことで、この転写対象物にフラックスを転写するフラックス転写装置において、前記転写テーブルに貯留されているフラックスの残量を監視するための残量センサを備え、前記残量センサは、前記スキージング動作中に前記スキージで掻き取られるフラックスの盛り上がり部分に向けてその上方から投光して反射光を検出する反射型の光センサにより構成されていることを特徴とするものである。本発明のように、スキージング動作中にスキージで掻き取られるフラックスの盛り上がり部分に向けてその上方から投光すると、その投光領域のフラックスの盛り上がりが少なくなるほど、当該投光領域のフラックス表面が平坦面に近付いていくため、当該投光領域のフラックス表面での光の乱反射や屈折が少なくなり、反射型の光センサで受光する反射光量が増加する。従って、反射型の光センサで受光する反射光量が予め設定したレベルを越えたときに当該光センサがこれを検出するように構成すれば、フラックスが検出しにくい透明な粘性流体であるという事情があっても、スキージで掻き取られるフラックスの盛り上がりの不足(フラックスの残量不足)を精度良く検出することができる。   In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is to supply a flux onto the transfer table and form a flux film by uniformly spreading the flux on the transfer table with a squeegee arranged above the transfer table. In the flux transfer apparatus for transferring the flux to the transfer object by immersing the transfer object in the flux film, the residual amount sensor for monitoring the remaining amount of the flux stored in the transfer table is provided. The remaining amount sensor is constituted by a reflection type optical sensor that detects reflected light by projecting light from above toward a rising portion of the flux scraped by the squeegee during the squeegeeing operation. It is what. As in the present invention, when light is projected from above toward the swelled portion of the flux scraped by the squeegee during the squeegeeing operation, the less the bulge of the flux in the flooded region, the more the flux surface of the flooded region Since it approaches the flat surface, light irregular reflection and refraction at the flux surface in the light projecting area are reduced, and the amount of reflected light received by the reflective photosensor increases. Therefore, if the reflected light quantity received by the reflective optical sensor exceeds a preset level, the optical sensor detects this, so that the flux is a transparent viscous fluid that is difficult to detect. Even in such a case, it is possible to accurately detect the lack of swell of the flux scraped off by the squeegee (insufficient amount of remaining flux).

この場合、請求項2のように、転写テーブル上にフラックスを供給するフラックス供給手段と、残量センサの出力信号に基づいてフラックスの残量が不足すると判断されるときに前記フラックス供給手段を作動させて前記転写テーブル上にフラックスを補給する制御手段とを備えた構成とすると良い。このようにすれば、転写テーブルに貯留されているフラックスの残量不足が検出される毎に、その都度、転写テーブル上にフラックスを自動的に補給することができ、フラックス不足による半田付け不良の発生を未然に防止できて、半田付けの品質・信頼性を向上できる。   In this case, the flux supply means for supplying the flux onto the transfer table and the flux supply means are operated when it is determined that the remaining amount of flux is insufficient based on the output signal of the remaining amount sensor. It is preferable to provide a control means for supplying flux onto the transfer table. In this way, each time a shortage of the flux remaining in the transfer table is detected, the flux can be automatically replenished on the transfer table, and soldering failure due to the lack of flux can be prevented. Occurrence can be prevented and soldering quality and reliability can be improved.

この場合、スキージで掻き取られるフラックスの掻き取り量が少なくなり過ぎると、バンプ等の転写対象物の浸漬により生じたフラックス膜表面の凹凸を均一な平面に均すことができなくなり、バンプ等の転写対象物に均一にフラックスを転写できなくなる。   In this case, if the amount of flux scraped off by the squeegee becomes too small, the unevenness on the surface of the flux film caused by the immersion of the transfer object such as the bump cannot be leveled, and the bump or the like The flux cannot be uniformly transferred to the transfer object.

この点を考慮して、請求項3のように、フラックス膜を形成するスキージング動作中に残量センサの出力信号に基づいてスキージで掻き取られるフラックスの掻き取り量を検出してフラックスの残量を監視するようすると良い。このようにすれば、スキージング動作中にフラックスの残量不足を精度良く検出することができる。   Considering this point, the amount of flux scraped off by detecting the amount of flux scraped off by the squeegee based on the output signal of the remaining amount sensor during the squeezing operation for forming the flux film as in claim 3 It is better to monitor the amount. In this way, it is possible to accurately detect the shortage of the remaining amount of flux during the squeezing operation.

一般に、スキージは、フラックスを掻き取るエッジ部分の形状が直線状に形成されている。本発明は、このような直線エッジ形状のスキージを用いても良いが、回転する転写テーブル上のフラックスを直線エッジ形状のスキージで押し広げると、フラックスがスキージのエッジの中央側からその両端側に向けて流動する傾向があるため、スキージの中央側のフラックスが相対的に少なくなる傾向がある。このため、回転する転写テーブル上のフラックスの残量が少なくなると、スキージの中央側で局所的にフラックスが不足してフラックス膜表面を均一な平面に均すことができなくなる可能性がある。   In general, the squeegee has a linear shape at the edge where the flux is scraped off. The present invention may use such a squeegee having a straight edge shape. However, if the flux on the rotating transfer table is spread with a squeegee having a straight edge shape, the flux is shifted from the center side of the edge of the squeegee to both ends thereof. Since there is a tendency to flow toward, the flux on the center side of the squeegee tends to be relatively small. For this reason, if the remaining amount of the flux on the rotating transfer table decreases, there is a possibility that the flux is locally insufficient at the center side of the squeegee and the surface of the flux film cannot be leveled.

この対策として、転写テーブルを回転させてスキージングする回転方式のものでは、請求項4のように、スキージのエッジ部分の形状をその中央側が転写テーブルの回転方向に湾曲する円弧状に形成すると良い。このようにすれば、回転する転写テーブル上のフラックスをスキージで押し広げる際に、フラックスがスキージのエッジの中央側からその両端側に向けて流動することをスキージのエッジ部分の湾曲形状によって防止することができ、スキージの中央側で局所的にフラックスが不足した状態になることを防止できる。   As a countermeasure against this, in the rotation type in which the squeegee is rotated by rotating the transfer table, the shape of the edge portion of the squeegee is preferably formed in an arc shape whose center side is curved in the rotation direction of the transfer table. . In this way, when the flux on the rotating transfer table is spread with the squeegee, the curved shape of the edge portion of the squeegee prevents the flux from flowing from the center side of the edge of the squeegee toward both ends thereof. It is possible to prevent the flux from being locally insufficient on the center side of the squeegee.

尚、転写テーブルを固定してスキージを水平方向に直線移動させたり、或はスキージを固定して転写テーブルを水平方向に直線移動させる直動方式のものでは、直線エッジ形状のスキージを用いれば良い。   In the case of the linear motion type in which the transfer table is fixed and the squeegee is moved linearly in the horizontal direction, or the transfer table is moved linearly in the horizontal direction by fixing the squeegee, a linear edge squeegee may be used. .

また、請求項5のように、フラックス供給手段は、フラックスを貯留するタンクと、このタンク内に空気を供給して該タンクの吐出ノズルからフラックスを空気圧で前記転写テーブル上に押し出す空気供給源とを備え、フラックス供給停止中に、前記吐出ノズル内の残留フラックスが前記タンク内に逆流しないように前記タンク内圧を大気圧よりも少し高い圧力に維持するように構成すると良い。   According to a fifth aspect of the present invention, the flux supply means includes a tank that stores the flux, an air supply source that supplies air into the tank and pushes the flux from the discharge nozzle of the tank onto the transfer table by air pressure. It is preferable that the tank internal pressure be maintained at a pressure slightly higher than the atmospheric pressure so that the residual flux in the discharge nozzle does not flow back into the tank when the flux supply is stopped.

本発明者らの研究結果によれば、フラックス供給停止中にタンク内圧が大気圧と同一になっていると、吐出ノズル内の残留フラックスが表面張力等によってタンク内に逆流する現象が発生することが判明した。この逆流現象が発生すると、タンク内に空気を供給してタンクの吐出ノズルからフラックスを空気圧で転写テーブル上に押し出す際に、フラックスの押し出し量がばらついてしまい、転写テーブルへのフラックスの補給量が安定しない。   According to the research results of the present inventors, when the tank internal pressure is the same as the atmospheric pressure while the flux supply is stopped, the phenomenon that the residual flux in the discharge nozzle flows back into the tank due to surface tension or the like occurs. There was found. When this reverse flow phenomenon occurs, when the air is supplied into the tank and the flux is pushed out onto the transfer table by air pressure from the discharge nozzle of the tank, the amount of flux extrusion varies, and the amount of flux replenished to the transfer table is reduced. Not stable.

この対策として、請求項5のように、フラックス供給停止中にタンク内圧を大気圧よりも少し高い圧力に維持するようにすれば、フラックス供給停止中に吐出ノズル内の残留フラックスがタンク内に逆流することを防止でき、転写テーブルへのフラックスの補給量を安定させることができる。   As a countermeasure against this, if the tank internal pressure is maintained at a pressure slightly higher than the atmospheric pressure while the flux supply is stopped, the residual flux in the discharge nozzle flows back into the tank while the flux supply is stopped. And the amount of flux replenished to the transfer table can be stabilized.

本発明の一実施例におけるフラックス転写装置本体を電子部品実装機内のセット位置にセットした状態を示す主要部の縦断側面図である。It is a vertical side view of the principal part which shows the state which set the flux transfer apparatus main body in one Example of this invention in the set position in an electronic component mounting machine. フラックス転写装置本体を電子部品実装機内のセット位置にセットした状態を示す主要部の一部破断側面図である。It is a partial fracture side view of the principal part which shows the state which set the flux transcription | transfer apparatus main body to the setting position in an electronic component mounting machine. フラックス転写装置を電子部品実装機内に取り付ける直前の状態を示す主要部の一部破断側面図である。It is a partially broken side view of the principal part which shows the state just before attaching a flux transfer apparatus in an electronic component mounting machine. フラックス転写装置本体を電子部品実装機の外側の引き出し位置に引き出した状態を示す主要部の縦断側面図である。It is a vertical side view of the principal part which shows the state which pulled out the flux transfer apparatus main body to the drawer position of the outer side of an electronic component mounting machine. フラックス転写装置本体の平面図である。It is a top view of a flux transfer device main body. フラックスの残量不足検出方法を説明する図である(フラックスの残量が不足していないときの図である)。It is a figure explaining the residual amount shortage detection method of a flux (It is a figure when the residual amount of flux is not short). フラックスの残量不足検出方法を説明する図である(フラックスの残量が不足しているときの図である)。It is a figure explaining the residual amount shortage detection method of a flux (it is a figure when the residual amount of flux is insufficient). フラックス供給装置の構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of a flux supply apparatus. フラックス供給装置の動作とタンク内圧の変化を説明するタイムチャートである。It is a time chart explaining the operation | movement of a flux supply apparatus, and the change of a tank internal pressure.

以下、本発明を実施するための形態を具体化した一実施例を図面を参照して説明する。 フラックス転写装置10は、電子部品実装機20の装着部11に装着される取付ベース12と、この取付ベース12上に搭載されたフラックス転写装置本体14とを備え、フラックス転写装置本体14は、取付ベース12の上面に設けられた2本のガイドレール13に沿って電子部品実装機20の内側のセット位置(図1の位置)と外側の引き出し位置(図4の位置)との間をスライド移動できるように構成されている。   DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment embodying a mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. The flux transfer device 10 includes a mounting base 12 mounted on the mounting portion 11 of the electronic component mounting machine 20 and a flux transfer device main body 14 mounted on the mounting base 12. The flux transfer device main body 14 is mounted on the mounting base 12. Slide movement between an inner set position (position in FIG. 1) and an outer drawing position (position in FIG. 4) of the electronic component mounting machine 20 along two guide rails 13 provided on the upper surface of the base 12 It is configured to be able to.

電子部品実装機20の装着部11は、電子部品供給装置(フィーダ)の装着部としても使用できるように装着構造が共通化されている。これを具体的に説明すると、装着部11の底面には、フラックス転写装置10の着脱方向に延びる装着ガイド溝15が形成され、フラックス転写装置10の取付ベース12の下面に設けられた凸条部16が装着ガイド溝15に嵌まり込んだ状態となっている。   The mounting part 11 of the electronic component mounting machine 20 has a common mounting structure so that it can also be used as a mounting part of an electronic component supply device (feeder). More specifically, a mounting guide groove 15 extending in the attaching / detaching direction of the flux transfer device 10 is formed on the bottom surface of the mounting portion 11, and a ridge portion provided on the lower surface of the mounting base 12 of the flux transfer device 10. 16 is fitted in the mounting guide groove 15.

取付ベース12の先端部(前進端部)には、立上がりプレート17が垂直に立設され、この立上がりプレート17には、フラックス転写装置本体14に対するストッパ18が設けられ、作業者がフラックス転写装置本体14を電子部品実装機20の内側のセット位置に押し込むときに、フラックス転写装置本体14のベースプレート19がストッパ18に当接することで、フラックス転写装置本体14がセット位置で停止されるようになっている。   A rising plate 17 is erected vertically at the front end portion (advance end portion) of the mounting base 12, and a stopper 18 for the flux transfer device main body 14 is provided on the rising plate 17, so that the operator can operate the flux transfer device main body. When the base plate 19 of the flux transfer device main body 14 comes into contact with the stopper 18 when the 14 is pushed into the set position inside the electronic component mounting machine 20, the flux transfer device main body 14 is stopped at the set position. Yes.

また、取付ベース12の立上がりプレート17には、フラックス転写装置10の信号線・電源線を装着部11側のコネクタ21に接続するためのコネクタ22と、取付ベース12を装着部11側に係合固定するための係合ピン23,24(図3参照)が設けられ、この係合ピン23,24が装着部11の奥壁部の係合穴25,26(図3参照)に差し込まれることで、取付ベース12が装着部11側に係合固定される。図2及び図3に示すように、取付ベース12には、ロック部材27がスプリング28によって下方に付勢された状態で上下動可能に取り付けられている。   Further, the rising plate 17 of the mounting base 12 is engaged with the connector 22 for connecting the signal line / power line of the flux transfer device 10 to the connector 21 on the mounting portion 11 side, and the mounting base 12 on the mounting portion 11 side. Engagement pins 23 and 24 (see FIG. 3) for fixing are provided, and the engagement pins 23 and 24 are inserted into engagement holes 25 and 26 (see FIG. 3) in the back wall portion of the mounting portion 11. Thus, the mounting base 12 is engaged and fixed to the mounting portion 11 side. As shown in FIGS. 2 and 3, a lock member 27 is attached to the attachment base 12 so as to be movable up and down while being biased downward by a spring 28.

取付ベース12を装着部11に装着する場合は、図2に示すように、立上がりプレート17が装着部11の奥壁部に当接するまで取付ベース12を装着部11に押し込むと、ロック部材27が装着部11のロック穴29に嵌まり込んだ状態となる。これにより、取付ベース12が装着部11に装着された状態でロックされると共に、立上がりプレート17の係合ピン23,24が装着部11の奥壁部の係合穴25,26に差し込まれ、且つ、フラックス転写装置10側のコネクタ22が装着部11側のコネクタ21に接続された状態となる。フラックス転写装置本体14の信号線・電源線は、ケーブルベアリング42によって取付ベース12側に配線され、コネクタ22に接続されている。   When the mounting base 12 is mounted on the mounting portion 11, as shown in FIG. 2, when the mounting base 12 is pushed into the mounting portion 11 until the rising plate 17 comes into contact with the back wall portion of the mounting portion 11, the lock member 27 is moved. It will be in the state where it fitted in the lock hole 29 of the mounting part 11. As a result, the mounting base 12 is locked in a state of being mounted on the mounting portion 11, and the engaging pins 23 and 24 of the rising plate 17 are inserted into the engaging holes 25 and 26 in the rear wall portion of the mounting portion 11, In addition, the connector 22 on the flux transfer device 10 side is connected to the connector 21 on the mounting portion 11 side. The signal line and the power line of the flux transfer device main body 14 are wired to the mounting base 12 side by a cable bearing 42 and connected to the connector 22.

取付ベース12のうちの装着部11の外側に位置する部分には、ロック解除レバー31が設けられ、このロック解除レバー31とロック部材27との間がワイヤ32(図2及び図3参照)によって連結されている。このロック解除レバー31は、ねじりコイルばね(図示せず)によってロック方向(図2の反時計回り方向)に回動付勢されている。取付ベース12を装着部11から取り外す場合は、ロック解除レバー31をロック解除方向(図2の時計回り方向)に回動操作することで、ロック部材27をスプリング28の付勢力に抗してロック穴29から引き上げてロック解除できるようになっている。   A portion of the mounting base 12 positioned outside the mounting portion 11 is provided with a lock release lever 31, and a wire 32 (see FIGS. 2 and 3) is provided between the lock release lever 31 and the lock member 27. It is connected. The lock release lever 31 is urged to rotate in the lock direction (counterclockwise direction in FIG. 2) by a torsion coil spring (not shown). When the mounting base 12 is removed from the mounting portion 11, the lock member 27 is locked against the urging force of the spring 28 by rotating the lock release lever 31 in the lock release direction (clockwise direction in FIG. 2). It can be lifted from the hole 29 to be unlocked.

また、図2及び図3に示すように、ロック部材27の近傍には、ロック/ロック解除を検出する第2の安全スイッチ33が設けられている。この場合、取付ベース12が装着部11に装着されて第2のロック部材27がロック穴29に嵌まり込んだ状態(ロック状態)となっているときに、第2のロック部材27によって第2の安全スイッチ33がオン状態に維持されてフラックス転写装置本体14の運転が許可されるようになっている。そして、取付ベース12を装着部11から取り外す際に、ロック解除レバー31の回動操作により第2のロック部材27をロック穴29から引き上げてロック解除すると、第2の安全スイッチ33がオフ状態に切り替わってフラックス転写装置本体14の運転が禁止されるようになっている。   As shown in FIGS. 2 and 3, a second safety switch 33 for detecting lock / unlock is provided in the vicinity of the lock member 27. In this case, when the mounting base 12 is mounted on the mounting portion 11 and the second lock member 27 is fitted in the lock hole 29 (locked state), the second lock member 27 causes the second lock member 27 to The safety switch 33 is maintained in the ON state, and the operation of the flux transfer device main body 14 is permitted. Then, when the mounting base 12 is removed from the mounting portion 11, when the second lock member 27 is lifted from the lock hole 29 by the rotation operation of the lock release lever 31 and unlocked, the second safety switch 33 is turned off. As a result, the operation of the flux transfer device main body 14 is prohibited.

次に、取付ベース12上にスライド移動可能に支持されたフラックス転写装置本体14の構成を説明する。
図1及び図4に示すように、フラックス転写装置本体14には、第1のロック部材34(ロック手段)がスプリング35によって下方に付勢された状態で上下動可能に取り付けられ、この第1のロック部材34が取付ベース12に形成されたロック穴36,37に嵌まり込むことで、当該フラックス転写装置本体14が電子部品実装機20の内側のセット位置(図1の位置)と外側の引き出し位置(図4の位置)でそれぞれロックされるようになっている。
Next, the configuration of the flux transfer apparatus main body 14 supported on the mounting base 12 so as to be slidable will be described.
As shown in FIGS. 1 and 4, a first lock member 34 (lock means) is attached to the flux transfer apparatus main body 14 so as to be movable up and down while being biased downward by a spring 35. The lock member 34 is fitted into the lock holes 36 and 37 formed in the mounting base 12, so that the flux transfer device main body 14 is set to the inner set position (position in FIG. 1) and the outer side of the electronic component mounting machine 20. Each is locked at the drawer position (position in FIG. 4).

このフラックス転写装置本体14には、ロック解除ハンドル38がハンドル支持フレーム39にスライド操作可能に設けられ、このロック解除ハンドル38と第1のロック部材34との間がワイヤ40によって連結されている。このロック解除ハンドル38は、スプリング48によってロック方向(フラックス転写装置本体14をセット位置へ押し込む方向)に付勢されている。このロック解除ハンドル38は、フラックス転写装置本体14をスライド移動させる際に作業者が握る把手を兼用し、電子部品実装機20の外側に位置するように配置されている。   In the flux transfer apparatus main body 14, a lock release handle 38 is slidably provided on a handle support frame 39, and the lock release handle 38 and the first lock member 34 are connected by a wire 40. The lock release handle 38 is urged by a spring 48 in a locking direction (a direction in which the flux transfer device main body 14 is pushed into the set position). The lock release handle 38 also serves as a handle gripped by an operator when the flux transfer device main body 14 is slid, and is disposed so as to be located outside the electronic component mounting machine 20.

フラックス転写装置本体14をセット位置と引き出し位置との間でスライド移動させる場合は、ロック解除ハンドル38をロック解除方向(上記ロック方向とは反対方向)に引き操作することで、第1のロック部材34をスプリング35の付勢力に抗してロック穴36,37から引き上げてロック解除できるようになっている。   When the flux transfer device main body 14 is slid between the set position and the drawer position, the first lock member is operated by pulling the lock release handle 38 in the lock release direction (the direction opposite to the lock direction). The lock 34 can be lifted from the lock holes 36 and 37 against the urging force of the spring 35 to be unlocked.

また、第1のロック部材34の近傍には、ロック/ロック解除を検出する第1の安全スイッチ41が設けられている。この場合、フラックス転写装置本体14がセット位置(又は引き出し位置)にセットされて第1のロック部材34がロック穴36(又は37)に嵌まり込んだロック状態となっているときに、第1のロック部材34によって第1の安全スイッチ41がオン状態に維持されてフラックス転写装置本体14の運転が許可されるようになっている。そして、フラックス転写装置本体14をセット位置と引き出し位置との間でスライド移動させる際に、ロック解除ハンドル38の引き操作により第1のロック部材34をロック穴36,37から引き上げてロック解除すると、第1の安全スイッチ41がオフ状態に切り替わってフラックス転写装置本体14の運転が禁止されるようになっている。   Further, a first safety switch 41 for detecting lock / unlock is provided in the vicinity of the first lock member 34. In this case, when the flux transfer device main body 14 is set at the set position (or the drawing position) and the first lock member 34 is in the locked state fitted in the lock hole 36 (or 37), the first The first safety switch 41 is maintained in the ON state by the lock member 34 so that the operation of the flux transfer device main body 14 is permitted. When the flux transfer device main body 14 is slid between the set position and the drawer position, when the first lock member 34 is lifted from the lock holes 36 and 37 by the pull operation of the lock release handle 38, the lock is released. The first safety switch 41 is switched to the OFF state, and the operation of the flux transfer device main body 14 is prohibited.

更に、図1及び図4に示すように、フラックス転写装置本体14がセット位置にセットされていることを検出する手段として、透過型のフォトインタラプタ等の光電スイッチ42が取付ベース12の立上がりプレート17の近傍に設けられ、フラックス転写装置本体14がセット位置にセットされることで、フラックス転写装置本体14の前進端に設けられた検出突起43が光電スイッチ42の発光素子と受光素子との間の光路を遮断して、光電スイッチ42がオフされるようになっている。   Further, as shown in FIGS. 1 and 4, as means for detecting that the flux transfer apparatus main body 14 is set at the set position, a photoelectric switch 42 such as a transmissive photo interrupter is provided on the rising plate 17 of the mounting base 12. , And the flux transfer device main body 14 is set at the set position, so that the detection protrusion 43 provided at the forward end of the flux transfer device main body 14 is located between the light emitting element and the light receiving element of the photoelectric switch 42. The optical path is blocked and the photoelectric switch 42 is turned off.

この場合、光電スイッチ42がオフ状態(検出突起43を検出した状態)で、且つ、第1の安全スイッチ41がオン状態(第1のロック部材34がロック状態)になっているときに、フラックス転写装置本体14がセット位置にセットされていると判断して、フラックス転写装置本体14の自動運転が許可され、一方、光電スイッチ42がオン状態(検出突起43を検出しない状態)で、且つ、第1の安全スイッチ41がオン状態(第1のロック部材34がロック状態)になっているときに、フラックス転写装置本体14が引き出し位置にセットされていると判断して、フラックス転写装置本体14のマニュアル運転が許可されるようになっている。   In this case, when the photoelectric switch 42 is in the off state (the state where the detection protrusion 43 is detected) and the first safety switch 41 is in the on state (the first lock member 34 is in the locked state), the flux It is determined that the transfer device main body 14 is set at the set position, and automatic operation of the flux transfer device main body 14 is permitted. On the other hand, the photoelectric switch 42 is in an ON state (a state where the detection protrusion 43 is not detected), and When the first safety switch 41 is in the on state (the first lock member 34 is in the locked state), it is determined that the flux transfer device main body 14 is set at the pull-out position, and the flux transfer device main body 14 Manual operation is permitted.

一方、フラックス転写装置本体14のベースプレート19には、鉄系材料等の磁性材料で形成された皿状の回転テーブル50(転写テーブル)を載せる回転台51が設けられ、この回転台51の上面に設けられた磁石52によって回転テーブル50が着脱可能に吸着保持されるようになっている。そして、回転台51の回転軸53の上端部が回転台51の上面よりも少しだけ上方に突出し、この回転軸53の上端部に回転テーブル50の下面中心部に形成した嵌合穴55を嵌め込むことで、回転テーブル50の中心を回転台51の回転中心に一致させ、更に、回転台51の上面の偏心位置に上向きに設けた回り止めピン54に回転テーブル50下面の偏心位置に設けた回り止め穴56を嵌め込むことで、回転テーブル50を回転台51に対して回り止めして両者を一体的に回転させるようにしている。   On the other hand, the base plate 19 of the flux transfer apparatus main body 14 is provided with a turntable 51 on which a dish-like turntable 50 (transfer table) made of a magnetic material such as an iron-based material is placed. The rotary table 50 is detachably attracted and held by the provided magnet 52. Then, the upper end portion of the rotary shaft 53 of the turntable 51 protrudes slightly above the upper surface of the turntable 51, and a fitting hole 55 formed at the center of the lower surface of the turntable 50 is fitted into the upper end portion of the turntable 53. As a result, the center of the turntable 50 is made to coincide with the center of rotation of the turntable 51, and further, the detent pin 54 provided upward at the eccentric position on the upper surface of the turntable 51 is provided at the eccentric position on the lower surface of the turntable 50. By fitting the rotation-preventing hole 56, the rotation table 50 is prevented from rotating with respect to the turntable 51, and both are rotated together.

また、ベースプレート19には、回転テーブル50の駆動源となるモータ57が下向きに設けられ、このモータ57の回転軸に嵌着されたプーリ58と回転台51の回転軸53の下端部に嵌着されたプーリ59との間にベルト60が掛け渡されている。これにより、モータ57の回転力が回転台51の回転軸53に伝達されて回転台51が回転駆動され、これと一体的に回転テーブル50が回転するようになっている。   Further, the base plate 19 is provided with a motor 57 serving as a drive source for the rotary table 50 facing downward, and is fitted to a pulley 58 fitted to the rotation shaft of the motor 57 and a lower end portion of the rotation shaft 53 of the turntable 51. A belt 60 is stretched between the pulley 59. Thereby, the rotational force of the motor 57 is transmitted to the rotation shaft 53 of the turntable 51, the turntable 51 is rotated, and the turntable 50 is rotated integrally therewith.

図5乃至図7に示すように、回転テーブル50の上方には、その半径とほぼ同じ長さのスキージ61が回転テーブル50の半径方向に沿って配置され、回転テーブル50を回転させることで、回転テーブル50上のフラックスをスキージ61によって均一に押し広げてフラックス膜を形成するようになっている。このフラックス膜の膜厚を調整できるようにするために、スキージ61の高さ位置を調整する高さ調整機構64が設けられ、この高さ調整機構64によるスキージ61の高さ位置の調整によってスキージ61と回転テーブル50の底面との間のギャップを調整できるようになっている。このスキージ61は、高さ調整機構64に着脱可能に取り付けられている。   As shown in FIGS. 5 to 7, a squeegee 61 having a length substantially the same as the radius is arranged above the turntable 50 along the radial direction of the turntable 50, and by rotating the turntable 50, The flux on the rotary table 50 is uniformly spread by a squeegee 61 to form a flux film. In order to be able to adjust the film thickness of the flux film, a height adjusting mechanism 64 for adjusting the height position of the squeegee 61 is provided, and the squeegee 61 is adjusted by adjusting the height position of the squeegee 61 by the height adjusting mechanism 64. The gap between 61 and the bottom surface of the rotary table 50 can be adjusted. The squeegee 61 is detachably attached to the height adjustment mechanism 64.

このスキージ61は、フラックスを掻き取るエッジ61aの形状が直線状に形成されているものを用いても良いが、このような直線エッジ形状のスキージ61で回転テーブル50上のフラックスを押し広げると、フラックスがスキージ61のエッジ61aの中央側からその両端側に向けて流動する傾向があるため、スキージ61の中央側のフラックスが相対的に少なくなる傾向がある。このため、回転テーブル50上のフラックスの残量が少なくなると、スキージ61の中央側で局所的にフラックスが不足してフラックス膜表面を均一な平面に均すことができなくなる可能性がある。   The squeegee 61 may be one in which the shape of the edge 61a for scraping off the flux is formed in a straight line shape. However, when the flux on the rotary table 50 is spread with the squeegee 61 having such a straight edge shape, Since the flux tends to flow from the center side of the edge 61a of the squeegee 61 toward both ends thereof, the flux on the center side of the squeegee 61 tends to be relatively reduced. For this reason, when the remaining amount of the flux on the rotary table 50 decreases, there is a possibility that the flux is locally insufficient on the center side of the squeegee 61 and the surface of the flux film cannot be leveled.

この対策として、本実施例では、スキージ61のフラックスを掻き取るエッジ61aの形状がその中央側が回転テーブル50の回転方向に湾曲する円弧状に形成されている(図5参照)。このようにすれば、回転テーブル50上のフラックスをスキージ61で押し広げる際に、フラックスがスキージ61のエッジ61aの中央側からその両端側に向けて流動することをスキージ61のエッジ61a部分の湾曲形状によって防止することができ、スキージ61の中央側で局所的にフラックスが不足した状態になることを防止できる。   As a countermeasure, in this embodiment, the shape of the edge 61a for scraping off the flux of the squeegee 61 is formed in an arc shape in which the center side is curved in the rotation direction of the rotary table 50 (see FIG. 5). In this way, when the flux on the rotary table 50 is spread by the squeegee 61, the fact that the flux flows from the center side of the edge 61a of the squeegee 61 toward both ends thereof is curved at the edge 61a portion of the squeegee 61. This can be prevented by the shape, and it can be prevented that the flux is locally insufficient on the center side of the squeegee 61.

更に、図6及び図7に示すように、スキージ61のエッジ61a側のフラックス掻き取り面61bが斜め下方を向くように傾斜面に形成され、このスキージ61のフラックス掻き取り面61bによってフラックスを下方に押さえ付けながら掻き取るようにしている。このようにすれば、電子部品78のバンプや端子にフラックスを転写した後に、フラックス膜に残る転写跡をスキージ61によって迅速に均すことができる。   Further, as shown in FIGS. 6 and 7, a flux scraping surface 61b on the edge 61a side of the squeegee 61 is formed on an inclined surface so as to face obliquely downward, and the flux is scraped downward by the flux scraping surface 61b of the squeegee 61. Scraping while pressing down. In this way, after the flux is transferred to the bumps and terminals of the electronic component 78, the transfer marks remaining on the flux film can be quickly leveled by the squeegee 61.

このスキージ61の近傍には、回転テーブル50に貯留されているフラックスの残量を監視するための残量センサ62が配置されている。この残量センサ62は、スキージ61で掻き取られるフラックスの盛り上がり部分の上方に配置された投光素子62aと受光素子62bとから成る反射型の光センサ62により構成され、回転テーブル50の回転中にスキージ61で掻き取られるフラックスの盛り上がり部分に向けて投光素子62aから投光して反射光を受光素子62bで検出するようになっている。   In the vicinity of the squeegee 61, a remaining amount sensor 62 for monitoring the remaining amount of flux stored in the rotary table 50 is disposed. The remaining amount sensor 62 includes a reflection type optical sensor 62 including a light projecting element 62 a and a light receiving element 62 b disposed above a rising portion of the flux scraped off by the squeegee 61, and the rotating table 50 is rotating. Further, light is projected from the light projecting element 62a toward the rising portion of the flux scraped off by the squeegee 61, and the reflected light is detected by the light receiving element 62b.

このように、回転テーブル50の回転中にスキージ61で掻き取られるフラックスの盛り上がり部分に向けてその上方から投光すると、その投光領域のフラックスの盛り上がりが少なくなるほど、当該投光領域のフラックス表面が平坦面に近付いていくため、当該投光領域のフラックス表面での光の乱反射や屈折が少なくなり、反射型の光センサ54で受光する反射光量(主として回転テーブル50の底面からの反射光量)が増加する。この特性を考慮して、反射型の光センサ62の受光素子62bで受光する反射光量が予め設定したレベルを越えたときに当該光センサ62がこれを検出するように構成されている。このようにすれば、フラックスが検出しにくい透明な粘性流体であるという事情があっても、スキージ61で掻き取られるフラックスの盛り上がりの不足(フラックスの残量不足)を精度良く検出することができる。   As described above, when light is projected from above toward the swelled portion of the flux scraped by the squeegee 61 during the rotation of the rotary table 50, the flux surface of the light projecting region decreases as the swell of the flux in the light projecting region decreases. Is approaching a flat surface, light scattering and refraction on the flux surface of the light projection area is reduced, and the amount of reflected light received by the reflective photosensor 54 (mainly the amount of reflected light from the bottom surface of the rotary table 50). Will increase. Considering this characteristic, the optical sensor 62 is configured to detect when the amount of reflected light received by the light receiving element 62b of the reflective optical sensor 62 exceeds a preset level. In this way, even if there is a situation where the flux is a transparent viscous fluid that is difficult to detect, it is possible to accurately detect a lack of swell of the flux scraped by the squeegee 61 (insufficient amount of flux). .

電子部品実装機20の稼働中は、図1に示すように、電子部品実装機20の吸着ノズル77に吸着した電子部品78のバンプや端子を回転テーブル50の底面に当接するまで下降させることで、バンプや端子をフラックス膜に浸して、その電子部品78のバンプや端子にフラックスを転写する。   During operation of the electronic component mounting machine 20, as shown in FIG. 1, the bumps and terminals of the electronic component 78 sucked by the suction nozzle 77 of the electronic component mounting machine 20 are lowered until they contact the bottom surface of the rotary table 50. Then, the bumps and terminals are immersed in a flux film, and the flux is transferred to the bumps and terminals of the electronic component 78.

また、フラックス転写装置本体14には、回転テーブル50上にフラックスを供給するフラックス供給装置65(フラックス供給手段)が設けられている。このフラックス供給装置65は、図8に示すように、フラックスを貯留するタンク66と、このタンク66内に空気を供給するボンベ等の空気供給源67と、一方向絞り弁68と、第1の電磁切換弁69(3ポート2位置切換弁)と、第2の電磁切換弁70(2ポート2位置切換弁)と、消音器71とから構成されている。   Further, the flux transfer device main body 14 is provided with a flux supply device 65 (flux supply means) for supplying a flux onto the rotary table 50. As shown in FIG. 8, the flux supply device 65 includes a tank 66 for storing flux, an air supply source 67 such as a cylinder for supplying air into the tank 66, a one-way throttle valve 68, An electromagnetic switching valve 69 (3-port 2-position switching valve), a second electromagnetic switching valve 70 (2-port 2-position switching valve), and a silencer 71 are included.

回転テーブル50にフラックスを供給する場合は、第1の電磁切換弁69に通電して、第1の電磁切換弁69を空気供給位置に切り換え、空気供給源67の吐出パイプ72をタンク66の入口側の空気配管73に連通させて、空気供給源67から吐出される空気を空気配管73を通してタンク66内に供給して、該タンク66の吐出ノズル74からフラックスを空気圧で回転テーブル50上に押し出す。この際、空気配管73の途中に設けられた一方向絞り弁68によってタンク66内に流入する空気流量が一定流量以下に絞られる。   When supplying flux to the rotary table 50, the first electromagnetic switching valve 69 is energized to switch the first electromagnetic switching valve 69 to the air supply position, and the discharge pipe 72 of the air supply source 67 is connected to the inlet of the tank 66. The air discharged from the air supply source 67 is supplied into the tank 66 through the air pipe 73, and the flux is pushed out from the discharge nozzle 74 of the tank 66 onto the rotary table 50 by air pressure. . At this time, the flow rate of air flowing into the tank 66 is reduced to a certain flow rate or less by a one-way throttle valve 68 provided in the middle of the air pipe 73.

本実施例では、電子部品実装機20の制御装置(制御手段)は、残量センサ62の出力信号に基づいて回転テーブル4上のフラックスの残量を監視し、フラックスの残量不足が検出されたときに、第1の電磁切換弁69に通電して、自動的にフラックスを回転テーブル4上に補給する。   In the present embodiment, the control device (control means) of the electronic component mounting machine 20 monitors the remaining amount of flux on the rotary table 4 based on the output signal of the remaining amount sensor 62, and detects that the remaining amount of flux is insufficient. The first electromagnetic switching valve 69 is energized to automatically replenish the flux on the rotary table 4.

一方、回転テーブル50へのフラックス供給を停止する場合は、第1の電磁切換弁69への通電をオフして、第1の電磁切換弁69を空気供給停止位置に切り換え、空気供給源67の吐出パイプ72を閉鎖する。この場合、図9に示すように、第2の電磁切換弁70は、フラックス供給開始から通電されて大気連通位置に維持され、フラックス供給停止後も、所定時間Tが経過するまで第2の電磁切換弁70への通電が継続されて大気連通位置に維持される。これにより、タンク66内の空気が一方向絞り弁68→第1の電磁切換弁69→第2の電磁切換弁70→消音器71の経路で排出され、タンク66内の圧力が大気圧の近くまで減圧される。そして、フラックス供給停止(第1の電磁切換弁69のオフ)から所定時間Tが経過した時点で、第2の電磁切換弁70への通電をオフして、第2の電磁切換弁70を閉鎖位置に切り換え、タンク66を密閉する。   On the other hand, when the supply of flux to the rotary table 50 is stopped, the power supply to the first electromagnetic switching valve 69 is turned off, the first electromagnetic switching valve 69 is switched to the air supply stop position, and the air supply source 67 The discharge pipe 72 is closed. In this case, as shown in FIG. 9, the second electromagnetic switching valve 70 is energized from the start of flux supply and is maintained at the atmospheric communication position, and the second electromagnetic switching valve 70 is maintained until a predetermined time T elapses after the flux supply is stopped. The energization of the switching valve 70 is continued and the atmospheric communication position is maintained. As a result, the air in the tank 66 is discharged through the path of the one-way throttle valve 68 → the first electromagnetic switching valve 69 → the second electromagnetic switching valve 70 → the silencer 71, and the pressure in the tank 66 is close to atmospheric pressure. The pressure is reduced to. When a predetermined time T has elapsed since the flux supply was stopped (the first electromagnetic switching valve 69 is turned off), the energization of the second electromagnetic switching valve 70 is turned off and the second electromagnetic switching valve 70 is closed. Switch to position and seal tank 66.

この場合、所定時間Tは、タンク66の内圧が大気圧まで減圧されるのに要する時間よりも短い時間に設定されている。従って、フラックス供給停止から所定時間Tが経過した時点で、第2の電磁切換弁70への通電をオフして、タンク66を密閉すると、フラックス供給停止中は、タンク66の内圧が大気圧よりも少し高い圧力に維持される。   In this case, the predetermined time T is set to a time shorter than the time required for the internal pressure of the tank 66 to be reduced to the atmospheric pressure. Therefore, when the predetermined time T has elapsed from the stop of flux supply and the energization of the second electromagnetic switching valve 70 is turned off and the tank 66 is sealed, the internal pressure of the tank 66 is higher than the atmospheric pressure while the flux supply is stopped. Even a little higher pressure is maintained.

前述したように、フラックス供給停止中にタンク66の内圧が大気圧と同一になっていると、吐出ノズル74内の残留フラックスが表面張力等によってタンク66内に逆流する現象が発生する。この逆流現象が発生すると、タンク66内に空気を供給してタンク66の吐出ノズル74からフラックスを空気圧で回転テーブル50上に押し出す際に、フラックスの押し出し量がばらついてしまい、回転テーブル50へのフラックスの補給量が安定しない。   As described above, if the internal pressure of the tank 66 is equal to the atmospheric pressure while the flux supply is stopped, a phenomenon occurs in which the residual flux in the discharge nozzle 74 flows back into the tank 66 due to surface tension or the like. When this reverse flow phenomenon occurs, when the air is supplied into the tank 66 and the flux is pushed out from the discharge nozzle 74 of the tank 66 onto the rotary table 50 by air pressure, the amount of flux extruded varies, and the flow to the rotary table 50 is varied. Flux replenishment amount is not stable.

この点、本実施例のように、フラックス供給停止中にタンク66の内圧を大気圧よりも少し高い圧力に維持するようにすれば、フラックス供給停止中に吐出ノズル74内の残留フラックスがタンク66内に逆流することを防止でき、回転テーブル50へのフラックスの補給量を安定させることができる。   In this regard, as in this embodiment, if the internal pressure of the tank 66 is maintained at a pressure slightly higher than the atmospheric pressure while the flux supply is stopped, the residual flux in the discharge nozzle 74 is transferred to the tank 66 while the flux supply is stopped. It is possible to prevent the flow back into the interior, and the amount of flux replenished to the rotary table 50 can be stabilized.

図5に示すように、フラックス転写装置本体14には、フラックス転写装置本体14を引き出し位置でマニュアル運転するための操作パネル75が設けられている。フラックス転写装置本体14が引き出し位置に引き出されている状態で、作業者が操作パネル75を操作してマニュアル運転を行えば、フラックス膜の膜厚調整のために、回転テーブル50を回転させてフラックス膜を形成したり、フラックス供給装置65を動作させて回転テーブル50上にフラックスを補給することが可能である。   As shown in FIG. 5, the flux transfer apparatus main body 14 is provided with an operation panel 75 for manually operating the flux transfer apparatus main body 14 at the pull-out position. When the operator operates the operation panel 75 and performs manual operation in a state where the flux transfer device main body 14 is pulled out to the drawing position, the rotary table 50 is rotated to adjust the film thickness of the flux film. It is possible to supply a flux on the rotary table 50 by forming a film or by operating the flux supply device 65.

この場合、電子部品実装機20の稼働前でも、フラックス転写装置本体14がセット位置にセットされている状態で、作業者が電子部品実装機20の外側に位置する操作パネル75を操作してフラックス供給装置65を動作させて回転テーブル50上にフラックスを補給することが可能である。この際、回転テーブル50上にフラックスを補給して回転テーブル50を回転させながら残量センサ62の出力信号に基づいて回転テーブル4上のフラックスの残量を検出し、そのフラックスの残量が適量になるまでフラックスを補給する動作を自動的に行わせることが可能である。   In this case, even before the operation of the electronic component mounting machine 20, the flux is operated by operating the operation panel 75 positioned outside the electronic component mounting machine 20 by the operator while the flux transfer device main body 14 is set at the set position. It is possible to replenish the flux on the rotary table 50 by operating the supply device 65. At this time, the remaining amount of flux on the turntable 4 is detected based on the output signal of the remaining amount sensor 62 while supplying the flux on the turntable 50 and rotating the turntable 50, and the remaining amount of the flux is an appropriate amount. It is possible to automatically perform the operation of replenishing the flux until

以上説明した本実施例では、フラックス膜の膜厚調整作業やクリーニング作業等のメンテナンス作業を行う際に、電子部品実装機20からフラックス転写装置本体14を引き出して引き出し位置にセットすると、フラックス転写装置本体14のマニュアル運転が可能となるため、フラックス転写装置本体14を電子部品実装機20の外側の作業しやすい位置に引き出した状態で、フラックス膜の膜厚調整作業やクリーニング作業等のメンテナンス作業を容易に行うことができる。   In the present embodiment described above, when performing a maintenance operation such as a flux film thickness adjustment operation or a cleaning operation, the flux transfer device main body 14 is pulled out from the electronic component mounting machine 20 and set at the extraction position. Since manual operation of the main body 14 is possible, maintenance work such as adjustment of the film thickness of the flux film or cleaning work is performed with the flux transfer apparatus main body 14 pulled out to an easily workable position outside the electronic component mounting machine 20. It can be done easily.

しかも、本実施例では、フラックス転写装置本体14を電子部品実装機20の内側のセット位置と外側の引き出し位置との間で出し入れする際にフラックス転写装置本体14の運転を禁止する第1の安全スイッチ41を設けたので、フラックス転写装置本体14を出し入れする際に作業者の操作ミスによりフラックス転写装置本体14が不意に動作し始める事態を第1の安全スイッチ41によって未然に防止することができ、安全性を向上できる。   In addition, in the present embodiment, the first safety that prohibits the operation of the flux transfer device main body 14 when the flux transfer device main body 14 is taken in and out between the inner set position and the outer drawing position of the electronic component mounting machine 20. Since the switch 41 is provided, the first safety switch 41 can prevent a situation in which the flux transfer device main body 14 starts to operate unexpectedly due to an operator's operation error when the flux transfer device main body 14 is inserted or removed. , Can improve safety.

更に、フラックス転写装置本体14をスライド移動可能に支持する取付ベース12が電子部品実装機20内の装着部11に装着されているときにフラックス転写装置本体14の運転を許可する第2の安全スイッチ33を設けたので、電子部品実装機20内の装着部11に対するフラックス転写装置本体14の取付ベース12の装着状態が不完全な場合には、それを第2の安全スイッチ33により検出してフラックス転写装置本体14の運転を禁止することができ、安全性を向上できる。   Further, a second safety switch that permits operation of the flux transfer device main body 14 when the mounting base 12 that supports the flux transfer device main body 14 so as to be slidable is mounted on the mounting portion 11 in the electronic component mounting machine 20. 33 is provided, when the mounting state of the mounting base 12 of the flux transfer device main body 14 to the mounting portion 11 in the electronic component mounting machine 20 is incomplete, it is detected by the second safety switch 33 and the flux Operation of the transfer apparatus main body 14 can be prohibited, and safety can be improved.

更に、フラックス転写装置本体14をセット位置と引き出し位置でそれぞれロックする第1のロック部材34を設けたので、フラックス転写装置本体14をセット位置や引き出し位置にセットする作業を確実に行うことができると共に、フラックス転写装置本体14がセット位置や引き出し位置からずれ動くことを確実に防止できる。   Further, since the first lock member 34 for locking the flux transfer device main body 14 at the set position and the pull-out position is provided, the work of setting the flux transfer device main body 14 at the set position and the pull-out position can be performed reliably. At the same time, it is possible to reliably prevent the flux transfer apparatus main body 14 from moving from the set position or the drawing position.

また、回転テーブル50とスキージ61をフラックス転写装置本体14に対して着脱可能に取り付けるようにしたので、電子部品実装機20の外側に引き出したフラックス転写装置本体14から回転テーブル10やスキージ61を取り外してクリーニング作業やメンテナンス作業を行うことができ、それらの作業性を更に向上させることができる。   In addition, since the rotary table 50 and the squeegee 61 are detachably attached to the flux transfer apparatus main body 14, the rotary table 10 and the squeegee 61 are removed from the flux transfer apparatus main body 14 pulled out to the outside of the electronic component mounting machine 20. Thus, cleaning work and maintenance work can be performed, and the workability thereof can be further improved.

また、回転テーブル50上のフラックスの残量を監視するための残量センサ62を設け、この残量センサ62の出力信号に基づいてフラックスの残量が不足すると判断されるときにフラックス供給装置65を作動させて回転テーブル50上にフラックスを補給するようにしたので、電子部品実装機20の稼働中に、回転テーブル50上のフラックスの残量不足が検出される毎に、その都度、回転テーブル50上にフラックスを自動的に補給することができ、フラックス不足による半田付け不良の発生を未然に防止できて、半田付けの品質・信頼性を向上できる。   Further, a remaining amount sensor 62 for monitoring the remaining amount of flux on the rotary table 50 is provided, and when it is determined that the remaining amount of flux is insufficient based on the output signal of the remaining amount sensor 62, the flux supply device 65. Since the flux is replenished on the rotary table 50 by operating the rotary table 50, the rotary table is detected each time an insufficient amount of flux on the rotary table 50 is detected during operation of the electronic component mounting machine 20. The flux can be automatically replenished on the surface 50, soldering failure due to insufficient flux can be prevented in advance, and the quality and reliability of soldering can be improved.

この場合、回転テーブル50の回転中にスキージ61で掻き取られるフラックスの掻き取り量が少なくなり過ぎると、バンプ等の転写対象物の浸漬により生じたフラックス膜表面の凹凸を均一な平面に均すことができなくなり、バンプ等の転写対象物に均一にフラックスを転写できなくなる。   In this case, if the amount of flux scraped off by the squeegee 61 during the rotation of the rotary table 50 becomes too small, the unevenness on the surface of the flux film caused by the immersion of the transfer object such as bumps is leveled to a uniform plane. And the flux cannot be uniformly transferred to the transfer object such as a bump.

この点を考慮して、本実施例では、回転テーブル50の回転中に残量センサ62の出力信号に基づいてスキージで掻き取られるフラックスの掻き取り量を検出してフラックスの残量を監視するようにしたので、回転テーブル50の回転中にフラックスの残量不足を精度良く検出することができる。   In view of this point, in this embodiment, the remaining amount of flux is monitored by detecting the amount of flux scraped off by the squeegee based on the output signal of the remaining amount sensor 62 while the turntable 50 is rotating. As a result, it is possible to accurately detect a shortage of the remaining amount of flux while the turntable 50 is rotating.

更に、スキージ61のエッジ61a部分の形状をその中央側が回転テーブル50の回転方向に湾曲する円弧状に形成するようにしたので、回転テーブル50上のフラックスをスキージで押し広げる際に、フラックスがスキージ61のエッジ61aの中央側からその両端側に向けて流動することをスキージ61のエッジ61a部分の湾曲形状によって防止することができ、スキージ61の中央側で局所的にフラックスが不足した状態になることを防止できる。   Further, since the shape of the edge 61a of the squeegee 61 is formed in an arc shape whose center side is curved in the rotation direction of the rotary table 50, when the flux on the rotary table 50 is spread with the squeegee, the flux is squeezed. The curved shape of the edge 61a portion of the squeegee 61 prevents the flow from the center side of the edge 61a of the 61 toward the both end sides, and the flux is locally insufficient at the center side of the squeegee 61. Can be prevented.

また、本実施例では、フラックス供給停止中にタンク66の内圧を大気圧よりも少し高い圧力に維持するようにしたので、フラックス供給停止中に吐出ノズル74内の残留フラックスがタンク66内に逆流することを防止でき、回転テーブル50へのフラックスの補給量を安定させることができる。   In the present embodiment, the internal pressure of the tank 66 is maintained at a pressure slightly higher than the atmospheric pressure while the flux supply is stopped. Therefore, the residual flux in the discharge nozzle 74 flows back into the tank 66 while the flux supply is stopped. The amount of flux replenishment to the rotary table 50 can be stabilized.

尚、本実施例では、転写テーブル(回転テーブル50)を回転させてスキージングする回転方式のフラックス転写装置に本発明を適用したが、転写テーブルを固定してスキージを水平方向に直線移動させたり、或はスキージを固定して転写テーブルを水平方向に直線移動させる直動方式のフラックス転写装置に本発明を適用して実施しても良い。   In this embodiment, the present invention is applied to a rotary type flux transfer device that rotates and squeezes the transfer table (rotary table 50). However, the transfer table is fixed and the squeegee is moved linearly in the horizontal direction. Alternatively, the present invention may be applied to a linear motion type flux transfer apparatus in which the squeegee is fixed and the transfer table is linearly moved in the horizontal direction.

10…フラックス転写装置、12…取付ベース、14…フラックス転写装置本体、18…ストッパ、19…ベースプレート、20…電子部品実装機、21,22…コネクタ、23,24…係合ピン、25,26…係合穴、27…ロック部材、28…スプリング、29…ロック穴、31…ロック解除レバー、33…第2の安全スイッチ、34…第1のロック部材(ロック手段)、35…スプリング、36,37…ロック穴、38…ロック解除ハンドル、42…光電スイッチ、43…検出突起、50…回転テーブル(転写テーブル)、51…回転台、52…磁石、54…回り止めピン、57…モータ、61…スキージ、61a…エッジ、61b…フラックス掻き取り面、62…残量センサ(反射型の光センサ)、62a…投光素子、62b…受光素子、64…高さ調整機構、65…フラックス供給装置(フラックス供給手段)、66…タンク、67…空気供給源、68…一方向絞り弁、69…第1の電磁切換弁(3ポート2位置切換弁)、70…第2の電磁切換弁(2ポート2位置切換弁)、71…消音器、74…吐出ノズル   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Flux transfer apparatus, 12 ... Mounting base, 14 ... Flux transfer apparatus main body, 18 ... Stopper, 19 ... Base plate, 20 ... Electronic component mounting machine 21, 22, ... Connector, 23, 24 ... Engagement pin, 25, 26 , Engagement hole, 27, lock member, 28, spring, 29, lock hole, 31, lock release lever, 33, second safety switch, 34, first lock member (lock means), 35, spring, 36 37 ... Lock hole, 38 ... Lock release handle, 42 ... Photoelectric switch, 43 ... Detection protrusion, 50 ... Rotation table (transfer table), 51 ... Rotary table, 52 ... Magnet, 54 ... Rotation stop pin, 57 ... Motor, 61 ... Squeegee, 61a ... Edge, 61b ... Flux scraping surface, 62 ... Remaining amount sensor (reflection type optical sensor), 62a ... Light projecting element, 62b ... Light receiving 64 ... Height adjusting mechanism, 65 ... Flux supply device (flux supply means), 66 ... Tank, 67 ... Air supply source, 68 ... One-way throttle valve, 69 ... First electromagnetic switching valve (3-port 2-position) Switching valve), 70 ... second electromagnetic switching valve (2-port 2-position switching valve), 71 ... silencer, 74 ... discharge nozzle

Claims (5)

転写テーブル上にフラックスを供給し、その上方に配置されたスキージによって前記転写テーブル上のフラックスを均一に押し広げてフラックス膜を形成し、このフラックス膜に転写対象物を浸すことで、この転写対象物にフラックスを転写するフラックス転写装置において、
前記転写テーブルに貯留されているフラックスの残量を監視するための残量センサを備え、
前記残量センサは、前記スキージング動作中に前記スキージで掻き取られるフラックスの盛り上がり部分に向けてその上方から投光して反射光を検出する反射型の光センサにより構成されていることを特徴とするフラックス転写装置。
A flux is supplied onto the transfer table, and the flux on the transfer table is uniformly spread by a squeegee disposed above the transfer table to form a flux film, and the transfer object is immersed in the flux film. In a flux transfer device that transfers flux to an object,
A remaining amount sensor for monitoring the remaining amount of flux stored in the transfer table;
The remaining amount sensor is constituted by a reflection type optical sensor that detects reflected light by projecting light from above toward a rising portion of the flux scraped by the squeegee during the squeegeeing operation. Flux transfer device.
前記転写テーブル上にフラックスを供給するフラックス供給手段と、
前記残量センサの出力信号に基づいてフラックスの残量が不足すると判断されるときに前記フラックス供給手段を作動させて前記転写テーブル上にフラックスを補給する制御手段とを備えていることを特徴とする請求項1に記載のフラックス転写装置。
Flux supply means for supplying flux onto the transfer table;
Control means for operating the flux supply means to replenish the flux on the transfer table when it is determined that the remaining amount of flux is insufficient based on the output signal of the remaining amount sensor. The flux transfer device according to claim 1.
前記制御手段は、前記フラックス膜を形成するスキージング動作中に前記残量センサの出力信号に基づいて前記スキージで掻き取られるフラックスの掻き取り量を検出してフラックスの残量を監視することを特徴とする請求項1又は2に記載のフラックス転写装置。   The control means detects a scraping amount of the flux scraped off by the squeegee based on an output signal of the remaining amount sensor during a squeezing operation for forming the flux film, and monitors the remaining amount of flux. The flux transfer device according to claim 1 or 2, characterized in that 前記転写テーブルは、モータによって回転駆動され、
前記スキージは、フラックスを掻き取るエッジ部分の形状がその中央側を前記転写テーブルの回転方向に湾曲させた円弧状に形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のフラックス転写装置。
The transfer table is rotationally driven by a motor,
4. The squeegee according to claim 1, wherein a shape of an edge portion for scraping off the flux is formed in an arc shape in which a central side is curved in a rotation direction of the transfer table. 5. Flux transfer device.
前記フラックス供給手段は、フラックスを貯留するタンクと、このタンク内に空気を供給して該タンクの吐出ノズルからフラックスを空気圧で前記転写テーブル上に押し出す空気供給源とを備え、フラックス供給停止中に、前記吐出ノズル内の残留フラックスが前記タンク内に逆流しないように前記タンク内圧を大気圧よりも少し高い圧力に維持するように構成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のフラックス転写装置。   The flux supply means includes a tank for storing flux, and an air supply source for supplying air into the tank and forcing the flux from the discharge nozzle of the tank onto the transfer table by air pressure. The tank internal pressure is maintained at a pressure slightly higher than the atmospheric pressure so that the residual flux in the discharge nozzle does not flow back into the tank. The flux transfer apparatus according to 1.
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