JP4187873B2 - Flux supply device for conductive ball mounting device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、BGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Packge または、Chip Scale Package)など、導電性ボール(以下、はんだボールという)を実装基板との接続材として用いるパッケージにはんだボールを整列搭載するためのはんだボール搭載装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
たとえば、図14に示すはんだボール搭載装置が提案されている。このはんだボール搭載装置は、容器1内に貯留した複数個のはんだボール2を圧縮ガスを吹き上げて浮遊させるようにしたはんだボール供給部Aと、フラックス槽3内で所定の厚さに掻き均されたフラックス4を供給するフラックス供給部Bと、はんだボール2を搭載すべきパッケージ5を位置決めする搭載部Cと、前記パッケージ5のはんだボール1を搭載する接続端子の配列と同じ配列で複数の吸着穴6aが形成され、配管7を介して真空源8に接続された整列マスク6と、この整列マスク6を前記ボール供給部A、フラックス供給部Bおよび搭載部Cの順に順次移動させる搬送装置Dとを備えている。
【0003】
搬送装置Dにより、図15に示すように、整列マスク6をボール供給部A上に位置決めした状態で、真空源8から配管7を通して整列マスク6に真空圧を供給するとともに、容器1の底部から圧縮ガスを吹き出させて内部のはんだボール2を整列マスク6に向けて吹き上げて浮遊させ、整列マスク6の吸着穴6aにはんだボール2を吸着させる。
【0004】
整列マスク6に所定数のはんだボール2が吸着されると、搬送装置Dは、図16に示すように、整列マスク6をフラックス供給部Bの上方に移動させた後、図17に示すように、整列マスク6を下降させ、整列マスク6に吸着されたはんだボール2の下端部をフラックス4に浸漬させ、はんだボール2にフラックス4を塗布させる。
【0005】
はんだボール2にフラックス4が塗布されると、搬送装置Dは、図18に示すように、整列マスク6を搭載部Cの上方に、はんだボール2がパッケージ5の接続端子5aと対向するように移動させた後、はんだボール2をパッケージ5の接続端子に押し付ける。そして、整列マスク6に供給されている真空圧を遮断し、整列マスク6からはんだボール2を解放してパッケージ5にはんだボール2を搭載する。このとき、図19に示すように、はんだボール2は、フラックス4の粘着力によりパッケージ5の接続端子5aに保持される。
【0006】
はんだボール2を保持したパッケージ5を加熱(リフロー)することにより、はんだボール2を溶かし、たとえば、100〜300個のはんだバンプ(接続用突起)を一度に形成する。
【0007】
また、他のはんだボール搭載方法として、図20に示すように、パッケージの接続端子と同じ配列で複数の転写ピン9を備えた転写治具10を用い、フラックス槽3内で予め掻き均されたフラックス4を転写ピン9の先端で取り出し、図21に示すように、転写ピンの先端に付着したフラックスをパッケージ5の接続端子5aに転写し、その上に、図22に示すように、整列マスク6に吸着されたはんだボール2を搭載するようにしたものもある。
【0008】
前記の各はんだボールの搭載工程において、はんだボールにフラックスを塗布する際、はんだボールをフラックス槽の底面に接触させてフラックスを供給する方法と、接触させないで供給する方法があるが、いずれの方法であっても、はんだボールに適正量のフラックスを供給することが求められている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
たとえば、ゲル状のフラックスを用いた場合、使用開始から一定期間はフラックスの粘度が低下し、その後粘度が上昇する傾向がある。フラックスの粘度が変化するのに伴って、フラックスの表面張力が変化するため、図23に示すように、フラックス槽3の底面と所定の間隔Hに設定されたスキージ9でフラックス4を掻き均しても、フラックス4の膜厚Tがばらつくことになる。
【0010】
掻き均されたフラックスの膜厚Tがばらつくと、図24に示すように、はんだボール2をフラックス槽3の底面に接触させても、はんだボール2に供給されるフラックス4の量がばらつくことになる。また、図25に示すように、はんだボール2をフラックス槽3の底面に接触させない場合には、はんだボール2にフラックス4が供給されないこともある。
【0011】
はんだボールに対するフラックスの付着量が少ないと、パッケージに搭載されたとき、フラックスの粘着力によるはんだボールの保持力が小さくなり、はんだボールの保持が不安定になるだけでなく、リフロー工程におけるはんだ表面の酸化物の除去が不完全となり、はんだ付け不良が発生する。また、はんだボールに対するフラックスの付着量が多くなると、リフロー後の洗浄工程でフラックスを完全に除去できないものがでる等不良の原因になる。
【0012】
上記の事情に鑑み、本発明の目的は、フラックスの表面位置を検出して、常に一定量のフラックスを供給することができるようにしたはんだボール搭載装置におけるフラックス供給装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するため、本出願の請求項1に記載の発明は、パッケージに形成された接続端子と同じ配列で吸着用の穴が形成された整列マスクで導電性ボールを吸着した後、フラックスの粘着力により導電性ボールを前記パッケージの接続端子に搭載するようにした導電性ボール搭載装置におけるフラックス供給装置において、ゲル状のフラックスを収容するフラックス槽と、フラックス槽に沿って移動して所定の厚さのフラックス膜を形成するスキージと、前記フラックス槽に形成されたフラックス膜の表面と所定の間隔で配置され、フラックス膜の厚さを検出するセンサを設けた。
【0014】
また、請求項2に記載の発明は、パッケージに形成された接続端子と同じ配列で吸着用の穴が形成された整列マスクで導電性ボールを吸着した後、フラックスの粘着力により導電性ボールを前記パッケージの接続端子に搭載するようにした導電性ボール搭載装置におけるフラックス供給装置において、ゲル状のフラックスを収容するフラックス槽と、所定の間隔で、前記フラックス槽との間隔を調整可能に配置され、それぞれフラックス槽に沿って移動して所定の厚さのフラックス膜を形成する一対のスキージと、前記フラックス槽に形成されたフラックス膜の表面と所定の間隔で配置され、フラックス膜の厚さを検出するセンサを設けた。
【0015】
さらに、請求項3に記載の発明は、請求項1もしくは請求項2に記載の発明において、前記フラックス槽のフラックス膜形成領域の両端部に、少なくとも導電性ボールの直径より大きい段差で低くなっている段差部を形成し、フラックス膜形成領域と段差部の接続面が、フラックス膜形成領域の下方に侵入する傾斜面で形成した。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1ないし図12は、本発明の第1の実施の形態を示すもので、図1は、本発明によるフラックス塗布装置の側面図、図2は、図1のA矢視図、図3は、図1のB矢視図、図4は、フラックス槽とスキージおよびセンサの関係を示す平面図、図5は、フラックス槽の正面断面図、図6は、フラックス槽の段差部を示す拡大図、図7は、センサによるフラックス表面の検出経路の一例を示す平面図、図8は、センサによるフラックス表面の検出状態を示す正面図、図9は、フラックス膜の厚さを制御するための制御系統図、図10は、センサによる検出方法とその出力を示す説明図、図11は、掻き均されたフラックスの表面に発生する異常の一例を示し、(a)は平面図、(b)は拡大図、第12図は、センサによる出力の一例を示す特性図である。
【0017】
図1ないし図4において、21はベースプレート。22は支柱で、ベースプレート21に所定の間隔で立設されている。23はフラックスベースで、支柱22に固定されている。24はフラックス槽で、フラックスベース23に固定されている。25はブラケットで、フラックス槽24と平行にベースプレート21に固定されている。
【0018】
26は直線案内装置のレールで、ブラケット25に固定されている。27は直線案内装置のベアリングで、レール26に摺動可能に支持されている。28は送りねじで、レール26と平行に、一対の軸受け29を介してブラケット25に回転可能に支持されている。30はモータで、ブラケット31を介してブラケット25に固定され、ジョイント32を介して送りねじ28と結合されている。
【0019】
33はスライダで、送りねじ28が螺合するナットが形成され、ベアリング27に固定されている。34はプレートで、スライダ33の上端に固定されている。
【0020】
35は直線案内手段のレールで、プレート34に固定されている。36は直線案内手段のベアリングで、レール35に摺動可能に固定されている。37はモータで、ブラケット38を介してスライダ33に固定されている。39は送りねじで、ジョイント40を介してモータ37に結合されている。
【0021】
41はスライダで、送りねじ39が螺合するナットが形成され、ベアリング36に固定されている。42は取付プレートで、スライダ41の一端に固定されている。43はセンサで、フラックス槽24と対向するように取付プレート42に固定されている。
【0022】
44は直線案内装置のレールで、ブラケット25に固定されている。45は直線案内装置のベアリングで、レール44に摺動可能に支持されている。46は送りねじで、レール44と平行に、一対の軸受け47を介してブラケット25に回転可能に支持されている。48はモータで、ブラケット49を介してブラケット25に固定され、ジョイント50を介して送りねじ46と結合されている。
【0023】
51はスライダで、送りねじ46と螺合するナットが形成され、ベアリング45に固定されている。
【0024】
52は直線案内装置のレールで、スライダ51に固定されている。53は直線案内装置のベアリングで、レール52に摺動可能に支持されている。54はモータで、ブラケット55を介してスライダ51の上端に固定されている。56は送りねじで、モータ54に結合されている。
【0025】
57はスライダで、送りねじ56に螺合するナットが形成され、ベアリング53に固定されている。58、59はエアシリンダで、所定の間隔でスライダ57に固定されている。60、61はスキージで、それぞれエアシリンダ58、59に固定されている。
【0026】
図5、図6において、スラックス槽24は、所定の厚さのフラックス膜を形成する領域の両端に、少なくともはんだボール2の直径より大きい高さの段差部24Aが形成されている。そして、フラックス膜形成領域と段差部24Aは、たとえば、スキージ61で押されたはんだボール2がフラックス膜形成領域の下方に侵入するように、傾斜面24Bで接続されている。
【0027】
前記モータ30、37の作動により、センサ43は、図7、図8に示すように、フラックス槽24のフラックス膜形成領域内を走査して、フラックス膜の厚さを測定する。
【0028】
図9において、62は加算器で、予め設定されたフラックスの膜厚とセンサ43の出力を増幅するアンプ67の出力とを比較して、その差を出力する。63は制御装置で、加算器62の出力に基づいて、スキージの移動方向、移動量などを求めるコントローラ64と、このコントローラ64の指令に基づいて移動速度を制御する速度制御系65と、位置を制御する位置制御系66を備え、モータ54を駆動してスキージ60、61の位置を制御する。
【0029】
図10は、半導体レーザを用いたセンサ43を示し、半導体レーザ43Aから発振されたレーザ光をレンズ43Bでフラックス4の表面に照射し、その反射光をレンズ43Cで光電変換素子43D上に集光させる用に構成されている。このとき、フラックス4の表面の高さにより、(b)に示すように、光電変換素子43D上の集光位置のずれによりフラックス4の表面の位置を検出する。
【0030】
このような構成で、スキージ60、61がフラックス槽24の段差部24Aの上方にある状態で、モータ54を作動させ、スライダ57を移動させてスキージ60、61を、フラックス槽24の底面から予め設定された高さ位置へ移動させる。
【0031】
シリンダ59を作動させ、図3に示すように、スライダ51の移動方向前方のスキージ61を上昇させた後、モータ48を作動させて、スライダ51をモータ48側へ移動させる。すると、フラックス槽24内のフラックス4は、スキージ60により掻き均される。
【0032】
この状態で、モータ30、37を作動させ、センサ43を図7に示すように移動させ、フラックス4の表面の高さ、すなわちフラックス4の膜厚を測定する。測定の結果、フラックス4の膜厚が許容範囲内であれば、はんだボールに対するフラックス4の供給を行う。
【0033】
フラックス4の膜厚が許容範囲外であれば、測定結果がフィードバックされている制御装置63によりモータ54を制御して、再び、フラックス4を掻き均し再度フラックスの膜厚の測定を行う操作を繰り返し、フラックス4の膜厚を許容値内に制御する。
【0034】
スキージ60、61でフラックス4を掻き均したとき、フラックス4上に比較的大きい異物(たとえば、整列マスクから脱落したはんだボールなど)が落下していると、フラックス4の表面に図11に示すような溝4Aが発生することがある。このような溝4Aは、図12に示すように、センサ43で検出される。したがって、センサ43の出力が1点でも許容偏差を超えた場合には、フラックス4を再度掻き均すことにより、はんだボールへフラックスを均一に供給することができる。
【0035】
フラックス4とともにフラックス槽24の段差部24Aに移動した異物は、図5、図6に示すように、スキージ60、61の移動方向前面に形成された傾斜面により、斜め下方に押されるため、段差部24Aに溜まっているフラックス4内に沈み込み、さらに、スキージ61、60が逆方向に移動する際、異物はフラックス槽24の傾斜面24Bに捕捉され、段差部24Aの底部に向けて沈み込む。
【0036】
上記のように、フラックス4の表面の位置を検出して、フラックス4の表面の高さが許容範囲内にあるときのみ、はんだボールにフラックス4を供給するようにしたので、はんだボールに適正な量のフラックスを供給することができる。
【0037】
図13は、本発明に用いるセンサの他の実施の形態を示すもので、(a)はセンサの正面断面図、(b)はその出力の特性図である。
【0038】
同図において、70はエアノズル。71は圧力センサで、エアノズル70内の圧力を測定する。
【0039】
このような構成で、エアノズル70の吹き出し口をフラックス4の表面に近づけると、その距離に対応してエアノズル70内の圧力が変化する。この圧力の変化は、エアノズル70の吹き出し口とフラックス4の間隔をSとすると、(b)にしめすようになり、エアノズル70の先端とフラックス4の表面の間隔を検出することができる。
【0040】
なお、上記の実施の形態では、フラックス槽に対してセンサ43を移動させるようにしているが、センサ43を固定して、1点のみでフラックスの表面位置を検出するようにしてもよい。
【0041】
【発明の効果】
以上述べたごとく、本発明によれば、スキージで掻き均されたフラックスの表面の高さを検出して、フラックスの表面の高さが許容範囲内にあるとき、フラックスを供給するようにしたので、はんだボールに一定量のフラックスを供給することができる。
【0042】
また、フラックス内に混入した異物を検出することができる。さらに、フラックス内に混入した異物をフラックス膜形成領域から排除し、フラックス槽の段差部に沈み込ませることができるので、はんだ付け不良や洗浄不良の発生を未然に防止することができる
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるフラックス塗布装置の側面図。
【図2】図1のA矢視図。
【図3】図1のB矢視図。
【図4】フラックス槽とスキージおよびセンサの関係を示す平面図。
【図5】フラックス槽の正面断面図。
【図6】フラックス槽の段差部を示す拡大図。
【図7】センサによるフラックス表面の検出経路の一例を示す平面図。
【図8】センサによるフラックス表面の検出状態を示す正面図。
【図9】フラックス膜の厚さを制御するための制御系統図。
【図10】センサによる検出方法とその出力を示す説明図。
【図11】掻き均されたフラックスの表面に発生する異常の一例を示し、(a)は平面図、(b)は拡大図。
【図12】センサによる出力の一例を示す特性図。
【図13】本発明に用いるセンサの他の実施の形態を示すもので、(a)はセンサの正面断面図、(b)はその出力の特性図。
【図14】本発明を適用するはんだボール搭載装置の一例を示す構成図。
【図15】はんだボールの吸着工程を示す工程図。
【図16】フラックス塗布工程を示す工程図。
【図17】フラックス塗布工程を示す工程図。
【図18】搭載工程を示す工程図。
【図19】パッケージにはんだボールが搭載された状態を示す拡大図。
【図20】他のはんだボール搭載方法におけるフラックス供給工程を示す工程図。
【図21】他のはんだボール搭載方法におけるフラックス供給工程を示す工程図。
【図22】他のはんだボール搭載方法におけるはんだボール搭載工程を示す工程図。
【図23】フラックス搭載工程におけるフラックスの掻き均し状態を示す拡大図。
【図24】フラックス塗布工程における課題を示す拡大図。
【図25】フラックス塗布工程における課題を示す拡大図。
【符号の説明】
2…はんだボール、4…フラックス、5…パッケージ、5a…接続端子、
6…整列マスク、6a…穴、24…フラックス槽、43…センサ、
60、61…スキージ。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention aligns and mounts solder balls on a package using conductive balls (hereinafter referred to as solder balls) as connecting materials to a mounting substrate such as BGA (Ball Grid Array), CSP (Chip Size Package) or Chip Scale Package (CSP). The present invention relates to a solder ball mounting apparatus.
[0002]
[Prior art]
For example, a solder ball mounting apparatus shown in FIG. 14 has been proposed. In this solder ball mounting device, a plurality of
[0003]
As shown in FIG. 15, while the
[0004]
When a predetermined number of
[0005]
When the
[0006]
By heating (reflowing) the
[0007]
Further, as another solder ball mounting method, as shown in FIG. 20, a
[0008]
In each solder ball mounting step, when flux is applied to the solder balls, there are a method of supplying the flux by bringing the solder balls into contact with the bottom surface of the flux tank and a method of supplying the solder balls without contacting them. Even so, it is required to supply an appropriate amount of flux to the solder balls.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
For example, when a gel-like flux is used, the viscosity of the flux decreases for a certain period from the start of use, and then the viscosity tends to increase. Since the surface tension of the flux changes as the flux viscosity changes, the
[0010]
If the film thickness T of the scraped and averaged flux varies, the amount of the
[0011]
If the amount of flux adhering to the solder balls is small, not only the solder ball holding force due to the adhesive force of the flux will be reduced when mounted on the package, the solder ball holding becomes unstable, but also the solder surface in the reflow process Incomplete removal of oxides causes poor soldering. Further, if the amount of flux attached to the solder balls is increased, it may cause defects such as the flux that cannot be completely removed in the cleaning process after reflow.
[0012]
In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a flux supply device in a solder ball mounting device that can detect the surface position of a flux and always supply a constant amount of flux.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention according to
[0014]
According to the second aspect of the present invention, after the conductive balls are adsorbed by an alignment mask having the same arrangement as the connection terminals formed on the package and the holes for adsorption are formed, the conductive balls are attracted by the adhesive force of the flux. In the flux supply device in the conductive ball mounting device mounted on the connection terminal of the package, the flux tank accommodating the gel-like flux and the gap between the flux tank are arranged to be adjustable at a predetermined interval. A pair of squeegees that move along the flux tank to form a flux film having a predetermined thickness, and are arranged at a predetermined distance from the surface of the flux film formed in the flux tank, A sensor for detection was provided.
[0015]
Furthermore, the invention according to
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
1 to 12 show a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a side view of a flux coating apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a view taken in the direction of arrow A in FIG. 1 is a plan view showing the relationship between the flux tank, the squeegee and the sensor, FIG. 5 is a front sectional view of the flux tank, and FIG. 6 is an enlarged view showing the step portion of the flux tank. FIG. 7 is a plan view showing an example of a flux surface detection path by the sensor, FIG. 8 is a front view showing a detection state of the flux surface by the sensor, and FIG. 9 is a control for controlling the thickness of the flux film. System diagram, FIG. 10 is an explanatory diagram showing the detection method by the sensor and its output, FIG. 11 shows an example of an abnormality occurring on the surface of the scraped and averaged flux, (a) is a plan view, and (b) is a plan view. Enlarged view, Fig. 12 is a characteristic diagram showing an example of output from the sensor A.
[0017]
1 to 4,
[0018]
[0019]
A
[0020]
[0021]
A
[0022]
[0023]
A
[0024]
[0025]
A
[0026]
5 and 6, the
[0027]
By the operation of the
[0028]
In FIG. 9, 62 is an adder that compares a preset film thickness of the flux with the output of the amplifier 67 that amplifies the output of the
[0029]
FIG. 10 shows a
[0030]
With such a configuration, in a state where the
[0031]
As shown in FIG. 3, the
[0032]
In this state, the
[0033]
If the film thickness of the
[0034]
When the
[0035]
As shown in FIGS. 5 and 6, the foreign matter that has moved to the stepped
[0036]
As described above, the position of the surface of the
[0037]
FIG. 13 shows another embodiment of the sensor used in the present invention, in which (a) is a front sectional view of the sensor and (b) is a characteristic diagram of its output.
[0038]
In the figure, 70 is an air nozzle.
[0039]
With such a configuration, when the outlet of the
[0040]
In the above embodiment, the
[0041]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the height of the flux surface scraped with the squeegee is detected, and the flux is supplied when the height of the flux surface is within an allowable range. A certain amount of flux can be supplied to the solder balls.
[0042]
Moreover, the foreign material mixed in the flux can be detected. Furthermore, foreign matter mixed in the flux can be removed from the flux film formation area and submerged in the stepped part of the flux tank, so that it is possible to prevent the occurrence of poor soldering and poor cleaning. easy explanation】
FIG. 1 is a side view of a flux application device according to the present invention.
FIG. 2 is a view taken in the direction of arrow A in FIG.
FIG. 3 is a view taken in the direction of arrow B in FIG.
FIG. 4 is a plan view showing the relationship between a flux tank, a squeegee, and a sensor.
FIG. 5 is a front sectional view of a flux tank.
FIG. 6 is an enlarged view showing a step portion of the flux tank.
FIG. 7 is a plan view showing an example of a flux surface detection path by a sensor.
FIG. 8 is a front view showing a detection state of a flux surface by a sensor.
FIG. 9 is a control system diagram for controlling the thickness of the flux film.
FIG. 10 is an explanatory diagram showing a detection method by a sensor and its output.
FIGS. 11A and 11B show an example of an abnormality that occurs on the surface of the scraped and averaged flux, where FIG. 11A is a plan view and FIG. 11B is an enlarged view;
FIG. 12 is a characteristic diagram showing an example of output from a sensor.
13A and 13B show another embodiment of the sensor used in the present invention, in which FIG. 13A is a front sectional view of the sensor, and FIG. 13B is a characteristic diagram of its output.
FIG. 14 is a configuration diagram showing an example of a solder ball mounting apparatus to which the present invention is applied.
FIG. 15 is a process diagram showing a solder ball adsorption process;
FIG. 16 is a process diagram showing a flux application process.
FIG. 17 is a process diagram showing a flux application process.
FIG. 18 is a process diagram showing a mounting process.
FIG. 19 is an enlarged view showing a state in which solder balls are mounted on the package.
FIG. 20 is a process diagram showing a flux supply process in another solder ball mounting method.
FIG. 21 is a process diagram showing a flux supply process in another solder ball mounting method;
FIG. 22 is a process diagram showing a solder ball mounting process in another solder ball mounting method;
FIG. 23 is an enlarged view showing the state of flux scraping in the flux loading process.
FIG. 24 is an enlarged view showing a problem in a flux application process.
FIG. 25 is an enlarged view showing a problem in the flux application process.
[Explanation of symbols]
2 ... solder balls, 4 ... flux, 5 ... package, 5a ... connection terminals,
6 ... Alignment mask, 6a ... Hole, 24 ... Flux tank, 43 ... Sensor,
60, 61 ... Squeegee.
Claims (2)
前記フラックス槽のフラックス膜形成領域の両端部に、少なくとも導電性ボールの直径より大きい段差で低くなっている段差部を形成し、フラックス膜形成領域と段差部の接続面が、フラックス膜形成領域の下方に侵入する傾斜面で形成されていることを特徴とする導電性ボール搭載装置におけるフラックス供給装置。 After adsorbing the conductive balls with an alignment mask in which holes for adsorption are formed in the same arrangement as the connection terminals formed on the package, the conductive balls are mounted on the connection terminals of the package by the adhesive force of the flux. A flux supply device in a conductive ball mounting device , which is formed in a flux tank that contains a gel-like flux, a squeegee that moves along the flux tank to form a flux film of a predetermined thickness, and the flux tank In the flux supply device in the conductive ball mounting device provided with a sensor for detecting the thickness of the flux film, which is arranged at a predetermined interval from the surface of the flux film formed ,
At both ends of the flux film forming region of the flux tank, a stepped portion that is lower by at least a step larger than the diameter of the conductive ball is formed, and a connection surface between the flux film forming region and the stepped portion is the flux film forming region. A flux supply device in a conductive ball mounting device, wherein the flux supply device is formed with an inclined surface that penetrates downward.
前記フラックス槽のフラックス膜形成領域の両端部に、少なくとも導電性ボールの直径より大きい段差で低くなっている段差部を形成し、フラックス膜形成領域と段差部の接続面が、フラックス膜形成領域の下方に侵入する傾斜面で形成されていることを特徴とする導電性ボール搭載装置におけるフラックス供給装置。 After adsorbing the conductive balls with an alignment mask in which holes for adsorption are formed in the same arrangement as the connection terminals formed on the package, the conductive balls are mounted on the connection terminals of the package by the adhesive force of the flux. met flux supply device in the conductive ball mounting apparatus, and a flux bath containing a gel-like flux, at predetermined intervals, said adjustably position the distance between the flux bath, move respectively along the flux tank A pair of squeegees that form a flux film of a predetermined thickness, and a conductive sensor that is disposed at a predetermined distance from the surface of the flux film formed in the flux tank and detects the thickness of the flux film. In the flux supply device in the ball mounting device ,
At both ends of the flux film forming region of the flux tank, a stepped portion that is lower by at least a step larger than the diameter of the conductive ball is formed, and a connection surface between the flux film forming region and the stepped portion is the flux film forming region. A flux supply device in a conductive ball mounting device, wherein the flux supply device is formed with an inclined surface that penetrates downward.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14855999A JP4187873B2 (en) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | Flux supply device for conductive ball mounting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14855999A JP4187873B2 (en) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | Flux supply device for conductive ball mounting device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000340933A JP2000340933A (en) | 2000-12-08 |
JP4187873B2 true JP4187873B2 (en) | 2008-11-26 |
Family
ID=15455472
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14855999A Expired - Fee Related JP4187873B2 (en) | 1999-05-27 | 1999-05-27 | Flux supply device for conductive ball mounting device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4187873B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105830552A (en) * | 2013-12-23 | 2016-08-03 | 富士机械制造株式会社 | Electronic component mounting machine |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102744487A (en) * | 2006-11-22 | 2012-10-24 | 洛科企业有限公司 | An improved ball mounting apparatus and method |
KR100803531B1 (en) | 2006-12-05 | 2008-02-14 | 어성택 | Apparatus for pumping flux in a fixed quantity |
JP4960160B2 (en) * | 2007-07-06 | 2012-06-27 | エルピーダメモリ株式会社 | Flux transfer device and electronic component mounting method |
JP5610915B2 (en) * | 2010-08-17 | 2014-10-22 | 富士機械製造株式会社 | Dip flux unit |
JP5057409B2 (en) * | 2011-02-16 | 2012-10-24 | 富士機械製造株式会社 | Flux transfer device |
JP5845421B2 (en) * | 2012-10-10 | 2016-01-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Electronic component mounting apparatus and transfer film thickness detection method |
CN109691243B (en) * | 2016-09-20 | 2022-04-26 | 株式会社富士 | Component mounting machine |
CN108581118B (en) * | 2017-03-17 | 2022-01-11 | 泰科电子(上海)有限公司 | Automatic supply system of soldering paste |
CN108941820A (en) * | 2017-05-18 | 2018-12-07 | 泰科电子(上海)有限公司 | Conducting wire robot welding system |
-
1999
- 1999-05-27 JP JP14855999A patent/JP4187873B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105830552A (en) * | 2013-12-23 | 2016-08-03 | 富士机械制造株式会社 | Electronic component mounting machine |
CN105830552B (en) * | 2013-12-23 | 2019-01-18 | 株式会社富士 | Electronic part mounting |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000340933A (en) | 2000-12-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050712 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080327 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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