JP5056709B2 - 固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
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目されている。しかし、補色系カラーフィルタは、原色系カラーフィルタより高透過率であるため、一層、上記の画質や色ムラへの影響が大きくなってくるといった問題があった。
層、複数色のカラーフィルタ、透明樹脂層、該透明樹脂層上に2次元的な配置のマイクロ
レンズを順次に積層する固体撮像素子の製造方法において、該平坦化層として、波長36
5nmの光を吸収する紫外線吸収剤を含有させた平坦化層を用い、複数色のカラーフィル
タの形成は、光の波長365nmでの透過率の高い順に形成することを特徴とする固体撮
像素子の製造方法である。
また、本発明は、前記複数色のカラーフィルタは、R(赤)、G(緑)、B(青)の原色
系カラーフィルタであり、かつ、光の波長365nmにおける透過率が8%以下であり、
前記平坦化層は、光の波長365nmでの透過率が40%以下であることを特徴とする請
求項1に記載の固体撮像素子の製造方法である。
また、本発明は、前記複数色のカラーフィルタは、Y(イエロー)、M(マゼンタ)、C
(シアン)の補色系カラーフィルタであり、かつ、光の波長365nmにおける透過率が
45%以下であり、前記平坦化層は、光の波長365nmでの透過率が20%以下である
ことを特徴とする請求項1に記載の固体撮像素子の製造方法である。
また、本発明は、前記紫外線吸収剤は、クマリン系紫外線吸収剤であることを特徴とする
請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の固体撮像素子の製造方法である。
ける透過率が8%以下であり、かつ、画素サイズが3.5μm以下の原色系カラーフィルタ、透明樹脂層、該透明樹脂層上に2次元的な配置のマイクロレンズを順次に積層する固体撮像素子の製造方法において、平坦化層として、光の波長365nmでの透過率が40%以下の平坦化層を用いるので、3.5μmさらには3.0μm以下の画素サイズにおいて、カラーフィルタの画素サイズや形状のバラツキを大幅に抑制して、画質や色ムラへの影響を低減させ、また、残渣の発生を大幅に抑制して、色ムラへの影響が低減された固体撮像素子の製造方法となる。
平坦化層の波長365nmでの反射率=(CFの波長365nmでの透過率)×(平坦化層の波長365nmでの透過率)2 ・・・・(1)
厳密には、平坦化層の下地である半導体基板の反射率を考慮しなければならないが、それぞれCFの形状を議論する上では、数式(1)で十分である。
持つ紫外線吸収剤の分光特性は、400nm〜450nmのブルー(青)に関わる可視域に若干の吸収を持つ。ところが、400nm〜450nmに吸収があると、ブルーの感度に影響することになり好ましくない。
<実施例1>
図1(b)に示すように、受光素子(11)や遮光層(12)(メタル配線やパッシベーション膜など詳細省略)の形成された半導体基板(10)上に、本発明による紫外線吸収機能を有する平坦化層(13)を、平均膜厚1.3μmにて塗布形成した。
図2(b)に示すように、受光素子(21)や遮光層(22)(メタル配線やパッシベーション膜など詳細省略)の形成された半導体基板(20)上に、本発明による紫外線吸収機能を有する平坦化層(23)を、平均膜厚1.3μmにて塗布形成した。
はレッドから行うべきであるが、レッドの波長365nmでの透過率が2色目の入色としても問題ない透過率であるため、グリーンを1色目に設定した。
11、21・・・受光素子
12、22・・・遮光層
13、23・・・平坦化層
15・・・ マゼンタ画素
16・・・ イエロー画素
17・・・ シアン画素
18、28・・・ 透明樹脂層
19、29・・・ マイクロレンズ
25・・・ グリーン画素
26・・・ レッド画素
27・・・ ブルー画素
Claims (4)
- 半導体基板上に、少なくとも受光素子、平坦化層、複数色のカラーフィルタ、透明樹脂
層、該透明樹脂層上に2次元的な配置のマイクロレンズを順次に積層する固体撮像素子の
製造方法において、該平坦化層として、波長365nmの光を吸収する紫外線吸収剤を含
有させた平坦化層を用い、複数色のカラーフィルタの形成は、光の波長365nmでの透
過率の高い順に形成することを特徴とする固体撮像素子の製造方法。 - 前記複数色のカラーフィルタは、R(赤)、G(緑)、B(青)の原色系カラーフィル
タであり、かつ、光の波長365nmにおける透過率が8%以下であり、
前記平坦化層は、光の波長365nmでの透過率が40%以下であることを特徴とする請
求項1に記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記複数色のカラーフィルタは、Y(イエロー)、M(マゼンタ)、C(シアン)の補
色系カラーフィルタであり、かつ、光の波長365nmにおける透過率が45%以下であ
り、
前記平坦化層は、光の波長365nmでの透過率が20%以下であることを特徴とする請
求項1に記載の固体撮像素子の製造方法。 - 前記紫外線吸収剤は、クマリン系紫外線吸収剤であることを特徴とする請求項1乃至請
求項3のいずれか1項記載の固体撮像素子の製造方法。
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