JP5053884B2 - ステージ装置及び露光装置 - Google Patents
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Landscapes
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
W 基板
2 原版ステージ
3 投影光学系
4 基板ステージ
100、100A ステージ装置
101 定盤
102 ステージ
103 ステージ制御部
104 パッド
105 ガイド
106 外乱オブザーバ
107 圧力制御コントローラ
120 メモリ
Claims (4)
- 基準面を有する定盤と、
被搭載物を搭載して前記基準面の上を移動可能なステージと、
前記定盤に設けられ、前記ステージを案内するガイドと、
前記ステージに設けられて前記ガイドに対向して気体を噴出するパッドを含み、前記ステージを前記ガイドから浮上した状態で支持可能な気体軸受と、
前記ステージの駆動を規定するステージ制御部と、
前記ステージの位置を検出する検出部と、
前記ステージ制御部が規定した前記ステージの駆動状態と前記検出部の検出結果から前記パッドと前記ガイドとの摩擦力を状態方程式を使用して推定する外乱オブザーバと、
前記外乱オブザーバが推定した摩擦力に基づいて前記パッドが前記ガイドに接触しないように前記気体の圧力を制御する圧力制御部と、
を有することを特徴とするステージ装置。 - 前記外乱オブザーバが推定した摩擦力と前記検出部の検出結果とを記憶するメモリを更に有し、
前記圧力制御部は前記メモリの情報に基づいて前記気体の圧力を制御することを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 光源からの光を利用して原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、
前記原版又は前記基板を駆動する請求項1又は2に記載のステージ装置を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項3に記載の露光装置を使用して基板を露光するステップと、
露光された基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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