JP5028342B2 - 液晶性化合物を包含する有機無機複合体 - Google Patents
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重合モノマーとして、ジメチルアクリルアミド(DMAA:興人株式会社製)を使用した。粘土鉱物は水膨潤性の合成ヘクトライト(商品名 ラポナイトXLG、日本シリカ株式会社製)を120℃で2時間真空乾燥させて用いた。溶媒は18Ωの超純水を用い、水は使用前に予め3時間以上窒素でバブリングさせて含有酸素を除去してから使用した。
内部を窒素置換した100mLの丸底フラスコに純水48g入れたものに、撹拌下で4.0gの合成ヘクトライトと5gのDMAAを入れ、撹拌機(シンキー株式会社製の撹拌機AR−250)で撹拌し透明な均質液を得た。この溶液を氷浴に入れ、10分間冷却した後、TEMED32μLを加え、30秒間撹拌し、次いで、KPS水溶液2mLを加え、1分間撹拌した。重合液を窒素雰囲気下でゲル調製容器中に入れた。20℃で24時間保持することで重合を進行させた。得られたゲル2は無色透明であり、十分な強度と伸縮性を有するゲルであった。
DMAAの代わりに、N,N−プロピルアクリルアミド(NIPA:興人株式会社製)5.65g、合成ヘクトライト0.8gを用いて、実施例1と同じ方法でゲル3を得た。得られたゲル3は無色透明であり、十分な強度と伸縮性を有するゲルであった。
DMAAの代わりに、NIPA5.65gを用いて、実施例1と同じ方法でゲル3を得た。得られたゲル4は無色透明であり、十分な強度と伸縮性を有するゲルであった。
重合モノマーとして、2−メトキシエチルアクリレート(MEA)(アクリックス C−1:東和合成株式会社製)とNIPAの混合物を使用した。
0.8gの合成ヘクトライトと5.2gのMEA、1.13gのNIPAを入れ(MEA/NIPA=8/2 モル/モル)を用いて、合成例1と同じ条件で重合液を調製し、同様な方法で2mm厚のゲル5のフィルムを得た。得られたゲル5は白濁していた。
合成ヘクトライト量を0.8g、2−ヒドロキシプロピルアクリレート(HPA、共栄社化学株式会社製 ライトエステルHOP−A)5.2g、DMAA1.0gを用いて、合成例1と同様な方法で、合成例1と同じ条件で重合液を調製し、同様な方法で2mm厚のゲル6のフィルムを得た。得られたゲル6は白濁していた。
DMAAの代わりに、NIPA5.65g、粘土鉱物の代わりに有機架橋剤としてN,N−メチレンビスアクリルアミド(和光純薬株式会社製)77mg(0.01モル/水1L)を使用、合成例1と同じように有機架橋ゲル1を調製した。
合成例1で得られたゲル1(50×30mm2)を500mLのメタノールに1日間浸漬させた。途中メタノールを2度交換した。4−シアノ−4’−ペンチルビフェニル(5CB、和光純薬工業株式会社製)10g、メタノール10g、アセトン1gの5CB溶液を用意し、メタノール置換したゲル1をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。5CB溶液から取り出した後、フィルムを縦横それぞれ約1.5倍に延伸し、延伸させた状態で、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶複合体フィルム1を得た。膜厚は約100ミクロンであった。
合成例2で得られたゲル2(50×30mm2)を500mLのメタノールに1日間浸漬させた。途中メタノールを2度交換した。5CB 10g、メタノール10g、アセトン1gの5CB溶液を用意し、メタノール置換した薄膜フィルムをこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。5CB溶液から取り出した後、フィルムを縦横それぞれ約1.5倍に延伸し、延伸させた状態で、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶複合体フィルム2を得た。膜厚は約0.1mmであった。
実施例2の高分子/液晶複合体2を90℃でプレス成形し、約0.05mmの均質な高分子/液晶複合体2の薄膜フィルムを得た。
TGAより求めたフィルム中の5CB量は、5CB/乾燥重量=2.3であった。高分子/液晶複合体2の薄膜フィルムは柔軟性に富んでいた。このフィルムを2枚のクロスニコル状態にした偏光板の間に挟みこみ、3分間で1℃の速度で昇温しながら、25−45℃の温度域で光透過率を測定した。昇温時には35.6℃で、降温時には35.2℃で光透過率の極大(10%)が見られた。また、25〜34℃の光透過率は2%、37〜45℃は0%であり、光透過性のコントラストは非常に高いものであった。実施例2と同じ結果が得られた。
合成例3で得られたゲル3(50×30mm2)を500mLのテトラヒドロフラン(THF)に1日間浸漬させた。途中THFを2度交換した。5CB 10g、THF10gの5CB溶液を用意し、THF置換したゲル3をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。5CB溶液から取り出した後、フィルムを縦横それぞれ約1.5倍に延伸し、延伸させた状態で、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶複合体フィルム3を得た。膜厚は約0.1mmであった。
合成例4で得られたゲル4(20×30mm2)を500mLのテトラヒドロフラン(THF)に1日間浸漬させた。途中THFを2度交換した。スメクチック液晶性化合物の4‘−オクチル−4−ビフェニルカルボニトリル(8CB、アルドリッチ株式会社製) 5g、THF5gの8CB溶液を用意し、THF置換したゲル4をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。8CB溶液から取り出した後、フィルムを縦横それぞれ約1.5倍に延伸し、延伸させた状態で、室温で1日間風乾させた。更に、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶複合体フィルム4を得た。膜厚は約0.1mmであった。
合成例4で得られたゲル4(20×30mm2)を500mLのテトラヒドロフラン(THF)に1日間浸漬させた。途中THFを2度交換した。ネマチック液晶性化合物のN−4−メトキシベンジリデン−4−ブチルアラニン(MBBA、アルドリッチ株式会社製) 10g、THF10gのMBBA溶液を用意し、THF置換したゲル4をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。MBBA溶液から取り出した後、フィルムを縦横それぞれ約1.5倍に延伸し、延伸させた状態で、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶複合体フィルム5を得た。膜厚は約0.1mmであった。
合成例5で得たゲル5を乾燥させて、乾燥フィルムを得た。ネマチック性の混合液晶3323(大日本インキ化学工業株式会社製)10g、THF10gの液晶溶液をし、ゲル5の乾燥物をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。液晶溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶複合体フィルム6を得た。膜厚は0.3mmであった。
合成例6で得たゲル6を乾燥させて、乾燥フィルムを得た。MBBA10g、THF10gの液晶溶液をし、ゲル6の乾燥物をこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。液晶溶液から取り出した後、室温で1日間風乾させた後、80℃で1日間乾燥させて、高分子/液晶複合体フィルム7を得た。膜厚は0.3mmであった。
合成例7で得られた有機架橋ゲル(50×30mm2)を500mLのメタノールに1日間浸漬させた。途中メタノールを2度交換した。5CB 10g、メタノール10gの5CB溶液を用意し、メタノール置換した有機架橋ゲルをこの中に浸漬させて、室温で1日間保持させた。5CB溶液から取り出した後、実施例と同じように延伸によりフィルムを調製しようとしたが、ゲルに伸張性が無く延伸することができなかった。また、実施例3と同じように、プレス成形によりフィルムを作成しようとしたがプレスするとゲルがバラバラになりフィルム化することができなかった。厚み約2mmの有機架橋ゲル/液晶複合体を厚さ約0.5mmにカットし、偏光顕微鏡下で観察した。30℃から40℃まで昇温した。30℃付近から光の透過性は良かった。35℃付近で明るくなり、35℃を越えると暗くなった。図6に31℃、35℃、38℃でのクロスニコル下での偏光顕微鏡写真を示す。38℃では暗くなるが、31℃でも明るく、実施例に比べて、コントラストが劣っているのが確認できる。
Claims (4)
- ラジカル重合性モノマー(A)の重合体と粘土鉱物(B)とが複合化して形成された三次元網目の中に液晶性化合物(C)が包含されている有機無機複合体。
- 請求項1記載の有機無機複合体からなり、膜厚が1〜1000μmである自立フィルム。
- クロスニコル状態にした2枚の偏光板の間に請求項1記載の有機無機複合体を挟んだ有機無機複合体素子。
- ラジカル重合性モノマー(A)の重合体と粘土鉱物(B)とが複合化して形成された三次元網目の中に、水及び/又は有機溶媒が包含されているゲルを製造した後、液晶性化合物(C)を含浸させ、次いで、前記水及び/又は有機溶媒を除去することを特徴とする請求項1記載の有機無機複合体の製造方法。
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