JP5020913B2 - タッチパネル又はディスプレイ用ハードコートフィルム - Google Patents

Description

本発明は、ハードコートフィルムに関する。
さらに詳しくは、従来のハードコートフィルムの耐擦傷性、耐磨耗性を保有しつつ、さらに指紋が付着しにくく、付着した指紋などの汚れを拭き取り易いタッチパネルやディスプレイなどの表面保護用ハードコートフィルムに関する。

従来、透明ハードコートフィルムは、各種画像表示装置、例えばＬＣＤ（液晶表示体）、タッチパネル、ＣＲＴ（ブラウン管）、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）、光ディスクなどにおいて、表面保護を始め、防眩性や反射防止などの目的に用いられている。
又、近年市場が増大している携帯用の情報端末への入力装置として、タッチパネルが利用されている。このタッチパネルは、ディスプレイ画面を直接指、ペンなどで触れることによってデータを入力する装置である。上記タッチパネルは、現在約９割が抵抗膜方式を採用している。該抵抗膜方式のタッチパネルは、一般に透明プラスチック基材の片面に錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）膜などの透明導電性薄膜を積層したタッチ側プラスチック基板と、ガラスなどの透明基材の片面にＩＴＯ膜などの透明導電性薄膜を積層したディスプレイ側透明基板とを、絶縁スペーサーを介して、各透明導電性薄膜が向き合うように対向配置させた構造を有している。そして、入力は、ペンや指でタッチ側プラスチック基板のタッチ入力面（透明導電性薄膜とは反対側の面を言う。）を押圧し、タッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜とディスプレイ側透明基板の透明導電性薄膜とを接触させて行う。
しかしながら、このような抵抗膜方式タッチパネルにおいては、入力操作を繰り返すことにより、すなわちタッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜とディスプレイ側透明基板の透明導電性薄膜とを接触を繰り返すことにより、タッチ側表面を損傷したり、タッチ側プラスチック基板（基材フィルム）の透明導電性薄膜が磨耗したり、クラックが発生したり、さらには基材から剥離してしまうなどの問題を生ずる。そこで、このような問題を解決するために、一般にタッチ側表面及び透明プラスチック基材と透明導電性薄膜との間に、合成樹脂からなるハードコート層を設けることが行われている。
従来のハードコート層を基材フィルム上に熱硬化や電離放射線硬化などによって形成保持するハードコートフィルムは、汚れ防止や汚れ除去性を付与するためにシリコーン系化合物やフッ素系化合物を添加することがよく行われてきた。しかし、撥水性の高いこれらの表面には必ずしも指紋が付着しにくいわけではなく、むしろ指紋の付着が目立ち易い結果となっている。すなわち、これらの処方は食品や化粧品などの生活使用品の付着が起こりにくく、且つ除去し易いというものでしかない。従来のハードコートフィルムは、指で入力操作によって指紋が残り、この指紋を容易に拭き取り消去できない欠点がある。

本発明は、従来のハードコートフィルムの耐擦傷性、耐磨耗性を保有しつつ、指先入力タッチ面に指紋が付着しにくく、付着した指紋などの汚れを拭き取り易いタッチパネルやディスプレイなどの表面保護用ハードコートフィルムを提供することを目的としている。

本発明者らは、鋭意研究の結果、ハードコート層が（Ａ）電離放射線による硬化型樹脂と、（Ｂ）非イオン界面活性剤を含有することによって、上記の課題を解決しうることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するにいたった。
すなわち本発明は、
（１）基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を設けたハードコートフィルムにおいて、該ハードコート層が（Ａ）電離放射線硬化型樹脂１００重量部及び（Ｂ）ポリオキシアルキレン付加脂肪酸エステル又はポリオキシエチレンコレステリルエーテル若しくはポリオキシエチレンデシルテトラデシルエーテルからなるＨＬＢ２〜１５の非イオン界面活性剤０.１〜１０重量部を含有することを特徴とするタッチパネル又はディスプレイ用ハードコートフィルム、
（２）非イオン界面活性剤が、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセン及びポリオキシエチレンコレステリルエーテルの少なくとも１種である第１項記載のタッチパネル又はディスプレイ用ハードコートフィルム、
（３）ハードコート層に平均粒径０.１〜１０μｍの微粒子を（Ａ）電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し０.１〜２０重量部含む第１項記載のタッチパネル又はディスプレイ用ハードコートフィルム、及び
（４）平均粒径０.１〜１０μｍの微粒子がシリカゲル微粒子である第３項記載のタッチパネル又はディスプレイ用ハードコートフィルム、
を提供するものである。

本発明によって、従来のハードコートフィルムの耐擦傷性、耐磨耗性を保有しつつ、指先入力タッチ面に指紋が付着しにくく、付着した指紋などの汚れを拭き取り易いタッチパネルやディスプレイなどの表面保護用に用いられるハードコートフィルムを提供することができる。

本発明ハードコートフィルムのハードコート層は、（Ａ）電離放射線硬化型樹脂及び（Ｂ）非イオン界面活性剤よりなるハードコート層形成成分を含有する塗工液を、基材フィルムの片面又は両面に塗布し、電離放射線硬化させることによって形成することができる。

以下に、図面によって本発明を説明する。図面は一態様を示すものであって、本発明はこれらの図面によりなんら限定されるものではない。
図１は、抵抗膜式タッチパネル表面積層部の断面図を示す。本発明のハードコートフィルムは抵抗膜式タッチパネル表面積層部に使用することができる。この図１では、ハードコート層１及び１'が基材フィルム２の両面に設けられている一態様を示している。片面のみにハードコート層１が設けられているものも本発明の実施態様となる。
透明導電性薄膜３は、絶縁スペース４及び絶縁スペーサー５を挟んで、タッチ側透明導電性薄膜３とディスプレイ側透明導電性薄膜３'が対峙している。本発明のハードコート層１の指先入力タッチ面をペンや指で押圧すると、基材フィルム２及びタッチ側ハードコート層１'を通して伝達される圧力でタッチ側透明導電性薄膜３とディスプレイ側透明導電性薄膜３'が接触し入力することができる。指先入力タッチ面のハードコート層１からディスプレイ側のガラス基板６までの積層部によって、抵抗膜式タッチパネル表面積層部を形成することができる。
図２は、光ディスク表面積層部の断面図を示す。本発明ハードコートフィルムは、ＣＤやＤＶＤなどの光ディスクの表面保護のために使用することができる。
ハードコート層１が基材フィルム２の表面に設けられているハードコートフィルムを使用し、粘着剤層７を介して光ディスク基板８に貼付されている一態様を示している。

本発明ハードコートフィルムのハードコート層１及び１'の形成成分に用いる電離放射線硬化型樹脂は公知のものを特に制限することなく使用することができ、光重合性モノマー又は光重合性プレポリマーを単独又は併用して、所望により光重合開始剤を加えて、使用することができる。

本発明ハードコートフィルムのハードコート層１及び１'の形成成分に用いる光重合性モノマーとしては、例えば１,４−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸オキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの多官能アクリレートを挙げることができる。これらの光重合性モノマーは単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。また、光重合性プレポリマーと併用することができる。

光重合性プレポリマーには、ラジカル重合型とカチオン重合型とがあり、ラジカル重合型光重合性プレポリマーとしては、例えば、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系などが挙げられる。ここで、ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、又は、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラックエポキシ樹脂のオキシラン環と、(メタ)アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えばポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、(メタ)アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。ポリオールアクリレート系プレポリマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。これらの光重合性プレポリマー単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。
カチオン重合型光重合性プレポリマーとしては、エポキシ系樹脂が通常使用される。エポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノールやノボラック樹脂などの多価フェノール類にエピクロルヒドリンなどでエポキシ化した化合物、直鎖状オレフィン化合物や環状オレフィン化合物を過酸化物などで酸化して得られた化合物などが挙げられる。

本発明ハードコートフィルムのハードコート層１形成成分に所望により用いる光重合開始剤としては、ラジカル重合型光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアセトフェノン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２,２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−[４−(メチルチオ)フェニル]−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−(２−ヒドロキシエトキシ)フェニル−２(ヒドロキシ−２−プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４,４'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリーブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２,４−ジメチルチオキサントン、２,４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エステルなどが挙げられる。

また、カチオン重合型光重合性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。また、光重合開始剤の配合量は、前記光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマー１００重量部に対して、通常０.２〜１０重量部の範囲で選ばれる。
本発明ハードコートフィルムのハードコート層は、（Ａ）電離放射線硬化型樹脂１００重量部に（Ｂ）非イオン界面活性剤を０.１〜１０重量部含有したものを使用することによって本発明の目的を達成することができる。０.１重量部未満では添加効果がなく、１０重量部を超えると本発明ハードコートフィルムのハードコート層の性能を劣化させ、いずれも本発明に用いる非イオン界面活性剤の量としては不適当である。好ましくは０.５〜８重量部の非イオン界面活性剤を使用することができる。上記条件に適合する非イオン界面活性剤であれば公知のものを特に制限なく使用することができるが、ＨＬＢ２〜１５の非イオン界面活性剤を使用することが好ましく、ＨＬＢ４〜１４の非イオン界面活性剤を使用することがより好ましい。ＨＬＢ２未満では親油性が強過ぎ、また、１５を超えるものは親水性が強過ぎていずれも指紋が付着しやすくなるおそれがある。非イオン界面活性剤は水に溶けてイオン性を示さない界面活性剤を総称するが、他の界面活性剤同様に疎水基（親油基）と親水基との組合せ結合によってできている。

疎水基（親油基）は炭素数１２〜２０程度の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、芳香脂肪族炭化水素基等が主体部分を構成し、これに、エステル（−ＣＯＯ−）、エーテル（−Ｏ−）、アミド（−ＣＯＮＨ−）、チオエーテル（−Ｓ−）、チオアミド（−ＳＯＮＨ−）、スルホアミド（−ＳＯ₂ＮＨ−）、尿素結合（−ＮＨＣＯＮＨ−）、ウレタン結合（−ＮＨＣＯＯ−）などの結合基、アシル基（ＲＣＯ−）、アルコキシル基（ＲＯ−）、複素環もしくは、いろいろな連結基などを導入したもの、さらにＳｉ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｚｒなどの金属を導入した有機金属系の特殊な疎水基（親油基）も使用される。疎水性（親油性）の強さはパラフィン系脂肪族が最大で、次いでオレフィン系脂肪族、芳香脂肪族、芳香族の順である。
親水基はポリオキシエチレン鎖や、多価アルコール類の水酸基、含窒素基などが使用される。親水基原料としては、ポリエチレングリコール、エチレンオキシドやプロピレンオキシドなどのアルキレンオキシド、グリセリン、ソルビタン、蔗糖、ジエタノールアミンなどが多用される。
上記疎水基（親油基）と親水基との組合せ結合によって、多種多様の性能の非イオン界面活性剤を得ることができる。

本発明ハードコート層における（Ｂ）成分の非イオン界面活性剤には、特に好適に脂肪酸エステルを使用することができる。
本発明に用いる脂肪酸エステルは、本発明非イオン界面活性剤に適したものであれば、１価アルコール又は２価以上の多価アルコールと脂肪酸との縮合による脂肪酸エステルを特に制限なく使用することができる。例えば、プロピレングリコールモノステアリン酸エステル、プロピレングリコールモノラウリン酸エステル、ジエチレングリコールモノステアリン酸エステル、ジエチレングリコールモノラウリン酸エステル、グリセロールモノステアリン酸エステル、ソルビタンセスキオレイン酸エステル、ソルビタンモノオレイン酸エステル、ソルビタンモノステアリン酸エステル、ソルビタンモノパルミチン酸エステル、ソルビタンモノラウリン酸エステル等を使用することができる。
本発明に用いる脂肪酸エステルは、ポリオキシアルキレン付加脂肪酸エステルを使用することができる。非イオン界面活性剤に適したものであれば、公知の脂肪酸エステルに酸化アルキレンを付加重合させて得た公知の非イオン界面活性剤を使用することができる。付加重合させる酸化アルキレンは酸化エチレン又は酸化プロピレンを特に好適に使用することができ、酸化エチレン付加重合型が多用されている。酸化エチレン又は酸化プロピレンは、それぞれ単独で付加重合させてもよく、共重合付加させたものでもよい。

本発明に用いるポリオキシアルキレン付加脂肪酸エステルは、本発明非イオン界面活性剤に適したものであれば公知のポリオキシアルキレン付加脂肪酸エステルを使用することができる。例えば、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン、ポリオキシエチレン（４）ソルビタンモノステアリン酸エステル、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノステアリン酸エステル、ポリオキシエチレン（４）ソルビタントリステアリン酸エステル、ポリオキシエチレン（５）ソルビタンモノオレイン酸エステル、ポリオキシエチレン（５）ソルビタンモノオレイン酸エステル、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタントリオレイン酸エステル、ポリオキシエチレン（４）ソルビタンモノラウリン酸エステル、ポリオキシエチレングリコール４００モノオレイン酸エステル、ポリオキシエチレングリコール４００モノモノステアリン酸エステル、ポリエチレングリコール４００モノラウリン酸エステル、ポリオキシエチレン（４）ソルビタンモノラウリン酸エステル等の非イオン界面活性剤を使用することができる。ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリンを特に好適に使用することができる。
また、脂肪酸エステル以外の界面活性剤として、ポリオキシエチレンコレステリルエーテルやポリオキシエチレンデシルテトラデシルエーテルなども使用できる。

ＨＬＢ（Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ−Ｂａｌａｎｃｅ親水性−親油性−バランス）指数は、界面活性剤の特性を示す重要な指数であって、親水性又は親油性の大きさの程度を示す。ＨＬＢ指数は次の計算式によって求めることができる。
ＨＬＢ＝７＋１１.７Ｌｏｇ（Ｍ_W／Ｍ_o）
ここにＭ_Wは親水基の分子量、Ｍ_oは親油基の分子量である。Ｍ_W＋Ｍ_o＝Ｍ（界面活性剤の分子量）である。
親水基がポリオキシエチレン鎖、多価アルコール（グリセリン、グリコール、ソルビット、マンニットなど）に限定される場合の非イオン界面活性剤については、実用計算上次の計算式によって求めることができる。
ＨＬＢ＝２０×Ｍ_W／Ｍ＝２０×（Ｍ−Ｍ_o）／Ｍ
公知の通常よく使用される界面活性剤のＨＬＢ値を例示すると、ソルビタントリオレイン酸エステルは１.８、ソルビタントリステアリン酸エステルは２.１、プロピレングリコールモノラウリン酸エステル４.５、ソルビタンモノパルミチン酸エステル６.７、ポリオキシエチレン（４）ソルビタントリステアリン酸エステル１０.５、ポリオキシエチレングリコール４００モノオレイン酸エステル１１.４、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノオレイン酸エステル１５.０などとなっている。

本発明のハードコート層形成成分を含有する塗工液は、ハードコート層形成成分を必要に応じて有機溶剤によって希釈、溶解して塗布することができる。本発明のハードコート層１を基材フィルム２上に形成する目的を達成できるものであれば、特に制限することなく公知の有機溶剤を使用することができる。例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、イソホロンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤を単独又は混合して使用することができる。塗工液の濃度、粘度は状況、目的に応じて適宜選択することができる。
本発明のハードコート層１を形成するための塗工方法は、本発明のハードコート層を形成する目的を達成できるものであれば、特に制限することなく公知のものを使用することができる。例えばバーコート法、ナイフコート法、マイヤーバー法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて塗工することができる。

本発明のハードコート層１の電離放射線硬化型樹脂を硬化させるために用いる電離放射線は、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線等を使用することができる。紫外線を特に好適に使用することができる。
本発明のハードコート層１形成に用いる紫外線照射は、高圧水銀ランプ、ヒュージョンＨランプ、キセノンランプなどによって得られ、照射量は、通常１００〜５００ｍＪ／ｃｍ²のものを使用することができる。
本発明のハードコート層１に用いる電子線照射は、電子線加速器などによって得られ、照射量は、通常１５０〜３５０ｋＶのものを使用することができる。電子線を使用する場合には、重合開始剤を添加することなく、硬化膜を得ることができる。
本発明ハードコートフィルムのハードコート層１の硬度は、鉛筆硬度でＨ以上であれば、ハードコートフィルムに必要な耐スクラッチ性を備えることができる。耐スクラッチ性をより十分なものにするには、鉛筆硬度で２Ｈ以上のものが特に好適である。また、該ハードコート層の厚さは２〜２０μｍの範囲で選定される。この厚さが２μｍ未満では耐擦傷性が不十分となるし、２０μｍを超えるとクラックが発生することがあり、また、生産性の面で不利となる。従って該ハードコート層の厚さは２〜１５μｍの範囲が好ましい。
本発明ハードコートフィルムのハードコート層には、防眩性を付与する目的で、表面に凹凸形状を形成させることができる。凹凸形状を形成するには、例えば電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工後、この未硬化層表面に凹凸形状を有する賦形フィルムをラミネートし、該未硬化層を熱硬化処理又は電離放射線による硬化処理した後、上記賦形フィルムを剥離する方法などを用いることができる。

本発明ハードコートフィルムに用いる基材フィルム２は、従来光学用ハードコートフィルムの基材として使用されている公知のプラスティックフィルムから適宜選択して使用することができる。
例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリウレタン樹脂フィルム、ノルボルネン系重合体フィルム、環状オレフィン系重合体フィルム、環状共役ジエン系重合体フィルム、ビニル脂環式炭化水素重合体フィルム等を使用することができる。
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系重合体フィルム等を特に好適に使用することができる。
この基材フィルム２の厚さは、特に制限はないが、通常２０〜３００μｍ、好ましくは５０〜２５０μｍの範囲である。２０μｍ未満では機械的強度が不足し、タッチパネルに用いた際のペン入力に対する変形が大きくなりすぎ、耐久性が不十分となるおそれがあり、一方３００μｍを越えるとタッチパネルに用いた際に、フィルムを変形させるための荷重が大きくなり、好ましくない。

また、この基材フィルム２は、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、プライマー処理、又は酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線処理などが挙げられ、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。
本発明ハードコートフィルムのハードコート層１形成成分に用いる平均粒径０.１〜１０μｍの微粒子は、ハードコート層に電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対して０.１〜２０重量部含有することにより防眩性を付与することができる。平均粒径が０.１μｍより小さいと防眩性付与効果がなく、１０μｍを超えるとハードコート層の物性を低下させる。好ましくは平均粒径０.５〜８μｍの微粒子を使用することができる。添加量が０.１重量部より少ないと防眩性付与に効果がなく、２０重量部を超えるとハードコート層の物性を低下させる。好ましくは０.５〜１５重量部の微粒子を使用することができる。本発明ハードコート層に用いる微粒子は、防眩性付与に効果があるものを特に制限することなく、選択して使用することができるが、シリカゲルを特に好適に使用することができる。シリカゲル微粒子は、主成分がＳｉＯ₂で構成され、その微粒子表面に水酸基（シラノール基）を有するものであってもよいし、有機修飾されたものであってもよい。

以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
ハードコートフィルムの性能評価方法
１）全光線透過率（Ｔｔ）及びヘイズは、ヘイズメーター［日本電色工業(株)製、ＮＤＨ２０００］を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠して測定した。
２）接触角は、接触角計［(株)協和界面科学製、型式「ＣＡ−Ｄ」］を用いて液滴法によって測定した。液滴法はハードコート層表面に精製水の液滴（直径２ｍｍ）を滴下し、ハードコート層表面と精製水の接触角を測定した。
３）指紋付着防止性は、被検体のハードコートフィルムをハードコート層表面が上になるように黒色板上に置き、ハードコート層表面に指をゆっくり押し当てて、付着した指紋の跡を視認できるか否かを判定した。この判定は無作為に抽出した試験者１０人によって行い、付着した指紋の跡を視認できなかった人数で指紋付着防止性を１０点満点で表した。指紋付着性には個人差があるが、本試験は１０人の試験者を無作為に選択したので、平均的な指紋付着性に対する試験と考えられる。
４）指紋拭き取り性は、指紋付着防止性試験で指紋の跡が視認できた場合に限り試験を行い、そのハードコート層表面を、試験者１０人が綿メリヤス布を指先に巻き、５回軽く拭き、目視観察によって拭き取り性を以下の標準で評価した。
Ａ：拭き跡が残らなかった。Ｂ：拭き跡がわずかに残った。Ｃ：拭き跡が残った。各実施例、各比較例について、試験者１０人によるＡ、Ｂ、Ｃ評価の人数で表示した。指紋付着防止性試験で指紋の跡が視認できなかった場合の指紋拭き取り性の表示はＡ１０とした。
５）鉛筆硬度の測定は、鉛筆引掻塗膜硬さ試験機［(株)東洋精機製作所製、型式「ＮＰ」］を用いて、ＪＩＳ Ｋ ５４００に準拠して測定した。

実施例１
電離放射線硬化型樹脂として、ウレタンアクリレート系の紫外線硬化型ハードコート剤［荒川化学工業(株)製、ビームセット５７５ＣＢ］（固形分濃度１００重量％）１００重量部に、非イオン界面活性剤としてポリオキシエチレン硬化ヒマシ油［日本エマルション(株)製、ＥＭＡＬＥＸ ＨＣ−２０（ＨＬＢ：９）］を１.５重量部添加し、さらに全体の固形分濃度が４５重量％になるようにシクロヘキサン：エチルセロソルブ＝１：１の混合溶剤で希釈してハードコート層形成成分を含有する塗工液を調製した。調製したハードコート層形成成分を含有する塗工液を基材フィルムとして厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム［東洋紡績(株)製、Ａ４３００］の片面に、マイヤーバーＮｏ８で塗布した。７０℃で１分乾燥した後、ＵＶ光量２５０ｍＪ／ｃｍ²で硬化させハードコートフィルムとした。硬化後のハードコート層の厚みは４.５μｍであった。得られたハードコートフィルムの評価結果を、実施例２、３、４、５の結果と共に第１表に示す。実施例１の指紋付着防止性の試験結果は、試験者８人が指紋跡なしと判定し、指紋拭き取り性もＡ１０で試験者全員が拭き跡が残らなかったとの評価であった。
実施例２
実施例１の非イオン界面活性剤をポリオキシエチレン硬化ヒマシ油［日本エマルション(株)製、ＥＭＡＬＥＸ ＨＣ−７（ＨＬＢ：５）］に変えた以外は、実施例１と同様にハードコートフィルムを作製した。指紋付着防止性の試験結果は、試験者７人が指紋跡なしと判定し、指紋拭き取り性もＡ１０で試験者全員が拭き跡が残らなかったとの評価であった。

実施例３
実施例１で、さらに平均粒子径１.４μｍのシリカゲル［富士シリシア化学(株)製、サイシリア３１０］を３重量部添加した以外は、実施例１と同様にハードコートフィルムを作製した。指紋付着防止性の試験結果は、試験者１０人全員が指紋跡なしと判定したので、指紋拭き取り性はＡ１０の評価とした。
実施例４
実施例３の非イオン界面活性剤をモノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン［日本エマルション(株)製、ＥＭＡＬＥＸ ＣＳ−１０（ＨＬＢ：９）］に変えた以外は実施例３と同様にハードコートフィルムのサンプルを作製した。指紋付着防止性の試験結果は、試験者１０人全員が指紋跡なしと判定したので、指紋拭き取り性はＡ１０の評価とした。
実施例５
実施例３の非イオン界面活性剤をポリオキシエチレンコレステリルエーテル［日本エマルション(株)製、ＥＭＡＬＥＸ ＧＬ−１５（ＨＬＢ：１３）］に変え、さらに紫外線硬化型ハードコート剤をポリエステルアクリレート系の紫外線硬化型ハードコート剤［大日精化工業(株)製、セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）］に変えた以外は実施例３と同様にハードコートフィルムのサンプルを作製した。指紋付着防止性の試験結果は、試験者１０人全員が指紋跡なしと判定したので、指紋拭き取り性はＡ１０の評価とした。

比較例１
実施例１の非イオン界面活性剤の代わりに、ジメチルシロキサン骨格を有するレベリング剤［東レダウコーニングシリコーン(株)製、ＳＨ２８ＰＡ］を０.１重量部添加した以外は、実施例１と同様にハードコートフィルムを作製した。得られたハードコートフィルムの評価結果を、比較例２、３、４の結果と共に第２表に示す。
指紋付着防止性の試験結果は、試験者１０人全員が指紋跡ありと判定し、指紋拭き取り性もＡ０、Ｂ１、Ｃ９の評価であり最も悪い性能を示した。なお、Ａ０、Ｂ１、Ｃ９は、Ａと評価した人数が０人、Ｂと評価した人数が１人、Ｃと評価した人数が９人であることを意味する（以下各比較例とも同様にして表記する）。
比較例２
実施例１の非イオン界面活性剤を添加しなかった以外は、実施例１と同様にハードコートフィルムを作製した。指紋付着防止性の試験結果は、試験者１０人の内８人が指紋跡ありと判定し、指紋拭き取り性はＡ０、Ｂ２、Ｃ８の評価であった。
比較例３
実施例３の非イオン界面活性剤の代わりに、ジメチルシロキサン骨格を有するレベリング剤［東レダウコーニングシリコーン(株)製、ＳＨ２８ＰＡ］に変えた以外は、実施例３と同様にハードコートフィルムを作製した。
指紋付着防止性の試験結果は、試験者１０人の内７人が指紋跡ありと判定し、指紋拭き取り性はＡ０、Ｂ３、Ｃ７の評価であった。
比較例４
実施例３の非イオン界面活性剤の代わりに、フッ素系添加剤［日本油脂(株)製、モディパーＦ−２００］を０.１重量部に変えた以外は、実施例３と同様にハードコートフィルムを作製した。
指紋付着防止性の試験結果は、試験者１０人の内６人が指紋跡ありと判定し、指紋拭き取り性はＡ０、Ｂ４、Ｃ６の評価であった。

本発明によって、従来のハードコートフィルムの耐擦傷性、耐磨耗性を保有しつつ、指先入力タッチ面に指紋が付着しにくく、付着した指紋などの汚れを拭き取り易いタッチパネルやディスプレイなどの表面保護用に用いられるハードコートフィルムを提供することができる。

図１は、抵抗膜式タッチパネル表面積層部の断面図を示す。 図２は、光ディスク表面積層部の断面図を示す。

符号の説明

１、１’ ハードコート層
２ 基材フィルム
３、３’ 透明導電性薄膜
４ 絶縁スペース
５ 絶縁スペーサー
６ ガラス基板
７ 粘着剤層
８ 光ディスク基板

Claims (4)

1. 基材フィルムの少なくとも片面にハードコート層を設けたハードコートフィルムにおいて、該ハードコート層が（Ａ）電離放射線硬化型樹脂１００重量部及び（Ｂ）ポリオキシアルキレン付加脂肪酸エステル又はポリオキシエチレンコレステリルエーテル若しくはポリオキシエチレンデシルテトラデシルエーテルからなるＨＬＢ２〜１５の非イオン界面活性剤０.１〜１０重量部を含有することを特徴とするタッチパネル又はディスプレイ用ハードコートフィルム。
2. 非イオン界面活性剤が、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセン及びポリオキシエチレンコレステリルエーテルの少なくとも１種である請求項１記載のタッチパネル又はディスプレイ用ハードコートフィルム。
3. ハードコート層に平均粒径０.１〜１０μｍの微粒子を（Ａ）電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対し０.１〜２０重量部含む請求項１記載のタッチパネル又はディスプレイ用ハードコートフィルム。
4. 平均粒径０.１〜１０μｍの微粒子がシリカゲル微粒子である請求項３記載のタッチパネル又はディスプレイ用ハードコートフィルム。
   

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