JP5011939B2 - レーザ微細加工装置 - Google Patents

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本発明は、加工用レーザ光を照射して加工対象物の加工面に微細なピットを作製するレーザ微細加工装置に関する。
従来より、光加工ヘッドから出射される加工用レーザ光を平板状の加工対象物に照射し、該加工対象物の加工面に微細なピットを作製するレーザ微細加工装置が知られている。このレーザ微細加工装置において、ターンテーブル上に固定された加工対象物にレーザ光を照射し加工する装置として、例えば特許文献1に示されるようなものがある。
この特許文献1に示されるレーザ描画装置は、ターンテーブルに一枚の加工対象物をターンテーブルの回転中心と加工対象物の中心が略一致するよう固定してターンテーブルを回転させ、回転する加工対象物の加工面に直接レーザ光を照射して加工を施すものである。
特開2001−133987号公報
しかしながら、従来のレーザ描画装置の構成によるレーザ微細加工装置では、ターンテーブルにセットして加工できる加工対象物の枚数が一枚であることから、加工対象物の交換が煩雑で加工タクトが長く、効率的な加工が困難である。
また、加工用レーザ光が照射される位置の線速度が一定になるようターンテーブルを回転させて加工を行う場合、加工用レーザ光が照射される位置が回転中心付近になるとターンテーブルの回転が速くなるため、回転制御の精度は、回転中心から離間した位置に比べて劣る。また、回転速度には限界があるため中心部に近づくと線速度一定での制御ができなくなる場合もある。さらに、ターンテーブルの回転中心と加工対象物の中心とを精度よく一致させることは困難であり、ターンテーブルの回転中心に加工用レーザ光の半径方向移動線が含まれるよう調整することも困難である。このため、ターンテーブルの回転中心付近では加工対象物に高精度な加工を施すことは困難であった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、複数の加工対象物を同時に加工できるようにすることで加工効率を向上させることが可能で、ターンテーブルの回転中心を意識することなく高精度な加工が可能なレーザ微細加工装置を提供することにある。
請求項1記載のレーザ微細加工装置は、加工対象物と厚みが略同一な平板状で、厚み方向に貫通すると共に挿嵌された加工対象物の位置を規制する装着孔が複数穿設された加工対象物固定治具と、加工対象物固定治具及び装着孔に装着された加工対象物を吸着して回転するターンテーブルと、加工対象物からの反射光に基づきフォーカスエラー信号を生成し、フォーカスエラー信号に基づいて加工用レーザ光の焦点が加工対象物上に合うようにフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ手段とを備え、複数の装着孔のそれぞれが加工対象物固定治具の回転中心から離間して設けられ、加工対象物の加工面と加工対象物固定治具の非吸着面との高さが略同一であり、フォーカスエラー信号にS字波形が生じるS字検出距離を、加工対象物の加工面と加工対象物固定治具の非吸着面との段差の3〜10倍相当としたことを特徴とする。
請求項2記載のレーザ微細加工装置は、加工対象物固定治具とターンテーブルとが一体に形成されていることを特徴とする。
請求項3記載のレーザ微細加工装置は、フォーカスサーボ手段が、フォーカスエラー信号に基づいて加工用レーザ光の焦点位置を制御するための信号を生成するサーボ回路を備え、サーボ回路におけるカットオフ周波数を、加工対象物と加工対象物固定治具の装着孔との間の隙間により発生する信号成分の周波数の2.5分の1〜15分の1相当としたことを特徴とする。
請求項4記載のレーザ微細加工装置は、加工対象物が、LEDウェハーであることを特徴とする。
請求項1の発明によれば、加工対象物固定治具に加工対象物を装着するための複数の装着孔が設けられ、複数の加工対象物を同時に加工できることから、加工効率を向上させることが可能である。また、装着孔のそれぞれが加工対象物固定治具の回転中心から離間して設けられ、加工対象物が加工対象物固定治具の回転中心から離れた位置に固定されることから、回転中心において高精度な加工が困難であるという問題を考慮する必要がなく、回転中心を意識することなく高精度な加工が可能である。さらに、フォーカスサーボを行うために加工対象物からの反射光に基づいて生成されるフォーカスエラー信号においてS字波形が生じるS字検出距離を、加工対象物の加工面と加工対象物固定治具の非吸着面との段差の3〜10倍相当としたことから、段差がある場所においても、加工用レーザ光の焦点位置が加工対象物の加工面と加工対象物固定治具の非吸着面に合うようにフォーカスサーボを行うことが可能であり、加工が中断することがないため、効率のよい加工が可能となる。
請求項2の発明によれば、加工対象物固定治具とターンテーブルとが一体に形成されていることから、ターンテーブルに加工対象物を固定するのみでよく、作業効率を向上させることができる。
請求項3の発明によれば、加工用レーザ光の焦点位置を制御するための信号を生成するサーボ回路のカットオフ周波数を、加工対象物と加工対象物固定治具の装着孔との間の隙間により発生する信号成分の周波数の2.5分の1〜15分の1相当としたことから、隙間がある場所においてフォーカスエラー信号が乱れてもサーボ回路はその乱れを無視してサーボ信号を生成するので、加工用レーザ光の焦点位置がフォーカスサーボが外れるような変動をすることはなく、加工が中断することがないため効率のよい加工が可能となる。
請求項4の発明によれば、加工対象物がLEDウェハーであり、LEDウェハーの表面に微細な凹凸を高精度で作製することにより、光の取り出し効率の高いLEDを作り出すことが可能である。
以下、本発明の形態について図面を参照しながら具体的に説明する。本発明の形態におけるレーザ微細加工装置は、光加工ヘッドから対物レンズにより集光して出射される加工用レーザ光を平板状の加工対象物に照射し、加工対象物の加工面に加工用レーザ光の焦点によって微細なピットを作製するものである。図1は本発明に係るレーザ微細加工装置の構成の一例を説明する説明図、図2は同レーザ微細加工装置のウェハー固定治具の説明図、図3は同レーザ微細加工装置のS字検出距離を示す説明図、図4は同レーザ微細加工装置の構成を示す構成図である。
図1において、ウェハー5は、LEDウェハー等のディスク状の加工対象物で、表面が微細ピットを作製する加工面5aである。本発明のレーザ微細加工装置1を構成するウェハー固定治具10は、ウェハー5と厚みが略同一なディスク状で、厚み方向に貫通すると共にウェハー5を挿嵌可能な装着孔10aが複数穿設されている。この装着孔10aは、ウェハー固定治具10の回転中心から離間して設けられている。ターンテーブル12は、ウェハー5を回転させるテーブルであり、全面に吸引口12aを複数備え、ウェハー固定治具10とウェハー5を吸着可能に構成されている。光加工ヘッド200は、内部に設けられたレーザ光源から微細ピットを作製するための加工用レーザ光を出射するものである。
また、図4に示すようにレーザ微細加工装置1は、光加工ヘッド200の他、表示装置602や入力装置604を備えたコントローラ600、HF信号増幅回路102、フォーカスエラー信号生成回路104、フォーカスサーボ回路106、ドライブ回路108、発光信号生成回路204、加工用レーザ駆動回路202、スピンドルモータ300、スピンドルモータ制御回路302、フィードモータ400、フィールドモータ制御回路402等から構成されている。
次に、本発明のレーザ微細加工装置1により微細ピットをウェハー5の加工面5aに作製する手順を、図1を基に説明する。まず、図1(a)に示すように、ターンテーブル12の上にウェハー固定治具10を載置して吸着する。次に、図1(b)に示すように、ターンテーブル12に載置されたウェハー固定治具10の装着孔10aに、ウェハー5を挿嵌して吸着する。このように、ウェハー固定治具10の装着孔10aにウェハー5を挿嵌することで、ウェハー5は、加工面5aがウェハー固定治具10の非吸着面と略同一面となった状態で、位置が規制されつつターンテーブル12に固定される。この状態で、ウェハー5及びウェハー固定治具10を回転させ、図1(c)に示すように、回転するウェハー5の表面の加工面5aに向かって加工用レーザ光を照射する。
次に、レーザ微細加工装置1の具体的な作動を図4を基に説明する。入力装置604からレーザ加工開始が入力されると、コントローラ600はフィードモータ制御回路402、スピンドルモータ制御回路402、スピンドルモータ制御回路302、発光信号生成回路204及び加工用レーザ駆動回路202に作動開始を指示する。加工用レーザ光が照射される初期半径位置は、入力装置604からコントローラ600を介して予めフィードモータ制御回路402に設定されており、コントローラ600から作動開始指示があると、フィードモータ制御回路402はフィードモータ400内にあるエンコーダが出力するパルス信号から半径位置を計算し、設定された初期半径位置になるようフィードモータ400を駆動する。これによりウエハー5よりやや内側の半径位置かやや外側の半径位置から加工用レーザ光が照射されるようになる。
そして、コントローラ600は、フィードモータ400内にあるエンコーダが出力するパルス信号から半径位置を常に計算し、入力装置604から予め入力されている微細ピットの半径方向間隔と線速度から、ターンテーブル12の1回転で丁度微細ピットの半径方向間隔分、加工用レーザ光が照射される半径位置を移動する送り速度を計算してフィードモータ制御回路402に指示する。フィードモータ制御回路402は、フィードモータ400内にあるエンコーダが出力するパルス信号から送り速度を算出し、送り速度が指示された速度に合うようフィードモータ400を駆動する。またコントローラ600は、計算された半径位置と入力されている線速度から、加工用レーザ光が照射される位置の線速度が入力されている線速度になるための回転速度を計算し、スピンドルモータ制御回路302に指示する。スピンドルモータ制御回路302は、スピンドルモータ300内にあるエンコーダが出力するパルス信号から回転速度を計算し、回転速度が指示された速度になるようスピンドルモータ300を駆動する。
またコントローラ600は、入力装置604から入力されている微細ピットの円周方向間隔と線速度から、発光信号のタイミングを計算し、発光信号生成回路204に指示する。発光信号生成回路204は、指示された発光タイミングでパルス信号である発光信号を生成し加工用レーザ駆動回路202に出力する。加工用レーザ駆動回路202は入力した発光信号により加工用レーザ駆動信号(ハイレベルとローレベルからなるパルス信号)を生成し、光加工ヘッド200のレーザ照射器に出力する。そして、光加工ヘッド200は、加工用レーザ光による反射光を分割されたフォトディレクタで受光し、受光光量に相当する信号をHF信号増幅回路102に出力する。HF信号増幅回路102、フォーカスエラー信号生成回路104、フォーカスサーボ回路106及びドライブ回路108は、光加工ヘッド200の対物レンズを駆動することによる加工用レーザ光の焦点位置の制御、すなわちフォーカスサーボを行う。これにより加工用レーザ光が照射された加工面5aには、微細ピットが設定された間隔で作製されることになる。
このように、本実施の形態のレーザ微細加工装置1によれば、ウェハー固定治具10にウェハー5を装着するための複数の装着孔10aが設けられ、複数のウェハー5を同時に加工できることから、加工効率を向上させることが可能である。また、装着孔10aのそれぞれがウェハー固定治具10の回転中心から離間して設けられ、ウェハー5がウェハー固定治具10の回転中心から離れた位置に固定されることから、回転中心において高精度な加工が困難であるという問題を考慮する必要がなく回転中心を意識することなく高精度な加工が可能である。
尚、加工面5aがウェハー固定治具10の非吸着面と略同一面と説明したが、実際には、図2に示すように、加工面5aとウェハー固定治具10の非吸着面との間には段差Δtが存在する。この段差Δtが加工用レーザ光の焦点位置の制御範囲以上に大きいと、段差がある場所においてフォーカスサーボが外れてしまう。また段差Δtが加工用レーザ光の焦点位置の制御範囲より小さくても、充分小さくない場合は段差がある場所においてフォーカスサーボが外れる可能性がある。そこで、本実施例のレーザ微細加工装置1では、光加工ヘッドの光学系を調整することによって可変可能な、加工用レーザ光の焦点位置の制御可能範囲すなわち加工用レーザ光の焦点位置を一方向に変化させたとき、図4におけるフォーカスエラー信号生成回路104が出力するフォーカスエラー信号に生じるS字波形の頂点から頂点までの距離であるS字検出距離Sp−pを(図3)、段差Δtの3倍〜10倍相当としている。この関係を示すのが数1(3.5倍とした場合の式)である。
Figure 0005011939
このようにS字検出距離Sp−pを定めることにより、加工面5aとウェハー固定治具10の非吸着面との間の段差がある場所においても、加工用レーザ光の焦点位置が加工面5aとウェハー固定治具10の非吸着面に合うようにフォーカスサーボを行うことが可能であり、加工が中断することがないため、効率のよい加工が可能となる。
また、ウェハー固定治具10の装着孔10aによりウェハー5の位置を規制できるようにするため、ウェハー5の外周と装着孔10aの径は略同径であるが、実際には、図2に示すように、ウェハー5の外周と装着孔10aとの間には隙間Δxが存在する。この隙間Δxがあるとフォーカスエラー信号が乱れ、図4におけるフォーカスエラー信号に基づいて加工用レーザ光の焦点位置を制御する信号を生成し出力するフォーカスサーボ回路106がこのフォーカスエラー信号の乱れに基づいた信号を出力してしまい、加工用レーザ光の焦点位置はフォーカスサーボが外れるような変動を起こす。そこで、本実施例のレーザ微細加工装置1では、フォーカスサーボ回路106に設定されるカットオフ周波数を、隙間Δxにより発生する信号成分の周波数の2.5分の1〜15分の1相当としている。この関係を示すのが数2(2.5分の1倍とした場合の式)である。尚、V[m/s]は、加工用レーザ光が照射されている位置におけるウェハー5及びウェハー固定治具10の線速度である。
Figure 0005011939
このようにフォーカスサーボ回路106のカットオフ周波数を定めることにより、ウェハー5の外周と装着孔10aとの間の隙間がある場所においてフォーカスエラー信号が乱れても、フォーカスサーボ回路106はその乱れを無視してサーボ信号を生成するので加工用レーザ光の焦点位置はフォーカスサーボが外れるような変動をすることはなく、加工が中断することがないため、効率のよい加工が可能となる。
以上のようにS字検出距離Sp−pやフォーカスサーボ回路106のカットオフ周波数を適切な値に定めることでフォーカスサーボが行われながら、加工用レーザ光によりウェハー5の加工面5aに微細ピットが作製されていく。具体的には、まず、コントローラ600の指示により、発光信号生成回路204で発光タイミング等が制御された発光信号が生成され、その発光信号が加工用レーザ駆動回路202により加工用レーザ光の駆動信号にされ、光加工ヘッド200からウェハー5の加工面5aに向かって加工用レーザ光が照射される。
光加工ヘッド200は、ウェハー5からの反射光を分割されたフォトディテクタで受光し、受光光量に相当する信号をHF信号増幅回路102へ出力する。HF信号増幅回路102は、入力した信号を増幅してフォーカスエラー信号生成回路104へ出力する。フォーカスエラー信号生成回路104は、フォーカスエラー信号を生成してフォーカスサーボ回路106へ出力し、フォーカスサーボ回路106が加工用レーザ光の焦点位置を制御する信号を生成しドライブ回路108へ出力する。ドライブ回路108は、入力した信号に基づいて光加工ヘッド200にある対物レンズを対物レンズの光軸と平行な方向に駆動させ、加工用レーザ光の焦点位置が加工面5aに合うよう制御する。
尚、本実施の形態では、ウェハー固定治具10とターンテーブル12とをそれぞれ別体で形成した場合を説明したが、これらを一体に形成して用いることも可能である。一体にすることで、ウェハー固定治具10の固定が不要になり、ターンテーブル12にウェハー5を固定するのみでよく、作業効率を向上させることができる。
また、本実施の形態ではウェハー5をLEDウェハーとして説明したが、本発明のレーザ微細加工装置1は、高精度に微細なピットを加工面5aに作製することが可能であることから、特にLEDウェハーの加工に適している。具体的には、本発明のレーザ微細加工装置によりLEDウェハーの表面に微細な凹凸を高精度で作製することにより、光の取り出し効率の高いLEDを作り出すことが可能である。尚、ウェハー5をLEDウェハーとして説明したがこれに限定されるものではなく、加工用レーザ光を照射することにより微細ピットを作製可能な物であればどのようなものでもよい。
さらに、本実施の形態では、光加工ヘッド200が出射するレーザ光を加工用レーザ光のみにし、加工用レーザ光のウェハー5の加工面5aやウェハー固定治具10の非吸着面での反射光に基づいてフォーカスエラー信号を生成し、このフォーカスエラー信号に基づいてフォーカスサーボを行うようにしたが、フォーカスエラー信号を生成するための反射光は加工用レーザ光の反射光でなくてもよい。すなわち、光加工用ヘッド200から加工用レーザ光とサーボ用レーザ光の2つのレーザ光を照射し、サーボ用レーザ光の反射光のみを検出して、この反射光に基づいてフォーカスエラー信号を生成するようにしてもよい。
以上のように、本発明によれば、複数の加工対象物を同時に加工できるようにすることで加工効率を向上させることが可能で、ターンテーブルの回転中心を意識することなく高精度な加工が可能なレーザ微細加工装置を提供することができる。
本発明に係るレーザ微細加工装置の構成を説明する説明図である。 同レーザ微細加工装置のウェハー固定治具の説明図である。 同レーザ微細加工装置のS字検出距離を示す説明図である。 同レーザ微細加工装置の構成を示す構成図である。
符号の説明
1・・・・・レーザ微細加工装置
5・・・・・ウェハー
10・・・・ウェハー固定治具
12・・・・ターンテーブル
12a・・・吸引口
102・・・HF信号増幅回路
104・・・フォーカスエラー信号生成回路
106・・・フォーカスサーボ回路
108・・・ドライブ回路
200・・・光加工ヘッド
202・・・加工用レーザ駆動回路
204・・・発光信号生成回路
300・・・スピンドルモータ
302・・・スピンドルモータ制御回路
400・・・フィードモータ
402・・・フィードモータ制御回路
600・・・コントローラ
602・・・表示装置
604・・・入力装置

Claims (4)

  1. 光加工ヘッドから対物レンズにより集光して出射される加工用レーザ光を平板状の加工対象物に照射し、該加工対象物の加工面に該加工用レーザ光の焦点によって微細なピットを作製するレーザ微細加工装置において、
    該加工対象物と厚みが略同一な平板状で、厚み方向に貫通すると共に挿嵌された該加工対象物の位置を規制する装着孔が複数穿設された加工対象物固定治具と、
    該加工対象物固定治具及び該装着孔に装着された該加工対象物を吸着して回転するターンテーブルと、
    該加工対象物からの反射光に基づきフォーカスエラー信号を生成し、該フォーカスエラー信号に基づいて該加工用レーザ光の焦点が該加工対象物上に合うようにフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ手段とを備え、
    該複数の装着孔のそれぞれが該加工対象物固定治具の回転中心から離間して設けられ、該加工対象物の加工面と該加工対象物固定治具の非吸着面との高さが略同一であり、
    該フォーカスエラー信号にS字波形が生じるS字検出距離を、該加工対象物の加工面と該加工対象物固定治具の非吸着面との段差の3〜10倍相当としたことを特徴とするレーザ微細加工装置。
  2. 前記加工対象物固定治具と前記ターンテーブルとが一体に形成されていることを特徴とする請求項1記載のレーザ微細加工装置。
  3. 前記フォーカスサーボ手段が、前記フォーカスエラー信号に基づいて前記加工用レーザ光の焦点位置を制御するための信号を生成するサーボ回路を備え、
    該サーボ回路におけるカットオフ周波数を、前記加工対象物と前記加工対象物固定治具の装着孔との間の隙間により発生する信号成分の周波数の2.5分の1〜15分の1相当としたことを特徴とする請求項1又は請求項2記載のレーザ微細加工装置。
  4. 前記加工対象物が、LEDウェハーであることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のレーザ微細加工装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP5181919B2 (ja) * 2008-08-19 2013-04-10 パルステック工業株式会社 レーザ加工装置およびレーザ加工方法
JP5456382B2 (ja) * 2009-06-17 2014-03-26 信越ポリマー株式会社 半導体ウェーハの製造方法及びその装置
JP5614739B2 (ja) * 2010-02-18 2014-10-29 国立大学法人埼玉大学 基板内部加工装置および基板内部加工方法
JP5570323B2 (ja) * 2010-07-02 2014-08-13 住友重機械工業株式会社 レーザ加工装置及びレーザ加工方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6418594A (en) * 1987-07-13 1989-01-23 Nec Corp Focus controller for laser beam machine
JP2888339B1 (ja) * 1998-03-27 1999-05-10 直江津電子工業株式会社 被加工物保持プレート
JP2005066675A (ja) * 2003-08-27 2005-03-17 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工方法
JP2005342762A (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Murata Mfg Co Ltd レーザ加工装置

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