JP5008058B2 - 出力インピーダンス調整回路、半導体装置及び出力インピーダンス調整方法 - Google Patents

出力インピーダンス調整回路、半導体装置及び出力インピーダンス調整方法 Download PDF

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Description

本発明は、出力インピーダンス調整回路、半導体装置及び出力インピーダンス調整方法に関する。
出力インピーダンスを制御する機能を自己の回路内に有していないDDR2 SDRAMのような半導体集積回路が知られている。この半導体集積回路は、他の半導体集積回路からの制御信号により、その出力インピーダンスを調整する。その調整技術としては、例えば、DDR2 SDRAMの機能の一つであるOff−Chip Driver Impedance Adjustment(以下、「OCD」と記す)がある。OCDを用いることで、他の半導体集積回路は、DDR2 SDRAMの出力インピーダンスを調整することができる。OCDについては、例えば、JEDEC Standard No.79−2A、DDR2 SDRAM SPECIFICATION,JEDEC Solid State Technology Associationに記載されている。
図1は、従来技術における半導体装置の構成の一例を示すブロック図である。この半導体装置は、半導体集積回路101と半導体集積回路102とを具備する。半導体集積回路102の出力インピーダンスは、他の半導体集積回路101により調整される。なお、本図では、半導体集積回路102及び半導体集積回路101における一組の差動出力バッファに関わる構成を代表して示している。
半導体集積回路102は、他の半導体集積回路101からの制御信号に基づいて出力インピーダンスを調整される出力バッファを有している。半導体集積回路102は、DDR2 SDRAMのようなメモリに例示される。半導体集積回路102は、差動双方向バッファ126、プル・アップ/ダウン回路127、出力インピーダンス切替回路109を備える。
差動双方向バッファ126は、出力バッファとしての差動出力バッファ(+)121及び差動出力バッファ(−)122を含む。差動出力バッファ121、122は、それぞれ出力信号を半導体集積回路101へ出力する。差動出力バッファ121、122の出力インピーダンスは、可変であり、出力インピーダンス切替回路109からの切替信号により調整される。差動双方向バッファ126は、更に、伝送路105、106を介した半導体集積回路101からの入力信号を比較して出力する比較回路123を含む。
差動出力バッファ121の出力に接続された信号配線152は、入出力端子D120及び外部の伝送路105を介して半導体集積回路101の入出力端子D110へ接続されている。差動出力バッファ122の出力に接続された信号配線162は、入出力端子D121及び外部の伝送路106を介して半導体集積回路101の入出力端子D111へ接続されている。
プル・アップ/ダウン回路127は、差動出力バッファ121、122の電位(信号配線152、162の電位)をプル・アップ又はプル・ダウンする。プル・アップ/ダウン回路127は、第1抵抗と第2抵抗とを含む。第1抵抗は、一端を電源電位VDD(逆三角印で図示)にスイッチを介して接続され、他端を信号配線(152又は162)に接続されている。第2抵抗は、一端を接地にスイッチを介して接続され、他端を信号配線(152又は162)に接続されている。
出力インピーダンス切替回路109は、半導体集積回路101からの出力インピーダンスを調整する制御信号に基づいて、差動出力バッファ121、122の出力インピーダンスを切り替える(調整する)切替信号を差動出力バッファ121、122へ出力する。
半導体集積回路101は、半導体集積回路102へ制御信号を出力することにより、半導体集積回路102の出力バッファの出力インピーダンスを調整する。半導体集積回路101は、DMA(Direct Memory Access)コントローラのようなメモリコントローラに例示される。半導体集積回路101は、差動双方向バッファ116、プル・アップ/ダウン回路117、切替スイッチ115、出力インピーダンスコントローラ107、出力インピーダンス制御回路108、比較回路110を備える。
差動双方向バッファ116は、出力バッファとしての差動出力バッファ(+)111及び差動出力バッファ(−)112を含む。差動出力バッファ111、112は、出力信号を半導体集積回路102へ出力する。差動出力バッファ111、112の出力インピーダンスは、可変であり、出力インピーダンス制御回路108からの制御信号により調整される。差動双方向バッファ116は、更に、伝送路105、106を介した半導体集積回路102からの入力信号を比較して出力する比較回路113を含む。
差動出力バッファ111の出力に接続された信号配線151は、入出力端子D110及び外部の伝送路105を介して半導体集積回路102の入出力端子D120へ接続されている。差動出力バッファ112の出力に接続された信号配線161は、入出力端子D111及び外部の伝送路106を介して半導体集積回路102の入出力端子D121へ接続されている。
プル・アップ/ダウン回路117は、差動出力バッファ111、112の電位(信号配線151、161の電位)をプル・アップ又はプル・ダウンする。プル・アップ/ダウン回路117は、第1抵抗と第2抵抗とを含む。第1抵抗は、一端を電源電位VDDにスイッチを介して接続され、他端を信号配線(151又は161)に接続されている。第2抵抗は、一端を接地に接続され、他端を信号配線(151又は161)に接続されている。
出力インピーダンス制御回路108は、差動出力バッファ111、112の出力インピーダンスを従来の方法により調整する。比較回路110は、信号配線161上のノードFの電位と基準電位発生回路(図示されず)から出力された参照電位Vref(=VDD/2)とを比較する。そして、比較結果を出力インピーダンスコントローラ107へ出力する。出力インピーダンスコントローラ107は、比較結果に基づいて、差動出力バッファ121、122の出力インピーダンスを切り替える(調整する)制御信号を出力インピーダンス切替回路109へ外部配線170を介して出力する。切替スイッチ115は、信号配線151と信号配線161とを接続するスイッチである。
次に、半導体集積回路102の差動出力バッファ121、122の出力インピーダンスを半導体集積回路101で調整する従来の出力インピーダンス調整方法について説明する。
従来の出力インピーダンス調整方法1について説明する。
まず、出力インピーダンス制御回路108は、差動出力バッファ111、112の出力インピーダンスを調整する。調整方法は、従来知られた方法を用いることができる。次に、制御回路(図示されず)は、差動出力バッファ112をHigh出力とし、差動出力バッファ122をLow出力として両者を短絡させる。このとき、電源電位VDDから、差動出力バッファ112−信号配線161−伝送路106−信号配線162−差動出力バッファ122の経路を介して、接地へ向う電流パスができる。ここで、伝送路106の抵抗を無視できるとし、差動出力バッファ112と差動出力バッファ122の出力インピーダンスが等しいとすれば、ノードFの電位は、電源電位VDDの1/2になるはずである。比較回路110は、ノードFの電位と参照電位VDD/2とを比較し、比較結果を出力インピーダンスコントローラ107へ出力する。出力インピーダンスコントローラ107は、ノードFの電位と参照電位VDD/2とが等しくなるように、差動出力バッファ122の出力インピーダンスを切り替える制御信号を出力インピーダンス切替回路109へ出力する。出力インピーダンス切替回路109は、その制御信号に基づいて、差動出力バッファ122の出力インピーダンスを切り替える(調整する)。差動出力バッファ122の出力インピーダンスを調整する同じ切替信号により、差動出力バッファ121も同様に調整される。この調整により、半導体集積回路102内の差動出力バッファ122、121を、差動出力バッファ112、111と同じ出力インピーダンスに調整することができる。
なお、制御回路は、差動出力バッファ112をLow出力とし、差動出力バッファ122をHigh出力として両者を短絡させても良い。ただし、この場合、電流パスは、電源電位VDDから、差動出力バッファ122−信号配線162−伝送路106−信号配線161−差動出力バッファ112の経路を介して、接地へ向う。他は、上述の場合と同様である。
次に、従来の出力インピーダンス調整方法2について説明する。
まず、制御回路(図示されず)は、差動出力バッファ111、112をHiz出力とする。次に、制御回路は、差動双方向出力バッファ126の出力(差動出力バッファ111、112の出力)を切り替えスイッチ115にて短絡させる。これにより、差動双方向出力バッファ126のHigh出力側(Pch:差動出力バッファ121)とLow出力側(Nch:差動出力バッファ122)のインピーダンスを等しくすることができる。
関連する技術として、特許第3156638号公報に出力インピーダンス調整回路内蔵半導体集積回路が開示されている。この出力インピーダンス調整回路内蔵半導体集積回路は、出力回路と、出力端子と、入力端子と、電圧検出回路と、インピーダンス制御信号生成回路とを備える。出力回路は、制御信号によりその出力インピーダンスを可変にすることができる。出力端子は、実負荷伝送線路と等価なダミー伝送線路の一端と、前記出力回路とを接続する。入力端子は、前記ダミー伝送線路の他端がフィードバック接続される。電圧検出回路は、この入力端子に接続され、前記ダミー伝送線路を介してフィードバックされる前記出力回路からの出力信号の初期電圧振幅を検出する。インピーダンス制御信号生成回路は、この電圧検出回路で検出した電圧値に基づいて前記出力回路の出力インピーダンスを制御するための前記制御信号を生成する。
特許第3156638号 JEDEC Standard No.79−2A、DDR2 SDRAM SPECIFICATION,JEDEC Solid State Technology Association
従来の出力インピーダンス調整方法1の場合、伝送路105、106にシリーズ抵抗を挿入すると、ノードFの電位はVDD/2からずれる。そのため、比較回路110において比較すべき参照電位は、VDD/2ではなくなる。ここで、シリーズ抵抗の所定の抵抗値に対応して半導体集積回路101を設計するとすれば、半導体集積回路101の汎用性が低下してしまう。
従来の出力インピーダンス調整方法2の場合、伝送路105、106にシリーズ抵抗を挿入してもしなくても、出力インピーダンスコントローラ107、出力インピーダンス制御回路108及び出力インピーダンス調整方法に差異は無い。しかし、この方法では差動双方向出力バッファ126の出力インピーダンスの絶対値に関する情報を得られないので、差動出力バッファ111、112の出力インピーダンスの絶対値を調整することが出来ない。
OCD機能を有する半導体集積回路に対して、外部伝送路のシリーズ抵抗の有無に関わらず、OCD機能を実現可能とするような技術が望まれる。
以下に、発明を実施するための最良の形態で使用される番号・符号を用いて、課題を解決するための手段を説明する。これらの番号・符号は、特許請求の範囲の記載と発明を実施するための最良の形態との対応関係を明らかにするために括弧付きで付加されたものである。ただし、それらの番号・符号を、特許請求の範囲に記載されている発明の技術的範囲の解釈に用いてはならない。
上記課題を解決するために、本発明の出力インピーダンス調整回路は、比較回路(30)と、インピーダンス制御回路(32)とを具備する。比較回路(30)は、第1伝送路(24−36−39)の第1出力と、前記第1伝送路(24−36−39)を模擬する第2伝送路(41−25−40)の第2出力と、を比較する。ここで、前記第1伝送路(24−36−39)は、外部半導体集積回路(2)に設けられ、出力インピーダンス調整対象の第1出力回路(24)を含む。前記第2伝送路(41−25−40)は、設定された出力インピーダンスを有し、前記第1出力回路(24)を模擬する第2出力回路(41)を含む。インピーダンス制御回路(32)は、前記比較回路(30)の比較結果に基づいて、前記第1出力と前記第2出力とが等しくなるように、前記第1出力回路(24)の出力インピーダンスを調整する制御信号を前記外部半導体集積回路(2)へ出力する。
本発明において、出力インピーダンス調整時に比較回路(30)に供給する参照電位として、比較対象の第1伝送路(24−36−39)を模擬するレプリカの第2伝送路(41−25−40)の第2出力を用いている。ここで、第2伝送路(41−25−40)は、シリーズ抵抗の有無を含めて第1伝送路(24−36−39)を模擬する。したがって、供給される参照電位(第2出力)は、シリーズ抵抗の有無に対応した電位とすることができる。すなわち、シリーズ抵抗の有無に関わらず、第1出力回路(24)の出力インピーダンスを調整することができる。ここで、模擬するとは、電気的特性を実質的に同じにすることであり、より好ましくは構成(構造)を実質的に同じにすることである。実質的に同じとは、両者の差が所定の許容範囲内にあることである。所定の許容範囲は、動作上問題にならない範囲で設計により決定される。
本発明により、OCD機能を有する半導体集積回路に対して、外部伝送路のシリーズ抵抗の有無に関わらず、OCD機能を実現できる。
以下、本発明の出力インピーダンス調整回路、半導体装置及び出力インピーダンス調整方法の実施の形態に関して、添付図面を参照して説明する。図2は、本発明の出力インピーダンス調整回路を適用した半導体装置の実施の形態の構成を示すブロック図である。半導体装置は、半導体集積回路1と半導体集積回路2とを具備する。なお、本図においては、半導体集積回路1及び半導体集積回路2における一つの出力バッファの構成を代表して示し、以下その構成について説明する。ただし、各半導体集積回路における出力バッファの数は複数存在する。
半導体集積回路2は、他の半導体集積回路1からの制御信号に基づいて出力インピーダンスを調整される出力バッファ(後述:双方向バッファ26の出力バッファ22)を有している。半導体集積回路2は、半導体集積回路1と伝送路6及び外部信号配線3で接続されている。半導体集積回路2は、DDR2 SDRAMのようなメモリに例示される。半導体集積回路2は、双方向バッファ26、プル・アップ/ダウン回路27、出力インピーダンス切替回路9、入出力端子D21、D22を備える。
双方向バッファ26は、出力バッファ22を含む。出力バッファ22は、出力信号を半導体集積回路1へ出力する。出力バッファ22の出力インピーダンスは、可変であり、出力インピーダンス切替回路9からの切替信号により調整される。双方向バッファ26は、更に、伝送路6を介した半導体集積回路1からの入力信号を出力する入力バッファ23を含む。
出力バッファ22の出力に接続された信号配線62は、ノード21を介して入出力端子D21に接続されている。入出力端子D21は、外部の伝送路6を介して半導体集積回路1の入出力端子D11へ接続されている。
プル・アップ/ダウン回路27は、出力バッファ22の電位(信号配線62の電位)をプル・アップ又はプル・ダウンする。また、出力インピーダンスの調整のとき、出力バッファ12からの出力電流を終端する。プル・アップ/ダウン回路27は、第1抵抗R21と第2抵抗R22とを含む。第1抵抗R21は、一端を電源電位VDD(逆三角印で表示)にトランジスタT21を介して接続され、他端を信号配線62のノードN21に接続されている。第2抵抗R22は、一端を接地にトランジスタT22接続され、他端を信号配線62のノードN21に接続されている。ここで、第1抵抗R21と第2抵抗R22とは、従来の調整方法における出力バッファに電流を流すときの出力バッファ内の電流経路の抵抗値に比較して大きく設定されている。トランジスタT21、T22は、他のスイッチ素子を用いても良い。
ここで、プル・アップ/ダウン回路27は、この構成に限定されるものでは無い。図4は、プル・アップ/ダウン回路の構成の他の一例を示す回路図である。プル・アップ/ダウン回路17は、抵抗r1〜r4、スイッチSW1〜SW4を含む。抵抗r1は、一端を電源電位VDDにスイッチSW1を介して接続され、他端を信号配線に接続されている。抵抗r2は、一端を電源電位VDDにスイッチSW2を介して接続され、他端を信号配線に接続されている。すなわち、抵抗r1、r2は、電源電位VDDと信号配線との間に並列接続されている。また、抵抗r3は、一端を接地にスイッチSW3を介して接続され、他端を信号配線に接続されている。抵抗r4は、一端を接地にスイッチSW4を介して接続され、他端を信号配線に接続されている。すなわち、抵抗r3、r4は、接地と信号配線との間に並列接続されている。
ここで、抵抗値r1、r3と、抵抗値r2、r4とを異なる値にすると、スイッチSW1、SW2及びSW3、SW4のオン/オフの組み合わせにより、それぞれ3種類の抵抗値を得ることができる。例えば、抵抗値r1、r3を300Ω、抵抗値r2、r4を150Ωとすると、スイッチSW1、SW2/SW3、SW4のオン/オフの組み合わせにより、100Ω、150Ω及び300Ωの3種類である。
また、後述するプル・アップ/ダウン回路27、及びレプリカプル・アップ/ダウン回路32についても同様な構成が可能である。
図2を参照して、出力インピーダンス切替回路9は、半導体集積回路1からの出力インピーダンスを調整する制御信号に基づいて、出力バッファ22の出力インピーダンスを切り替える(調整する)切替信号を出力バッファ22へ出力する。
半導体集積回路1は、半導体集積回路2へ制御信号を出力することにより、半導体集積回路2の出力バッファの出力インピーダンスを調整する。半導体集積回路1は、DMA(Direct Memory Access)コントローラのようなメモリコントローラに例示される。半導体集積回路1は、双方向バッファ16、プル・アップ/ダウン回路17、出力インピーダンスコントローラ7、出力インピーダンス制御回路8、比較回路10、レプリカ出力バッファ31、レプリカプル・アップ/ダウン回路32、入出力端子D11、D12、D13、D14を備える。
双方向バッファ16は、出力バッファ12を含む。出力バッファ12は、出力信号を半導体集積回路2へ出力する。出力バッファ12の出力インピーダンスは、可変であり、出力インピーダンス制御回路8からの制御信号により調整される。双方向バッファ16は、更に、伝送路6を介した半導体集積回路2からの入力信号を比較して出力する入力バッファ13を含む。
出力バッファ12の出力に接続された信号配線61は、ノードN12、ノードN11を介して、入出力端子D11に接続されている。入出力端子D11は、外部の伝送路6を介して半導体集積回路2の入出力端子D21に接続されている。
プル・アップ/ダウン回路17は、出力バッファ12の電位(信号配線61の電位)をプル・アップ又はプル・ダウンする。また、出力インピーダンスの調整のとき、出力バッファ22からの出力電流を終端する、又は、出力電流を出力バッファ22へ供給する。プル・アップ/ダウン回路17は、第1抵抗R11と第2抵抗R12とを含む。第1抵抗R11は、一端を電源電位VDDにトランジスタT11を介して接続され、他端を信号配線61のノードN11に接続されている。第2抵抗R12は、一端を接地にトランジスタT12を介して接続され、他端を信号配線61のノードN11に接続されている。ここで、トランジスタT11、T12は、他のスイッチ素子を用いても良い。
レプリカ出力バッファ31は、信号配線63、高精度抵抗素子4及び信号配線64を介してレプリカプル・アップ/ダウン回路32へ出力信号を出力する。レプリカ出力バッファ31の出力インピーダンスは、可変であり、出力インピーダンス制御回路8からの制御信号により調整される。レプリカ出力バッファ31の出力インピーダンスは、可変であり、出力インピーダンス制御回路8からの制御信号により調整される。レプリカ出力バッファ31は、出力バッファ12と同じ構成(構造)を有していることが好ましい。出力インピーダンス制御回路8からの同じ制御信号により、所定の同じ出力インピーダンスに調整することが容易になるからである。
レプリカ出力バッファ31は、出力バッファ22を模擬する。すなわち、レプリカ出力バッファ31は、出力バッファ22と同じ出力インピーダンスに調整可能な構成(構造)を有することが好ましい。更に、同じ構成(構造)を有することがより好ましい。より正確に出力バッファ22を模擬することができるからである。例えば、半導体集積回路2がDDR2 SDRAMの場合、出力バッファ22の構成(構造)は規格により決まっている。そのような場合には、その規格で定まっている構成(構造)に応じて、レプリカ出力バッファ31も同じ構成(構造)にすることができる。
レプリカプル・アップ/ダウン回路32は、出力インピーダンスの調整のとき、出力バッファ31から信号配線63、高精度抵抗素子4及び信号配線64を介して流れる出力電流を終端する、又は、出力電流を出力バッファ31へ供給する。レプリカプル・アップ/ダウン回路32は、第1抵抗R13と第2抵抗R14とを含む。第1抵抗R13は、一端を電源電位VDDにトランジスタT13を介して接続され、他端を信号配線64のノードN13に接続されている。第2抵抗R12は、一端を接地にトランジスタT14を介して接続され、他端を信号配線64のノードN13に接続されている。ノードN13は、比較回路10の他方の入力に接続されている。ここで、トランジスタT13、T14は、他のスイッチ素子を用いても良い。
レプリカプル・アップ/ダウン回路32は、プル・アップ/ダウン回路17を模擬する。すなわち、レプリカプル・アップ/ダウン回路32は、プル・アップ/ダウン回路17と同じ合成抵抗や電流供給能力を有することが好ましい。更に、同じ構成(構造)を有することがより好ましい。より正確にプル・アップ/ダウン回路17を模擬することができるからである。この場合、レプリカプル・アップ/ダウン回路32は、プル・アップ/ダウン回路17と同時に同一半導体基板上に形成される。そのため、同じ構成(構造)にしておくと、製造歩留まりの関係で形状が設計寸法からずれたとしても、いずれの回路も同様にずれると考えられる。従って、製造歩留まりに影響されずに、レプリカプル・アップ/ダウン回路32は、プル・アップ/ダウン回路17を模擬することができる。
高精度抵抗素子4は、入出力端子D13、D14間に接続される。高精度抵抗素子4は、伝送路6の電気的な特性を模擬する。そのために、伝送路6にシリーズ抵抗が無い場合には伝送路6本来の抵抗値を有する高精度抵抗素子4が用いられ、伝送路6にシリーズ抵抗が有る場合にはそのシリーズ抵抗の抵抗値と伝送路6本来の抵抗値とを合わせた抵抗値を有する高精度抵抗素子4が用いられる。高精度抵抗素子4を外部接続にし交換容易にしたことで、伝送路6のシリーズ抵抗の有無やシリーズ抵抗の値に対応して、伝送路6を電気的に容易に模擬することが可能となる。
信号配線63は、レプリカ出力バッファ31の出力端子と入出力端子D13とを接続している。信号配線64は、入出力端子D14とレプリカプル・アップ/ダウン回路32のノードN13とを接続している。
出力インピーダンス制御回路8は、従来の方法を用いて、同一の半導体集積回路(半導体基板)内に設けられた出力バッファ12及び出力バッファ31の出力インピーダンスを互いに同じになるように調整する。例えば、出力バッファ12及び出力バッファ31が同じ構成(構造)を有している場合、同じ制御方法や同じ制御信号により、同じ出力インピーダンスに制御することができる。
比較回路10は、信号配線61上のノードN12(ノードN11と同電位)の電位Vpとレプリカプル・アップ/ダウン回路32のノードN13の電位Vrefとを比較する。そして、比較結果を出力インピーダンスコントローラ7へ出力する。出力インピーダンスコントローラ7は、比較結果に基づいて、出力バッファ12の出力インピーダンスを切り替える(調整する)制御信号を出力インピーダンス切替回路9へ外部信号配線3を介して出力する。
なお、この図において、一つの出力バッファ22と、それに対応する一つの出力バッファ12とは例示であり、明示していないがビット線幅分の出力バッファ22及び対応する出力バッファ12が設けられている。また、ここでは、単独の出力バッファ22、11が例示されているが、従来知られた図1のような差動増幅バッファ(121/122、111/112)のような構成を用いることも可能である。
図3は、本発明における出力インピーダンス調整回路及び出力インピーダンス調整方法の概念を示す概略ブロック図である。
ここで、半導体集積回路2の出力バッファ22の出力端子−信号配線62−入出力端子D21−外部の伝送路6−入出力端子D11−半導体集積回路1の信号配線61−プル・アップ/ダウン回路17は、実際に半導体集積回路1と半導体集積回路2との間で信号の入出力が行われる伝送路(以下、「実負荷伝送路81」という)である。この実負荷伝送路81において、出力バッファ22が、出力インピーダンスの調整対象である。出力インピーダンス調整方法では、実負荷伝送路81の電位を測定し、その測定結果を用いて出力バッファ22の出力インピーダンスを調整する。
一方、半導体集積回路1のレプリカ出力バッファ31の出力端子−信号配線63−入出力端子D13−外部の高精度抵抗素子4−入出力端子D14−半導体集積回路1の信号配線64−レプリカプル・アップ/ダウン回路32は、実負荷伝送路81を模擬するレプリカ伝送路82である。このレプリカ伝送路82において、レプリカ出力バッファ31、高精度抵抗素子4及びレプリカプル・アップ/ダウン回路32は、それぞれ出力バッファ22、伝送路6及びプル・アップ/ダウン回路17を模擬する。
すなわち、出力インピーダンスの調整対象である出力バッファ22を含む実負荷伝送路81と、実質的に電気的に概ね等しいレプリカ伝送路82を設けている。ここで、レプリカ出力バッファ31の出力インピーダンスは、出力インピーダンス制御回路8により予め所望の値に設定される。それにより、レプリカ伝送路82は、所望の電気特性に調整される。そして、実負荷伝送路81のノードN11の電位Vpとレプリカ伝送路82のノードN13の電位Vrefとを比較回路10で比較し、比較結果に基づいて出力インピーダンスコントローラ7が制御信号を出力する。出力インピーダンス切替回路9は、その制御信号に基づいて、出力バッファ22の出力インピーダンスを切り替える(調整する)。これにより、出力バッファ22とレプリカ出力バッファ31の出力インピーダンスを同じにすることができる。ここで、レプリカ出力バッファ31と出力バッファ12の出力インピーダンスは、予め同じに設定されている。従って、出力バッファ22と出力バッファ12の出力インピーダンスを同じにすることができる。
次に、本発明の出力インピーダンス調整回路及び半導体装置の実施の形態の動作(出力インピーダンス調整方法の実施の形態)に関して、添付図面を参照して説明する。図4は、本発明の出力インピーダンス調整回路及び半導体装置の実施の形態の動作を示すフローチャートである。
出力インピーダンス制御回路8は、出力バッファ12、31の出力インピーダンスを所望の同じ値になるように調整する(ステップS01)。
次に、制御回路(図示されず)は、出力バッファ12をHiz出力、出力バッファ22をHigh出力、プル・アップ/ダウン回路17のトランジスタT12をオン、トランジスタT11をオフとする。これにより、出力バッファ22(電源電位VDD)−信号配線62−伝送路6−信号配線61−プル・アップ/ダウン回路17の第2抵抗R12−トランジスタT12−接地という実負荷伝送路(81)に出力電流が流れる。同様に、制御回路(図示されず)は、レプリカ出力バッファ31をHigh出力、プル・アップ/ダウン回路32のトランジスタT14をオン、トランジスタT13をオフとする。これにより、レプリカ出力バッファ31(電源電位VDD)−信号配線63−高精度抵抗素子4−信号配線64−プル・アップ/ダウン回路32の第2抵抗R14−トランジスタT14−接地というレプリカ伝送路(82)に出力電流が流れる(ステップS02)。ここで、実負荷伝送路(81)は、出力バッファ22の出力インピーダンスを測定する為のものである。一方、レプリカ伝送路(82)は、既に出力インピーダンスが調整されているレプリカ出力バッファ31を使用した実負荷伝送路のレプリカとなる。
比較回路10は、実負荷伝送路のプル・アップ/ダウン回路17のノードN11の電位Vpと、レプリカ伝送路のプル・アップ/ダウン回路32のノードN13の電位Vrefとを入力される。そして、電位Vpと電位Vrefとを比較し、比較結果を出力インピーダンスコントローラ7へ出力する(ステップS03)。出力インピーダンスコントローラ7は、電位Vpと電位Vrefとが一致しない場合(ステップS04:No)、半導体集積回路2の出力インピーダンス切替回路9へ出力バッファ22の出力インピーダンスを調整する(切り替える)ように制御信号を出力する。すなわち、ノードN11の電位VpがノードN13の電位Vrefより低い場合、出力インピーダンスを上げるように制御信号を出力する。一方、ノードN11の電位VpがノードN13の電位Vrefよりも高い場合、出力インピーダンスを下げるように制御信号を出力する。ノードN11の電位VpとノードN13の電位Vrefとが略一致した場合(=電位Vpと電位Vrefとの差が所定の許容範囲以内になった場合)(ステップS04:Yes)、出力インピーダンスコントローラ7は調整を終了する。
以上の操作により、半導体集積回路1の出力バッファ22の出力インピーダンスを、他の半導体集積回路2により、既に調整されている出力バッファ12の出力インピーダンスと同じに調整することができる。
ただし、ステップS02は、以下のようにしても良い。制御回路(図示されず)は、出力バッファ12をHiz出力、出力バッファ22をLow出力、プル・アップ/ダウン回路17のトランジスタT12をオフ、トランジスタT11をオンとする。これにより、電源電位VDD−トランジスタT11−プル・アップ/ダウン回路17の第1抵抗R11−信号配線61−伝送路6−信号配線62−出力バッファ22(接地)という実負荷伝送路(81)に出力電流が流れる。同様に、制御回路(図示されず)は、レプリカ出力バッファ31をLow出力、プル・アップ/ダウン回路32のトランジスタT14をオン、トランジスタT13をオンとする。これにより、電源電位VDD−プル・アップ/ダウン回路32のトランジスタT13−第1抵抗R13−信号配線64−高精度抵抗素子4−信号配線63−レプリカ出力バッファ31−接地というレプリカ伝送路(82)に出力電流が流れる。この場合も同様に、出力バッファ22の出力インピーダンスを既に調整されている出力バッファ12の出力インピーダンスと同じに調整することができる。
本発明により、実負荷伝送路(81)を模擬するレプリカ伝送路(82)を設けることで、伝送路6にシリーズ抵抗を入れる入れないに関わらず、半導体集積回路2側の出力インピーダンスを半導体集積回路1側で調整することができる(OCD機能を実現することができる)。特に、伝送路6がシリーズ抵抗を有している場合、交換可能な高精度抵抗素子4がレプリカ伝送路(82)内に設けられているので、シリーズ抵抗の抵抗値に対応して高精度抵抗素子4の抵抗値を交換することで、レプリカ伝送路(82)が適切に実負荷伝送路(81)を模擬することができる。
また半導体集積回路2側の出力インピーダンスを調整するとき、従来の出力インピーダンス調整方法1、2のいずれの場合でも、DDR2 SDRAMの規格の場合、各差動出力バッファ内のトランジスタのソース・ドレイン電圧VDSは280mV、ソース・ドレイン間抵抗は15〜20Ωとなっている。そのため、出力インピーダンス調整時に伝送路106等を流れる電流が非常に大きく(例示:出力電流=22〜45mA)なってしまう。そうなると、信号配線や伝送路での寄生抵抗による電圧降下の影響が大きくなり、結果として出力インピーダンスの調子誤差が大きくなる可能性があった。
しかし、本発明では、出力インピーダンスを調整するとき、出力バッファ22から出力される、又は、出力バッファ22に流れ込む出力電流は、プル・アップ/ダウン回路及びレプリカプル・アップ/ダウン回路の第1抵抗又は第2抵抗を流れる。ここで、第1抵抗及び第2抵抗の大きさは、従来の調整方法における出力バッファに電流を流すときの出力バッファ内の電流経路の抵抗値に比較して十分に大きく設定されている。そのため、出力電流を小さく抑えることができる。例えば、DDR2 SDRAMの場合、図4のプル・アップ/ダウン回路17及びレプリカプル・アップ/ダウン回路32を用い、抵抗値を300Ωとすれば、出力電流≒0.5mAとなる。それにより、寄生抵抗の影響を小さく抑えることができる。その結果、調整後の出力インピーダンスの誤差を小さくできる。
なお、外部の高精度抵抗素子4は、半導体集積回路1の内部に有していても良い。図5は、高精度抵抗素子4及び関連する構成の一例を示す回路図である。高精度抵抗素子4は、抵抗値の異なる複数の抵抗R31、R32、…、R3nを有し、制御回路(図示されず)の制御により、スイッチSW31、SW32、…、SW3nのオン/オフの組み合わせにより、所望の抵抗値を得ることができる。それにより、伝送路6にシリーズ抵抗が挿入された場合でも、その抵抗値に合わせた高精度抵抗素子4をレプリカ伝送路内に設けることができる。
図1は、従来技術における半導体集積回路内の出力バッファの出力インピーダンスを他の半導体集積回路により調整する半導体装置の構成を示すブロック図である。 図2は、本発明の出力インピーダンス調整回路を適用した半導体装置の実施の形態の構成を示すブロック図である。 図3は、本発明における出力インピーダンス調整回路及び出力インピーダンス調整方法の概念を示す概略ブロック図である。 図4は、プル・アップ/ダウン回路、レプリカプル・アップ/ダウン回路の構成の他の一例を示す回路図である。 図5は、本発明の出力インピーダンス調整回路及び半導体装置の実施の形態の動作を示すフローチャートである。 図6は、高精度抵抗素子及び関連する構成の一例を示す回路図である。
符号の説明
1、101 半導体集積回路
2、102 半導体集積回路
3、170 外部配線
4 高精度抵抗素子
6、105、106 伝送路
7 出力インピーダンスコントローラ
8 出力インピーダンス制御回路
9 出力インピーダンス切替回路
10 比較回路
11、12、13、14、21、22 入出力端子D
12、22 出力バッファ
13、23 入力バッファ
16、26 双方向バッファ
17、27、117、127 プル・アップ/ダウン回路
26 双方向バッファ
31 レプリカ出力バッファ
32 レプリカプル・アップ/ダウン回路
61、62、63、64、151、152、161、162 信号配線
113、123 比較回路
112、122 差動出力バッファ
113、123 差動入力バッファ
116、126 差動双方向バッファ

Claims (15)

  1. 同一の半導体集積回路に設けられた比較回路と第1出力回路と出力インピーダンス制御回路を具備する出力インピーダンス調整回路であって、
    外部に設けられた第1伝送路と第2伝送路はそれぞれの一端が、前記比較回路の第1の入力端子と第2の入力端子に接続され、前記第2伝送路の他端は前記第1出力回路の出力端子に接続され、
    外部半導体集積回路に設けられた第2出力回路の出力端子は前記第1伝送路の他端に接続され、
    前記第1出力回路の出力インピーダンスは前記第2出力回路の出力インピーダンスを模擬し、
    前記比較回路は、前記第1の入力端子と前記第2の入力端子の電位を比較し、
    前記出力インピーダンス制御回路は、前記比較結果に基づいて、前記第1の入力端子と前記第2の入力端子の電位差が小さくなるように前記第2出力回路の出力インピーダンスを調整することを特徴とする
    出力インピーダンス調整回路。
  2. 請求項1に記載の出力インピーダンス調整回路において、
    前記第1伝送路に含まれる第1プル・アップ/ダウン回路と、
    前記第2伝送路に含まれ、前記第1プル・アップ/ダウン回路を模擬する第2プル・アップ/ダウン回路と
    を更に具備し、
    前記第1伝送路は、前記第2出力回路から前記第1プル・アップ/ダウン回路までの伝送路であり、
    前記第2伝送路は、前記第1出力回路から前記第2プル・アップ/ダウン回路までの伝送路であり、
    前記第1の入力端子の電位は、前記第1プル・アップ/ダウン回路の電位であり、
    前記第2の入力端子の電位は、前記第2プル・アップ/ダウン回路の電位である
    出力インピーダンス調整回路。
  3. 請求項2に記載の出力インピーダンス調整回路において、
    前記第1伝送路は、前記外部半導体集積回路の前記第2出力回路と前記第1プル・アップ/ダウン回路とを接続する第1外部伝送路を含み、
    前記第2伝送路は、前記第1出力回路と前記第2プル・アップ/ダウン回路とを接続し、前記第1外部伝送路を模擬する第2外部伝送路を含む
    出力インピーダンス調整回路。
  4. 請求項3に記載の出力インピーダンス調整回路において、
    前記第1出力回路に接続された第1端子と、
    前記第2プル・アップ/ダウン回路に接続された第2端子と
    を更に具備し、
    前記第1端子と前記前記第2端子との間に、前記第2外部伝送路を接続することにより、前記第2伝送路が構成される
    出力インピーダンス調整回路。
  5. 請求項2乃至4に記載の出力インピーダンス調整回路において、
    前記第1プル・アップ/ダウン回路と前記第2プル・アップ/ダウン回路とは、同じ構成を有する
    出力インピーダンス調整回路。
  6. 請求項1乃至5に記載の出力インピーダンス調整回路において、
    前記第1出力回路と前記第2出力回路とは、同じ構成を有する
    出力インピーダンス調整回路。
  7. 請求項2に記載の出力インピーダンス調整回路において、
    前記第1伝送路は、前記外部半導体集積回路の前記第2出力回路と前記第1プル・アップ/ダウン回路とを接続する外部伝送路を含み、
    前記第2伝送路は、前記第1出力回路と前記第2プル・アップ/ダウン回路とを接続し、前記外部伝送路を模擬する内部伝送路を含む
    出力インピーダンス調整回路。
  8. 請求項1に記載の出力インピーダンス調整回路において、
    前記出力インピーダンス制御回路は、前記比較結果に基づいて、前記第1の入力端子と前記第2の入力端子の電位差が小さくなるように前記第1出力回路と前記第2出力回路の出力インピーダンスを調整する
    出力インピーダンス調整回路。
  9. 出力インピーダンス調整対象の第2出力回路を含む外部半導体集積回路としての第1半導体集積回路と、
    請求項1乃至8のいずれか一項に記載された出力インピーダンス調整回路としての第2半導体集積回路と
    を具備し、
    前記第2半導体集積回路は、前記第2出力回路の出力インピーダンスを調整する制御信号を前記第1半導体集積回路へ出力する
    半導体装置。
  10. 同一の半導体集積回路に設けられた比較回路と第1出力回路と出力インピーダンス制御回路を具備する出力インピーダンス調整回路を用いた出力インピーダンス調整方法であって、
    ここで、外部に設けられた外第1伝送路と第2伝送路はそれぞれの一端が、前記比較回路の第1の入力端子と第2の入力端子に接続され、前記第2伝送路の他端は前記第1出力回路の出力端子に接続され、
    外部半導体集積回路に設けられた第2出力回路の出力端子は前記第1伝送路の他端に接続され、
    前記第1出力回路の出力インピーダンスは前記第2出力回路の出力インピーダンスを模擬し、
    (a)前記第1伝送路、及び、前記第2伝送路に電流を流すステップと、
    (b)前記比較回路により前記第1の入力端子と前記第2の入力端子の電位を比較するステップと、
    (c)前記出力インピーダンス制御回路により、前記比較結果に基づいて、前記第1の入力端子と前記第2の入力端子の電位差が小さくなるように前記第2出力回路の出力インピーダンスを調整するステップと
    を具備する
    出力インピーダンス調整方法。
  11. 請求項10に記載の出力インピーダンス調整方法において、
    前記第1伝送路は、第1プル・アップ/ダウン回路を含み、
    前記第2伝送路は前記第1プル・アップ/ダウン回路を模擬する第2プル・アップ/ダウン回路を含み、
    前記(a)ステップは、
    (a1)前記第2出力回路から前記第1プル・アップ/ダウン回路までの前記第1伝送路、及び、前記第1出力回路から前記第2プル・アップ/ダウン回路までの前記第2伝送路に前記電流を流すステップを備え、
    前記(b)ステップは、
    (b1)前記第1プル・アップ/ダウン回路の電位としての前記第1の入力端子の電位と、前記第2プル・アップ/ダウン回路の電位としての前記第2の入力端子の電位とを比較するステップを備える
    出力インピーダンス調整方法。
  12. 請求項11に記載の出力インピーダンス調整方法において、
    前記第1伝送路は、前記外部半導体集積回路の前記第2出力回路と前記第1プル・アップ/ダウン回路とを接続する第1外部伝送路を含み、
    前記(a)ステップは、
    (a2)前記第2伝送路に、前記第1出力回路と前記第2プル・アップ/ダウン回路との間に、前記第1外部伝送路を模擬する第2外部伝送路を接続するステップを更に備える
    出力インピーダンス調整方法。
  13. 請求項12に記載の出力インピーダンス調整方法において、
    前記第2伝送路は、前記第1出力回路に接続された第1端子と、前記第2プル・アップ/ダウン回路に接続された第2端子とを更に含み、
    前記(a2)ステップは、
    (a21)前記第1端子と前記前記第2端子との間に、前記第2外部伝送路を接続するステップを含む
    出力インピーダンス調整方法。
  14. 請求項11に記載の出力インピーダンス調整方法において、
    前記第1伝送路は、前記外部半導体集積回路の前記第2出力回路と前記第1プル・アップ/ダウン回路とを接続する外部伝送路を含み、
    前記第2伝送路は、前記第1出力回路と前記第2プル・アップ/ダウン回路とを接続し、前記外部伝送路を模擬する内部伝送路を含み、
    前記(a)ステップは、
    (a3)前記内部伝送路のインピーダンスを前記外部伝送路のインピーダンスに等しくするステップを備える
    出力インピーダンス調整方法。
  15. 請求項10に記載の出力インピーダンス調整方法において、
    前記(c)ステップは、
    (c1)前記出力インピーダンス制御回路により、前記比較結果に基づいて、前記第1の入力端子と前記第2の入力端子の電位差が小さくなるように前記第1出力回路と前記第2出力回路の出力インピーダンスを調整するステップを備える
    出力インピーダンス調整方法。
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