JP5005370B2 - ハーフトーンマスク及びそれを用いたパターニング方法 - Google Patents
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まず、図1を用いて本実施の形態にかかるハーフトーンマスクについて説明する。図1は、ハーフトーンマスク5の構成を示す断面模式図である。ハーフトーンマスク5によって、感光性樹脂(レジスト)にパターンを転写することができる。
5 ハーフトーンマスク、6 マスクステージ、7 投影光学系、8 ガラス基板、
9 ステージホルダー、10a 発光部、10b 受光部、10 AFセンサー、
11 透明基板、12 遮光膜、13 第1の半透明膜、14 レジストパターン、
15 第2の半透明膜、16 レジスト、
20 正常パターン、21 残り、22 欠け、23 突起、24 細り、25 太り
Claims (4)
- 感光性樹脂にパターンを転写するハーフトーンマスクであって、
一方の面にパターン形成面を有する透明基板と、
前記パターン形成面にパターン形成され、当該パターンが感光性樹脂に転写される遮光膜と、
前記透明基板の前記パターン形成面と反対面に形成された第1の半透明膜とを備え、
前記透明基板の前記第1の半透明膜パターンの端部において、前記第1の半透明膜が形成された面と反対面に前記遮光膜が形成されているハーフトーンマスク。 - 前記パターン形成面に前記第1の半透明膜と異なる透過率を有する第2の半透明膜をさらに形成する請求項1に記載のハーフトーンマスク。
- 前記第1の半透明膜の透過率は露光波長に対して20〜40%である請求項1または2に記載のハーフトーンマスク。
- 透明基板の片面に第1の半透明膜が形成され、前記透明基板の前記第1の半透明膜が形成された面と反対面に遮光膜が形成され、前記透明基板の前記第1の半透明膜パターンの端部において、前記第1の半透明膜が形成された面と反対面に遮光膜が形成されたハーフトーンマスクを用いるパターニング方法であって、
基板上に感光性樹脂を塗布する工程と、
前記感光性樹脂が塗布された前記基板表面付近と、前記ハーフトーンマスクの前記遮光膜が形成された面とが共役関係となるように、前記基板と前記ハーフトーンマスクを配置させ、前記ハーフトーンマスクの前記第1の半透明膜が形成された面上から光を照射し、前記基板上の前記感光性樹脂を感光する工程と、
感光された前記感光性樹脂を現像する工程とを有するパターニング方法。
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