JP4999596B2 - 反射型フォトセンサ - Google Patents

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本発明は反射型フォトセンサ、特に発光素子及び受光素子の投受光面を被検出物の移動方向に垂直な方向に配置する反射型フォトセンサで、簡単な構成にて、被検出物の移動量や移動位置を検出するためのものに関する。
反射型フォトセンサとして、フォトリフレクタ等があるが、この反射型フォトセンサは、非接触で物体の有無、物体の位置や移動量を検出する光検出器であり、例えばビデオ機器等におけるオーディオテープのスタート位置及びエンド位置の検出、コピー機、プリンターの紙の検出、CD、DVD等の光学ドライブ装置におけるピックアップユニットの位置検出、自動焦点カメラのズーム又はフォーカス動作のレンズ位置検出に用いられる。
図7(A),(B)には、従来のフォトリフレクタの構成例が示されており、図7(A)は、フォトリフレクタの上下方向に移動する物体を検出するもの(下記特許文献1)である。このフォトリフレクタは、絶縁基板1、この絶縁基板1上に配置され外周を囲み中間遮光壁部2を有する窓部3、この窓部3と中間遮光壁部2とで形成された一方の凹部に配置された発光素子4、他方の凹部に配置された受光素子5を有してなる。
このような図7(A)のフォトリフレクタでは、上下(矢示U)方向に移動する被検出物6が鎖線の位置にあるときは、発光素子4から出力された光が中間遮光壁部2で遮られるが、実線の位置にあるときは、発光素子4から出力された光が受光素子5へ到達することになり、この受光素子5での検知状態によって、被検出物6の所定位置における存在が検出される。
図7(B)は、フォトリフレクタの発光素子及び受光素子の配列方向に移動する物体を検出するもの(下記特許文献2)であり、このフォトリフレクタは、実装基板8、この実装基板8上に設けられたフォトリフレクタ9、このフォトリフレクタ9の上方に配置され、スリット10を形成したスリット機構11を有してなる。
このような図7(B)のフォトリフレクタでは、矢示Fの水平方向へ移動する被検出物12がフォトリフレクタ9の上方の位置に達したときに、フォトリフレクタ9内の発光素子から照射された光がスリット10を通過して被検出物12に当たり、その反射光がスリット10を通過して受光素子で検知されることにより、被検出物12の存在が検出される。
また、従来において、フォトリフレクタを用いてカメラのレンズの位置を検出するものとして、下記の特許文献3,4があり、これらの文献3,4には、光学系のカムリング等の円筒外周面に、高反射部と遮光部とからなる、反射光量を変化させるパターン(明暗パターン)部材を配置し、フォトリフレクタによって上記パターン部材からの反射光量を検知することにより、光学系(レンズ)の回転位置(ズーム位置)等を検出することが行われている。
特開2001−156325号公報 特開2006−173306号公報 特開平5−45179号公報 特開2002−357762号公報
しかしながら、上記図7(A),(B)の従来のフォトリフレクタでは、上下方向又は水平方向に移動する被検出物の存在の有無が検出できるのみで、移動する被検出物の位置や移動量までは検出することができない。
一方、上記特許文献3,4に開示されるように、フォトリフレクタを用いて光学系レンズの回転位置を検出するものでは、高反射部と遮光部とからなる高精度の明暗パターン部材を製作し、これを被検出物側に設けることが必要となり、構成が複雑になるという問題がある。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、発光素子と受光素子を用いた簡単な構成で、明暗パターン部材を被検出物側に設けることもなく、被検出物の移動量や移動位置を良好に検出することができる反射型フォトセンサを提供することにある。
上記目的を達成するために、請求項1に係る発明は、発光部及び受光部の投受光面が、該投受光面に対し平行に移動する被検出物の移動方向に垂直な方向に配置され、上記発光部の出力光に基づく上記被検出物からの反射光を上記受光部で受光する反射型フォトセンサにおいて、上記受光部の検出出力が、上記被検出物の移動量に応じて直線的に変化するように、上記発光部には、上記被検出物の移動方向の中心部よりも両端部の発光量が高くなる発光領域を設けたことを特徴とする。
請求項2に係る発明は、上記発光部として、上記被検出物の移動方向に、複数の発光素子を配置したことを特徴とする。
請求項3に係る発明は、上記発光部として1つの発光素子を設け、この発光素子の発光領域は、活性部(活性層等で本来の発光面)を部分的に遮光体(アルミニウム膜、金属合金膜、遮光テープ等)で覆うことにより形成したことを特徴とする。
請求項4に係る発明は、上記受光部には、被検出物の移動方向の中心部から両端へ向かう程、単位長さ当たりの面積が広くなる受光領域を設けたことを特徴とする。
本発明の構成によれば、発光部(発光素子)に、被検出物の移動方向の中心部よりも両端部の発光量が高くなる発光領域が設けられており、センサ内縦方向に配置された発光部(発光素子)及び受光部の上方において被検出物が左側から右側へ移動するとき、最初は左側の発光領域から出力された光が被検出物から反射し、その反射光が受光部へ入射し、その入射光は被検出物が移動するに従って大きくなる。その後、被検出物が受光部(及び発光部)の中心部を超える位置まで移動すると、右側の発光領域からの出力光が被検出物から反射して受光部へ入射するようになる。その結果、受光部では、被検出物の移動に対応して直線的に変化する光量が検知され、この検知光量によって被検出物の移動量又は移動位置が検出できることになる。即ち、中心部及び両端部で均一な発光量となる発光部では、受光部の中心部に入射する光が多くなるので、本発明では、発光部中心部の発光領域を小さくすることにより、直線的に変化する実用的な範囲を設定するようにしたものである。
上記請求項4の構成によれば、受光部において、被検出物の移動方向の中心部から両端へ向かう程、単位長さ当たりの面積が広くなる受光領域を設けることにより、発光部と受光部との両方の構成によって、直線的に変化する移動範囲の大きさやその直線性を所望の値に設定することができる。
本発明の反射型フォトセンサによれば、発光部の構成の工夫により、被検出物の移動量とセンサ出力変化の関係がリニアとなる区間を実用的なレベルまで広げることができ、簡単な構成にて、被検出物の移動位置を良好に検出することが可能になるという効果がある。また、従来のカメラに用いられている光学系レンズの位置検出センサのように、明暗パターン部材を被検出物側に設ける必要もない。
上記請求項3の発明によれば、発光部の活性部を遮光体で覆うだけで、中心部よりも両端部の発光量が高くなる発光領域を形成することができ、センサの製作が極めて容易であるという利点がある。
上記請求項4の発明によれば、中心部よりも両端部の発光量が高くなる発光部と、中心部から被検出物の移動方向の両端へ向かう程、広がる受光領域を持つ受光部との両方によって、直線的に変化する移動範囲の大きさやその直線性を任意かつ所望の値に設定することが可能になると共に、設定のバリエーションが増えるという利点がある。
図1には、本発明の実施例に係る反射型フォトセンサ(フォトリフレクタ)の構成が示され、図(B)は図(A)のb−b線断面図である。図1(A),(B)に示されるように、実施例の反射型フォトセンサでは、絶縁基板16上にボンディングパターン17a〜17dが形成されており、ボンディングパターン17aに発光部としての2つの発光素子(例えば発光ダイオード)18a,18b、ボンディングパターン17bに受光部としての受光素子(例えばフォトトランジスタ)20がダイボンディングされ、これら発光素子18a,18b及び受光素子20は、その長手方向が被検出物の移動方向Hに一致するように配置され、ボンディングパターン17c,17dのそれぞれの位置に金ワイヤ21で接続される。上記絶縁基板16の裏面には、上記ボンディングパターン17a〜17dのそれぞれに接続された裏面電極22a〜22d(22a、22bは図示せず)が配置される。
また、上記発光素子18a,18b及び受光素子20の周囲を囲うように、所定の高さの外周遮光壁24が形成されると共に、この発光素子18a,18bと受光素子20との間に、中間遮光壁25が設けられ、この外周遮光壁24と中間遮光壁25とで囲まれる発光素子18a,18b及び受光素子20の上側空間は、光を透過する樹脂26で封止される。そして、この発光素子18a,18bと受光素子20の投受光面は、被検出物の移動方向Hに平行となり、この移動方向Hに垂直な方向に沿って配置される。
図1(A)に示されるように、上記2つの発光素子18a,18bは、受光素子20の被検出物の移動方向Hの中心点に対応する発光部の位置から左右に等距離だけ離れた位置で、受光素子20の左右端よりも少し外側の位置に配置されており、これによって、被検出物移動方向Hの中心部よりも両端部の発光量が高くなる発光領域が設定される。
実施例の反射型フォトセンサは、以上の構成からなり、この反射型フォトセンサによる光検知作用を図2及び図3により説明する。図2(A)は、図1のセンサ内部を被検出物の移動方向Hに垂直な方向にて発光素子18a,18b側から見たもので、被検出物30が左側から右側へ移動する状態であり、図2(B)は、図1(B)と同じ方向からセンサ内部を見たものであり、発光素子18a,18bから出力された光は、移動する被検出物30で反射され、移動方向Hに垂直な方向に存在する受光素子20側へ導かれる。なお、発光素子18a,18bから受光素子20へ直接入射する光は中間遮光壁25によって遮蔽される。
図3(A)に示されるように、まず被検出物30が発光素子18a及び受光素子20の上方を覆うようにして位置P1 に達したとき、左側の発光素子18aから出力された光L1 が被検出物30で反射され、受光素子20(受光領域)へ入射し始める。ここで、発光素子18bから出力された反射光L2 等は、受光素子20へ入射しない。そして、図3(B)に示されるように、被検出物30が位置P2 に達するに従って、上記L1 と同様の反射光が徐々に増えると同時に、反射角度の異なる反射光L3 も多くなる。また、被検出物30が位置P3 に達するに従って、上記反射光L1 ,L3が徐々に増えると共に、更に反射角度の異なる反射光L4 も多くなり、2つの発光素子18a,18bの中間点を超える位置からは、右側の発光素子18bから出力された光に基づく反射光L5 が入射し始めるというように、被検出物30の移動量が大きくなる程、受光素子20へ到達する光は増加する。
そして、実施例では、2つの発光素子18a,18bを離して配置し、中心部よりも両端部の発光量が高くなる発光領域を設定していることから、受光素子20では、被検出物30の移動量に応じてリニアに変化する検出出力が得られる。即ち、2つの発光素子18a‐18b間においても、発光領域を設けた場合は、全体の発光領域からの出力光に基づく被検出物30からの反射光が受光素子20の中心部へ集められるという現象が生じ、中心部へ向かう程、受光素子20に対する入射光が多くなる。そこで、実施例では、左右両端に発光素子18a,18bを離して配置することによって、中心部へ向かう入射光を削減し、リニアな特性を得るようにしている。
図4には、被検出物の移動量に対するフォトセンサの出力を実施例(C100)と従来例(C200)の相対出力で表したグラフが示されており、従来例では、特性C200に示されるように、リニアな特性が得られる移動範囲がΔX1 であったのに対し、本実施例では、特性C100に示されるように、リニアな特性が得られる移動範囲がΔX2 と実用的な範囲まで大きく広がっている。
図5(A)〜(D)には、実施例の発光部の他の構成例が示されており、これらは、単一の発光素子(又は発光部)に遮光体を設けることで、発光領域を設定したものである。図5(A)は、1つの発光素子31の活性部(活性層等の本来の受光面)の中心部をアルミニウム遮光膜(又は遮光テープ)33で覆うことにより、両端部の発光領域31Gを設けたものであり、図5(B)は、1つの発光素子31の活性部の中心部の2箇所を2つの遮光膜34で覆うことにより、中心部よりも両端部の発光量が高い発光領域31Gを設けたものである。
図5(C)は、1つの発光素子31の中心部に、三角形と逆三角形のアルミニウム遮光膜35をそれらの頂点を一致させるように形成し、発光領域31Gを設けたものであり、図5(D)は、半楕円状の2つのアルミニウム遮光膜36を上下に配置し、中心部から両端へ向けラッパ状に広がる面積の発光領域31Gとしたものである。これらの発光領域31G〜31Gを有する発光素子31よっても、受光素子20での光検出においてリニアな特性を得ることが可能となる。なお、図5(A)〜(D)の構成において、上記発光領域31G〜31Gに対し、小さなサイズの発光素子を複数個配置して同様の発光領域を持つ発光部を形成してもよい。
図6には、実施例の受光素子20の他の構成例が示されており、図6に示されるように、受光素子20では、その上面の活性部(活性層等で本来の受光面)の下側を、アルミニウム膜、金属合金膜等からなる半楕円状の遮光反射膜39で覆う(又は遮光反射テープを貼る)ことにより、受光素子20の受光面積が中心部から両左右端へ向かう程、広がる受光領域20Eが設定される。
このような受光素子20の受光領域20Eによれば、被検出物の移動方向Hにおいて中心部から両端へ向かうに従って受光量が徐々に増加するので、この受光素子20と図1の発光素子18a,18b又は図5の各種形状の発光領域31G〜31Gを持つ発光素子31との組み合わせによって、リニア特性が得られる範囲(ΔX)を拡張したり、その直線性を改善したりすることができる。
上記実施例では、面実装タイプのフォトリフレクタの構造に適用した例を示したが、この面実装タイプで、外周遮光壁24がないもの(中間遮光壁25は必要)や、リードピンタイプ等の他の構造のフォトリフレクタに本発明を適用することができる。
また、実施例では、受光素子20にフォトトランジスタを使用した例を示したが、受光素子としてフォトダイオードやフォトICを適用してもよい。
本発明の実施例に係る反射型フォトセンサの構成を示し、図(A)は上面図、図(B)は図(A)のb−b線断面図である。 実施例の反射型フォトセンサの発光素子から受光素子へ到達する光を示し、図(A)はセンサ内部を発光素子から受光素子へ向かう方向で見た図、図(B)はセンサ内部を発光素子及び受光素子の側面側から見た図である。 実施例の反射型フォトセンサにより被検出物の移動量等を検出する際の光検知作用を説明するための図である。 実施例における被検出物の移動量に対するフォトセンサの出力を、実施例(C100)と従来例(C200)の相対出力で表したグラフ図である。 実施例の発光素子の他の例を示す上面図である。 実施例の受光素子において発光領域を変えた他の例を示す上面図である。 従来のフォトリフレクタの2つの構成例を示す図である。
符号の説明
1,16…絶縁基板、 4,18a,18b,31…発光素子、
5,20…受光素子、 6,12,30…被検出物、
17a〜17d…ボンディングパターン、
20E…受光領域、 24…外周遮光壁、
25…中間遮光壁、 31G〜31G…発光領域、
33,34,35,36…遮光膜、
39…遮光反射膜。

Claims (4)

  1. 発光部及び受光部の投受光面が、該投受光面に対し平行に移動する被検出物の移動方向に垂直な方向に配置され、上記発光部の出力光に基づく上記被検出物からの反射光を上記受光部で受光する反射型フォトセンサにおいて、
    上記受光部の検出出力が、上記被検出物の移動量に応じて直線的に変化するように、上記発光部には、上記被検出物の移動方向の中心部よりも両端部の発光量が高くなる発光領域を設けたことを特徴とする反射型フォトセンサ。
  2. 上記発光部として、上記被検出物の移動方向に、複数の発光素子を配置したことを特徴とする請求項1記載の反射型フォトセンサ。
  3. 上記発光部として1つの発光素子を設け、この発光素子の発光領域は、活性部を部分的に遮光体で覆うことにより形成したことを特徴とする請求項1記載の反射型フォトセンサ。
  4. 上記受光部には、被検出物の移動方向の中心部から両端へ向かう程、単位長さ当たりの面積が広くなる受光領域を設けたことを特徴とする請求項1乃至3記載の反射型フォトセンサ。
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