JP4996874B2 - 金属cmp用研磨組成物 - Google Patents
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Description
ベンゾトリアゾール0.001質量%とドデシルベンゼンスルホン酸0.025質量%と過硫酸アンモニウム0.6質量%と表1に記載の研磨砥粒0.9質量%(固形分)とを水に混合し、各種金属CMP用研磨組成物を調製した。なお、pH調整剤はアンモニアを使用し、全てpH9.5に調整した。ここで得た金属CMP用研磨組成物について、電解めっき法で銅膜をシリコン基板上に1,500nm成膜したウエハを3×3cm正方形に切断したテストピース用いて、エッチング試験による銅のエッチング速度の評価および研磨試験による銅の研磨速度の評価を行った。また、スパッタリング法でシリコン基板上にタンタル100nmを成膜したウエハを3×3cm正方形に切断したテストピースを用いて研磨試験によるタンタルの研磨速度の評価を行った。エッチング試験は、23℃の金属CMP用研磨組成物にテストピースを浸漬して行い、研磨試験は、研磨機:NF−300(ナノファクター製)、研磨パッド:IC1400(XY溝付)(ロデールニッタ製)、研磨時間:1分間、定盤回転数:60rpm、キャリア回転数:60rpm、研磨加工圧力:2psi、研磨液供給速度:50ml/分の条件で行った。なお、膜厚は、Loresta GP(三菱化学製)を使用して測定した。
窒素置換した反応フラスコに1,6−ヘキサンジオールを使用して得たポリカーボネートジオール(分子量2,000)182.1gとジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート90.3gとN−メチル−2−ピロリドン57gとを仕込み、110℃で2時間攪拌した。これにさらに、ジメチロールプロピオン酸16.8gとN−メチル−2−ピロリドン57gをそれぞれ加え、再度110℃で2時間攪拌してプレポリマー組成物を得た。このプレポリマー組成物389.7gを、イオン交換水457.8gとトリエチルアミン15.9gとの混合液中に滴下して、15分攪拌後、エチレンジアミン4.2gとイオン交換水12.6gとの混合液をさらに加えて15分攪拌して平均粒径120nm、酸価24(mgKOH/g)のアニオン性水分散型ポリウレタンNo.1を得た。
ベンゾトリアゾール0.001質量%とシュウ酸0.05質量%とドデシルベンゼンスルホン酸0.025質量%と過硫酸アンモニウム1.0質量%と表2に記載の研磨砥粒0.9質量%(固形分)とを水に混合し、各種金属CMP用研磨組成物を調製した。なお、pH調整剤は水酸化カリウムを使用し、全てpH9.5に調整した。得られた金属CMP用研磨組成物について、上記実施例1と同様にエッチング試験による銅のエッチング速度の評価および研磨試験による銅の研磨速度の評価を行った。
窒素置換した反応フラスコにネオペンチルグリコールとアジピン酸から得られたポリエステルジオール(分子量1,000)400gとジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート408gとメラミン16.7gとN−メチル−2−ピロリドン194gとを仕込み、120℃で3時間攪拌した。これにさらに、ジメチロールプロピオン酸58.9gとトリエチルアミン44.7gとN−メチル−2−ピロリドン194gとをそれぞれ加え、60℃で2時間攪拌してプレポリマー組成物を得た。このプレポリマー組成物1,295gを、イオン交換水1523.5gとトリエチルアミン16.0gとの混合液中に滴下して、15分攪拌後、エチレンジアミン18.7gとイオン交換水56.1gとの混合液を加えて15分攪拌し、アジピン酸ジヒドラジド10.0gとイオン交換水30.0gとの混合液をさらに加えて、15分攪拌し、平均粒子径30nmおよび酸価26(mgKOH/g)のアニオン性水分散型ポリウレタンNo.2を得た。
窒素置換した反応フラスコに3−メチル−1,5−ペンタンジオールとテレフタル酸から得られたポリエステルジオール(分子量1,000)144gとジメチロールプロピオン酸42.1gとジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート308gとメラミン23.9gとN−メチル−2−ピロリドン314gとを仕込み、115℃で5時間攪拌した。これにさらに、トリエチルアミン32gを加え、65℃で30分攪拌してプレポリマー組成物を得た。このプレポリマー組成物846.7gを、イオン交換水992gとトリエチルアミン6.0gとの混合液に15分で滴下し、15分攪拌後、エチレンジアミン15.2gとイオン交換水45.7gとの混合液を加え、さらにアジピン酸ジヒドラジド11gとイオン交換水32.8gとの混合液を加え、15分攪拌し、平均粒子径50nmおよび酸価34(mgKOH/g)のアニオン性水分散型ポリウレタンNo.3を得た。
窒素置換した反応フラスコにポリテトラメチレンエーテルグリコール(分子量1,000)128.5gとジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート88.1gとを仕込み、115℃で2時間攪拌した。これにさらにジメチロールプロピオン酸10.9gとトリメチルアミン8.3gとN−メチル−2−ピロリドン97.6gとをそれぞれ加え、60℃で2時間攪拌してプレポリマー組成物を得た。このプレポリマー組成物300gを、イオン交換水729.2gに15分で滴下し、20分攪拌後、エチレンジアミン5.1gとイオン交換水15.3gとの混合液を加え、15分攪拌し、平均粒子径50nmおよび酸価20(mgKOH/g)のアニオン性水分散型ポリウレタンNo.4を得た。
ベンゾトリアゾール0.001質量%とドデシルベンゼンスルホン酸0.025質量%と過硫酸アンモニウム0.6質量%と表3に記載の研磨砥粒0.9質量%(固形分)とを水に混合し、各種金属CMP用研磨組成物を調製した。なお、pH調整剤はアンモニアを使用し、全てpH9.5に調整した。得られた金属CMP用研磨組成物について、上記実施例1と同様にエッチング試験による銅のエッチング速度の評価および研磨試験による銅の研磨速度の評価を行った。
窒素置換した反応フラスコに1,6−ヘキサンジオールを使用して得たポリカーボネートジオール(分子量1,000)128.5gとジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート88.1gとを仕込み、115℃で2時間攪拌した。これにさらに、ジメチロールプロピオン酸10.9gとトリエチルアミン8.3gとN−メチル−2−ピロリドン97.6gとをそれぞれ加え、60℃で2時間攪拌してプレポリマー組成物を得た。このプレポリマー組成物300gを、イオン交換水729.2g中に滴下して、20分攪拌後、エチレンジアミン5.1gとイオン交換水15.3gとの混合液を加えて15分攪拌し、平均粒子径50nmおよび酸価20(mgKOH/g)のアニオン性水分散型ポリウレタンNo.5を得た。
窒素置換した反応フラスコに1,6−ヘキサンジオールを使用して得たポリカーボネートジオール(分子量1,000)112.2gとジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート126gとを仕込み、115℃で2時間攪拌した。これにさらに、ジメチロールプロピオン酸25.2gとトリエチルアミン19gとN−メチル−2−ピロリドン112.9gとをそれぞれ加え、60℃で2時間攪拌してプレポリマー組成物を得た。このプレポリマー組成物300gを、イオン交換水705.7g中に滴下して、20分攪拌後、エチレンジアミン6.2gとイオン交換水18.5gとの混合液を加えて15分攪拌し、平均粒子径30nmおよび酸価40(mgKOH/g)のアニオン性水分散型ポリウレタンNo.6を得た。
窒素置換した反応フラスコに1,6−ヘキサンジオールを使用して得たポリカーボネートジオール(分子量1,000)76.0gとジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート151.1gとを仕込み、115℃で2時間攪拌した。これにさらに、ジメチロールプロピオン酸38.1gとトリエチルアミン28.7gとN−メチル−2−ピロリドン113.7gをそれぞれ加え、60℃で2時間攪拌してプレポリマー組成物を得た。このプレポリマー組成物300gを、イオン交換水861.7g中に滴下して、20分攪拌後、エチレンジアミン7.2gとイオン交換水21.5gとの混合液を加えて15分攪拌し、平均粒子径25nmおよび酸価60(mgKOH/g)のアニオン性水分散型ポリウレタンNo.7を得た。
窒素置換した反応フラスコに1,6−ヘキサンジオールを使用して得たポリカーボネートジオール(分子量1,000)37.6gとジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート167.9gとを仕込み、115℃で2時間攪拌した。これにさらに、ジメチロールプロピオン酸48.6gとトリエチルアミン36.7gとN−メチル−2−ピロリドン108.9gとをそれぞれ加え、60℃で2時間攪拌してプレポリマー組成物を得た。このプレポリマー組成物300gを、イオン交換水661.8g中に滴下して、20分攪拌後、エチレンジアミン8.1gとイオン交換水24.4gとの混合液を加えて15分攪拌し、平均粒子径35nmおよび酸価80(mgKOH/g)のアニオン性水分散型ポリウレタンNo.8を得た。
ベンゾトリアゾール0.015質量%とシュウ酸0.15質量%とドデシルベンゼンスルホン酸0.025質量%と過硫酸アンモニウム1.0質量%と表4に記載の研磨砥粒3質量%(固形分)と表4に記載のコロイダルシリカとを水に混合し、各種金属CMP用研磨組成物を調製した。なお、pH調整剤はアンモニアを使用し、全てpH9.5に調整した。得られた金属CMP用研磨組成物について、上記実施例1と同様にエッチング試験による銅のエッチング速度の評価および研磨試験による銅の研磨速度の評価を行った。
ベンゾトリアゾール0.02質量%とシュウ酸0.15質量%と過酸化水素5.0質量%と表5に記載の研磨砥粒0.9質量%(固形分)とを水に混合し、各種金属CMP用研磨組成物を調製した。なお、pH調整剤は酢酸を使用し、pH3に調整した。得られた金属CMP用研磨組成物について、上記実施例1と同様にエッチング試験による銅のエッチング速度の評価および研磨試験による銅の研磨速度の評価を行った。
Claims (6)
- 研磨砥粒として水分散型ポリウレタンを0.01〜10質量%含有してなることを特徴とする銅CMP用研磨組成物。
- 水分散型ポリウレタンがアニオン性水分散型ポリウレタンである請求項1に記載の銅CMP用研磨組成物。
- 水分散型ポリウレタンの平均粒子径が5〜200nmである請求項1または2に記載の銅CMP用研磨組成物。
- さらに有機酸成分を0.0005〜5質量%およびpH調整剤成分を含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載の銅CMP用研磨組成物。
- さらに酸化剤成分を0.01〜10質量%含有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の銅CMP用研磨組成物。
- さらに研磨砥粒としてコロイダルシリカを0.01〜5質量%含有してなる請求項1〜5のいずれか1項に記載の銅CMP用研磨組成物。
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