JP4988751B2 - 粒子光学補正器 - Google Patents

Description

本発明は、アプラナティック結像系用の電気光学補正器、乃至、丸形レンズとヘクサポールフィールドを用いて、３次の開口誤差も３次の光軸外コマ収差も除去するための粒子光学補正器に関する。

例えば、高解像度電子顕微鏡のような、高解像度結像電気光学系の効率は、３次の開口誤差によって制限される。そのため、そのような系の今後の開発の主要な関心事は、３次の開口誤差を除去することにある。高解像度の他に更に重要な効率の基準は、十分な大きさのイメージ領域を結像することにある。このイメージ領域の限界は、高解像度電気光学系では、光軸外コマ収差のイメージ誤差によって決められ、この光軸外コマ収差は、等方性コマ収差とも屡々呼ばれる半径方向コマ収差及び異方性コマ収差とも呼ばれる方位角のコマ収差の各成分からなる。従って、一方の概念系では、半径方向と方位角とが対立し、他方の概念系では、等方性と異方性とが対立する。通常の専門用語によると、３次の開口誤差も光軸外コマ収差も有していない、電子光学的な結像系が、アプラネートと呼ばれる。これから導出して、系が、３次の開口誤差の他に単に半径方向の（等方性）コマ収差だけがない場合には、セミアプラネートと呼ばれる。以下、常に前提となる、直線状の軸と丸いガウスビーム路を有する電子光学系では、３次の開口誤差は、３次の球面収差からなる。その際、開口誤差とは、結像すべき対象面内の光軸が出るガウスの基本路だけが誤差積分(Fehlerintegralen)内に入るような全てのイメージ誤差を包括する。これに対して、結像すべき対象／イメージ誤差の大きさは、光軸外誤差によって決められ、つまり、光軸外の対象面内から出る、ガウスの屈折光学による基本路も誤差積分内に含まれるような誤差である。高解像度電子光学機器では、イメージフィールドを制限した場合、光軸外コマ収差のイメージ誤差が前景内に生じる。

出願人のドイツ特許出願第１９８０２４０９号には、丸形レンズデュプレットが設けられた、２つのヘクサポールが用いられている補正部(Korrektiv)が記載されている。この各レンズからなる補正部と対物レンズとの間に、別の丸形レンズが、対物レンズのコマなし面が、補正部のコマなし面内に結像されるように設けられている。概念「コマなし面」又は「コマなし焦点面」とは正確に言うと、特性「等方性（半径方向）コマ収差」のことである。つまり、この構成の補正部は、光軸外コマ収差の半径方向（等方性）成分を回避して、対物レンズの３次の開口誤差（３次の球面収差）を除去する。上述の通常の専門用語によると、対物レンズ、トランスファ系及び補正部からなるシステムは、セミアプラナートを示す。

上述の装置では、補正部によって制御されない磁気対物レンズの不可避な異方性光軸外コマ収差により、シャープに結像されるイメージ領域が制限され、このイメージ誤差を完全に除去することにより、イメージ領域が、かなり拡大することがあるという欠点がある。

出願人のドイツ特許出願第102005050810.3号には、丸形レンズデュプレットが設けられた、３つ以上のヘクサポールフィールドが用いられている補正部(Korrektiv)が記載されている。このシステムによると、３次の開口誤差と３次の光軸外コマ収差を同時に補正することができ、その際、全てのヘクサポールフィールドは、比較可能な強度で、部分的に相互に回転して設けられている。本願出願では、システムは、３つ、５つ乃至６つの強力なヘクサポールフィールドを有する系について記載しており、その際、各々ヘクサポールフィールドの重心は、当該ヘクサポールフィールド間に設けられた丸形レンズによって順次連続して結像される。５つ以上の強力なヘクサポールフィールドを有する系は、その長さと複雑さの理由で不利と言われている。３つしか強力なヘクサポールを有していない系は、対物レンズと補正部との間の中間の拡大を選択することによって、結像の光学的質を劣化させずに、補正力を電気的に適合させる自由度を提供しない。この制限により、この補正部を特殊な用途に用いる可能性が制限され、結像系の作動状態に補正力を適合させるのを断念せざるを得ないことがある。

それに基づいて、本発明の課題は、３次の開口誤差を除去する他に、方位角（異方性）光軸外コマ収差も除去する、電気光学的な補正部を提供することにあり、その際、本発明の特別な目的は、最小個数の強力なヘクサポールフィールドと共にうまく作動し、それにも拘わらず、対物レンズと補正部との間の中間の拡大を自由に選択することができ、従って、補正力を電気的に適合することができることにある。

この課題は、本発明によると、補正器は、同軸に設けられた３つのヘクサポールフィールドからなり、その際、隣接する各ヘクサポールフィールド間に各々１つの丸形レンズデュプレットが設けられており、該丸形レンズデュプレットは、隣接する各ヘクサポールフィールドのうちの真ん中のヘクサポールフィールドが、当該真ん中のヘクサポールフィールド以外のヘクサポールフィールド上に結像されるように調整され、該調整時に、各ヘクサポールフィールド間に１つの中間面が位置するようになり、中間面は、相互に共役となり、３つのヘクサポールフィールドは、ラーモア関係系内で同じ方向に配向されており、３つのヘクサポールフィールドの各強度は、３非点収差が０になるように選定され、補正器は、各ヘクサポールフィールド対の各フィールドが非対称に相互に励起される２つのヘクサポールフィールド対を有しており、対は、各々両中間面を中心にして設けられており、ヘクサポールフィールドによって定義された配向に対して、３次の光軸外コマ収差が補正されるように回転されることにより解決される。

ヘクサポールフィールドの各強度比は、２次の３つの軸方向非点収差の各イメージ誤差係数が０となるように選定されている。各強度比の決定後残ったままの強度パラメータは、開口誤差の補正の調整のために利用される。

付加的に、補正部は、前述の中間面を中心にして設けられている、ヘクサポールフィールドの２つの対を３次の光軸外コマ収差の補正のために有している。前述のヘクサポールフィールド対の各強度は、有利には、少なくとも１０の係数だけ、典型的には、５０〜１００の係数だけ、他方のヘクサポールフィールドの強度よりも低い。ヘクサポールフィールド対の各強度が低い利点は、特に構成を実現するのが簡単という点にある。

３次の光軸外コマ収差の補正は、ヘクサポールフィールドの両方の対によって生じる。この対の、強力なヘクサポールフィールドの配向に対して相対的な共通の配向は、補正すべき光軸外コマ収差に相応して調整される必要がある。補正部の特に有利な変形実施例は、磁気対物レンズの光軸外コマ収差の異方性（方位角）成分の補正に使われる。この特別な場合、弱いヘクサポールフィールドが、ラーモア系内で３０°の角度だけ回転するように測定される。

上述のように、ヘクサポールフィールド対のコマ収差補正用の各フィールド強度は、開口誤差補正用のヘクサポールフィールドの強度よりも明らかに弱い。この特性により、補正部の、この補正自由度がほぼ減結合されるようになり、このことは、実際に非常に有利に作用する。

実際には、有利には、ヘクサポールは、空間固定により保持され、これに対して相対的に、ヘクサポールフィールド対は、電気的又は機械的に、光軸外コマ収差のイメージ誤差が除去される迄回転される。やり方は、実験による調整により、又は、回転角の数学的検出及び該検出結果による調整により行うことができる。このようにして、３次の開口誤差の他に付加的に３次の光軸外コマ収差の方位角成分も除去する補正部が得られる。

既存の軸方向磁場に基づいて、電子、一般的には、荷電粒子流の軌道が回転する。電子の加点運動に相応して一緒に動き、ラーモア関係系(Larmor-Bezugssystem)と呼ばれる座標系で表示することによって、物理的状況の説明を簡単にすることができる。本発明の範囲内で説明するヘクサポールフィールドの回転は、常にラーモア関係系に対して相対的に測定される。

補正部の役割は、補正部が一緒に作動する対物レンズのイメージ誤差を除去すること、又は、少なくとも低減することにある。その際、本発明の範囲内で、補正部及びレンズのトランスファレンズ系を前側に設けるか又は後ろ側に設けるかどうかは、基本的に自由である。以下、補正すべきレンズ、つまり、通例、磁気レンズである対物レンズについては、言及されないままであり、先ず、補正部の構成について説明されている。

丸形レンズデュプレットの調整が、真ん中のヘクサポールフィールドの中間面が、第１乃至最後のヘクサポールフィールドの、各々当該中間面側の入口面上に結像されるように行われる場合、軸方向の３ラップ誤差を最小にすることができる。

しかし、最も一般的な場合、有利に、顕微鏡状のビーム路が各ヘクサポール間にある必要はない。この手段によって、補正部の調整及び調節を簡単にすることができる。ビーム路の対称性／非対称性があることにより、多数の残留イメージ誤差が低減及び／又は消失する。

補正部の特に有利な実施例は、系の真ん中に対して対称的な、各光学要素の配置構成により得られ、その際、丸形レンズ及びヘクサポールフィールドの誤差の各強度は、真ん中の面に対して対称的である。それとは異なり、ヘクサポールフィールド対の励起は、真ん中の面に対して非対称的に行われる。

軸方向の基本路の経過は、真ん中の面に対して対称的に調整され、他方、光軸外基本路は、真ん中の面に対して非対称である。

補正部の対称的な構成及び対称的なビーム路は、有利に、補正部によって導入される３ラップ誤差（４次の３数値開口誤差）が小さいままであるように作用する。

この系内で常に未だ存在する軸方向の３ラップ誤差は、３数値横断面の粒子流をフォーカシングする、補正部の丸形レンズの副次的作用である。軸方向の３ラップ誤差の完全な補正は、補正部の各丸形レンズを適合的に変更することによって達成される。真ん中のヘクサポールフィールド側の各丸形レンズのフィールドを形成する粒子（磁場の亀裂(magnetischer Spalt)）の幾何形状は、この丸形レンズの３次の開口誤差が、同じ屈折力の場合に低減するように変えられる。これは、磁場の亀裂の長さを短くすることによって、及び／又は、孔の直径を小さくすることによって達成される。その際、レンズ電流は、レンズの屈折力の分だけ小さく一定に保持される。この手段を用いて、システムの残留３ラップ誤差を最小化又は寧ろ完全に補償することができる。

更に、丸形レンズデュプレットの両変換レンズの両焦点距離が等しく選定されている（ｆ＝ｆ’）場合、補正部の特に簡単な実施例が達成される。この特別な場合には、真ん中のヘクサポールフィールドの実効的な長さは、外側のヘクサポールフィールドの長さの２倍に等しいように選定される必要がある。その際、外側のヘクサポールフィールドと真ん中のヘクサポールフィールドの各ヘクサポールフィールド強度は、等しい。長さ及び強度パラメータの、このような選択により、２次の軸方向３数値非点収差と、２次の３数値歪を特に簡単に同時に消失することができるようになる。この、２重の対称な構成のために、軸方向の基本軌道の経過は、中間面に対して非対称であり、外側の軸方向の基本軌道は、中間面に対して対称である。

丸形レンズデュプレットの両変換レンズの各焦点距離が、各々異なって選定されている場合、真ん中のヘクサポールフィールドの長さ及び強度は、再度、軸方向で２次の３数値非点収差と２次の３数値歪が、所要のように同時に消失されるように適合化される必要がある。２つの自由なパラメータ、長さ比及び強度比を用いて、これら両要件を計算により常に充足することができる。従って、焦点距離が同じ（ｆ＝ｆ’）である場合で上述した２重対称は、失われるが、それにより、補正部の光学特性に関する欠点もない。焦点距離比ｆ／ｆ’＞１を構成すると、更に技術的に有利である。と言うのは、その際、外側ヘクサポールフィールドの長さが変えられないままである場合には、真ん中のヘクサポールフィールドの長さは、ｆ／ｆ’＝１の場合に較べて短いからである。この特別な場合には、真ん中のヘクサポールフィールドを、１２数値回転対称部を有するマルチポールエレメント上に形成すると有利である。その際、同じエレメント上に、５次の６数値非点収差の補正に使われる付加的なドデカ（乃至１２）ポールフィールドを重畳することができる。その結果、この手段により、補正部を有する結像系の光学的分解能を更に改善することができる。

計算により、外側の丸形レンズ（２０，２１）の焦点距離f₁と内側の丸形レンズ（１８，１９）の焦点距離f₂との関係及び外側ヘクサポールフィールド（３，５）の長さL₁と真ん中のヘクサポールフィールド（４）の長さL₂の関係、並びに、外側ヘクサポールフィールド（３，５）の規格化された強度H₁と真ん中のヘクサポールフィールド（５）の規格化された強度H₂との関係を得ることができる。ここでは、ｚ方向のヘクサポールフィールドのフィールド経過が、少しずつ一定の経過（箱状のフィールド）によって接近される簡単なモデルに限定することにする。軸方向に２次の３数値非点収差が０になる要件は、その際、以下の条件に帰結する：
2f₁ ³ H₁ L₁ = f₂ ³ H₂ L₂
同様に、２次の３数値歪が０になる要件は、以下の付加的な条件となる：
8H₁L₁ ³/f₁ = H₂L₂ ³/f₂
既知の焦点距離比f₁/f₂の場合、この式により、フィールド強度比が特定され、
H₁/H₂ = (f₂/f₁)⁵
並びに、長さ比
L₁/L₂ = 1/2(f₁/f₂)²
が特定される。

基本的には、実際のシステムでは、計算モデルと較べて、容易に偏移可能なフィールド強度値及び長さが調整され、乃至、形成される必要がある点に基づいており、そのことは、縁フィールド効果、材料特性及び補正部の最終的な構成精度に影響する。

３個のヘクサポールフィールドは、光軸に関して測定されて、ラーモア関係系内で相互に回転しないようにされる。各トランスファレンズの各焦点距離が同じで、且つ、構成が中間面に関して対称であり、且つ、各トランスファレンズのレンズ流が中間面に関して対向するように配向されている場合、丸形レンズデュプレットの結像は、回転せずに行われる。この場合に限って、強力なヘクサポールエレメントが、ラーモア系内で測定しても相対的に相互に回転しない。丸形レンズデュプレットが回転しないで結像されない場合、ラーモア系内で、真ん中のヘクサポールフィールドの、同じように配向された強力な外側ヘクサポールフィールドに対して相対的に相応に回転することができる。

ヘクサポールフィールドの形成は、本発明の範囲内では、基本的にない。ヘクサポールフィールドは、６数値回転対称部を備えたマルチポールエレメントを用いることによって形成される。１２数値回転対称部を備えたマルチポールエレメントを用いることもでき、同じ方向に設置することによって、隣接する各ポールエレメントにより、ヘクサポールフィールドを形成することができる。個別ポールエレメントの設置を後から変えることによって、機械的な位置付けを維持して、電気的及び／又は磁気的なヘクサポールフィールドを回転及び調整することができる。

１実施例では、専ら、２個以上の磁気レンズフィールドから丸形レンズが形成されており、その結果、調整及び調節のために、各々の強度をパラメータとして利用することができる。そのような構成は、丸形レンズフィールドを形成し、その際、各々の強度の相応の選択の場合、丸形レンズの屈折力を維持して、ラーモア回転又は丸形レンズの３次の開口誤差を所望のように制御することができる。この付加的な自由度は、有利に、補正部の電気的な微調整のために利用することができる。

補正器と対物レンズとの間のトランスファレンズ系のために、２つの択一的選択肢がある：
トランスファレンズ系は、個別丸形レンズから形成することができ、個別丸形レンズは、当該レンズの強度及び位置に関して、対物レンズのコマなし面が補正部のコマなし面内に結像されるように調整される。

択一選択肢は、丸形レンズデュプレットを対物レンズと補正器との間のトランスファレンズ系として用いる点にある。この場合にも、調整は、対物レンズのコマなし面が、補正部のコマなし面内に結像されるようにして行われる。この手段は、上述のイメージ誤差に対して付加的な、等方性（半径方向の）コマ収差を回避することができるように構成されている。その際、アプラネートの特性を有している構成が得られる。

全てのヘクサポールフィールド強度の適合を介して、又は、対物レンズと補正部との間の中間拡大(Zwischenvergroesserung)を選択することによって、補正力を対物レンズの補正すべき開口誤差に適合することができる。

補正の手段のために、補正器をビーム路の方向に設け、場合によっては、各トランスファレンズの中間切換により、補正すべきレンズの後ろ側に設けるかどうか、又は、補正器及び場合によってはトランスファレンズを、補正すべきレンズの前側に設けるかどうかは、些細なことでしかない。目的は、補正器乃至トランスファレンズの調整により常に、光学系全体の所定のイメージ誤差を完全に除去することである。

本発明の更なる詳細な点、特徴及び利点について、本発明の図示の実施例を用いて、以下、詳細に説明する。その際：
図１は、ヘクサポールフィールドを備えた補正器及び基本路上の経過を示す。

図１には、一般的には磁気丸形レンズである対物レンズ１、補正器２及びそれらの間に設けられたトランスファレンズ系１６からなる電気光学的装置の構成を、原理を分かり易くするように側面で示す。これら各エレメントは全て、光軸１７を共有している。

補正器２は、３個のヘクサポールフィールド３，４，５を有しており、それらの間に設けられた、順次連続して設けられた丸形レンズデュプレット２０，１８および１９，２１を有している。中間イメージ（＝中間面）の面１２，１３の周囲に、２つのヘクサポールフィールド対６−９が設けられている。ビーム路の方向に、矩形として図示された第１のヘクサポールフィールド３、焦点距離ｆ’の第１の丸形レンズ２０が位置している。丸形レンズ２０とヘクサポールフィールド３の出口面２２との間の間隔は、丸形レンズ２０の焦点距離ｆ’に相応している。

これに、ヘクサポールフィールド対６，７が続く。各ヘクサポールフィールド６，７の間の中間面１２は、丸形レンズ２０から距離ｆ’のところ、及び、焦点距離ｆの後続の丸形レンズ１８から距離ｆのところに位置している。それにより、後続のヘクサポールフィールド４が続き、このヘクサポールフィールド４の拡がりは、ｚ方向で測定して、第１の外側のヘクサポールフィールド３の拡がりよりも長い。丸形レンズ１８迄の間隔内で、ヘクサポールフィールド４の中間面内に、補正部の中間面１０が位置している。ここから、拡大部(Ausbau)が、中間面１０に対して対称的に続いている。ヘクサポールフィールド３，１０，５は、中間面１０に対して対称的に配向されている。それに対して、弱いヘクサポールフィールド対６，７，８，９は、面１０，１２，１３に対して非対称に配向されている。

対物レンズ１と補正器２との間には、２つの丸形レンズからなるトランスファレンズ系１６が中間に設けられている。トランスファレンズ系１６の調整は、対物レンズ１のコマなし面１１が、補正部２のコマなし面２２内に結像されるようにして行われる。軸方向の基本路１４及び外側軸の基本路１５は、結像内で再形成される経過を有している。補正部の領域内では、軸方向の基本路１４のゼロ位置が、光軸外コマ収差の補正に使われるヘクサポールフィールド対６，７乃至８，９の中間面１２，１３内に位置しており、外側軸の基本路１５のゼロ位置は、第１のヘクサポールフィールド３の出口面２２及びヘクサポールエレメント４の中間面１０並びにヘクサポールフィールド５の入口面２３内に位置している。トランスファレンズ系１６の相応の調整により、補正器２を有する全体内で、３次の開口誤差も光軸外コマ収差も、つまり、その等方性（半径方向）成分も異方性（方位角方向）成分も除去することができる。

ヘクサポールフィールドを備えた補正器及び基本路上の経過を示す図

Claims (19)

1. 丸形レンズとヘクサポールフィールドとを用いて、３次の開口誤差も３次の光軸外コマ収差も除去するための粒子光学補正器において、
   当該の補正器は、同軸に設けられた３つのヘクサポールフィールド（３−５）からなり、
   隣接する各ヘクサポールフィールド間に各々１つの丸形レンズデュプレット（２０，１８および１９，２１）が設けられており、
   該丸形レンズデュプレット（１８−２１）は、前記隣接する各ヘクサポールフィールドのうちの真ん中のヘクサポールフィールド（４）が、当該真ん中のヘクサポールフィールド（４）以外の各ヘクサポールフィールド（３，５）上に結像されるように調整され、
   該調整時に、前記各ヘクサポールフィールド（３，４，５）間に１つの中間面（１２，１３）が位置するようになり、
   当該中間面（１２，１３）は、相互に共役となり、前記３つのヘクサポールフィールドは、ラーモア関係系内で同じ方向に配向されており、
   前記３つのヘクサポールフィールドの各強度は、３数値非点収差のイメージ誤差係数が０になるように選定され、
   前記補正器は、各ヘクサポールフィールド対（６−９）の各フィールドが非対称に相互に励起される２つのヘクサポールフィールド対（６−９）を有しており、
   当該対は、各々両中間面（１２，１３）を中心にして設けられており、
   前記ヘクサポールフィールド対の配向は、前記ヘクサポールフィールド（３−５）によって定義された配向に対して、３次の光軸外コマ収差が補正されるような角度だけ回転されることを特徴とする
   補正器。
2. 前記の隣接する各ヘクサポールフィールドのうちの真ん中のヘクサポールフィールド（４）の真ん中の面（１０）は、各々当該真ん中のヘクサポールフィールド（４）を向いた、前記真ん中のヘクサポールフィールド（４）以外の第１のヘクサポールフィールド（３）および最終のヘクサポールフィールド（５）の入口面（２２，２３）上に結像される、
   請求項１記載の補正器。
3. ビーム路は、第１のヘクサポールフィールド（３）と第２のヘクサポールフィールド（４）との間及び前記第２のヘクサポールフィールド（４）と第３のヘクサポールフィールド（５）との間で各々望遠鏡状である、
   請求項１又は２記載の補正器。
4. 前記のヘクサポールフィールド対（６−９）の各強度は、ヘクサポールフィールド（３−５）の各強度の最大１／１０である、
   請求項１から３迄の何れか１記載の補正器。
5. 前記のラーモア関係系にて、光軸外コマ収差のイメージ誤差が除去されるまで、前記の強力なヘクサポールフィールド（３−５）の配向に対して相対的に、前記のヘクサポールフィールド対（６−９）の共通の配向が電気的または機械的に回転される、
   請求項４に記載の補正器。
6. 前記のヘクサポールフィールド対（６−９）は、ラーモア関係系内で、ヘクサポールフィールド（３−５）の配向に対して±３０°の角度だけ回転されている、
   請求項５記載の補正器。
7. 前記の外側のヘクサポールフィールド（３，５）の長さ（Ｌ ₁ ）と、前記の真ん中のヘクサポールフィールド（４）の長さ（Ｌ₂）との長さ比（Ｌ ₁ ／Ｌ ₂ ）は、軸方向の２次の３数値非点収差が消失されるように選定されている、
   請求項１から６迄の何れか１記載の補正器。
8. 前記の外側のヘクサポールフィールド（３，５）および真ん中のヘクサポールフィールド（４）の長さ（Ｌ ₁ ，Ｌ ₂ ）および強度（Ｈ ₁ ，Ｈ ₂ ）は、軸方向の２次の３数値非点収差が消失されるように選定されている、
   請求項７記載の補正器。
9. 前記の補正器の構造は、真ん中の面（１０）に対して対称であり、
   前記のフィールド強度を選定して、軸方向の基本路（１４）が真ん中のヘクサポールフィールド（４）の真ん中の面（１０）に対して対称であり、光軸外基本路（１５）は、前記真ん中の面（１０）に対して非対称であるようにした、
   請求項１から８迄の何れか１記載の補正器。
10. 前記のヘクサポールフィールド（３−５）の励起は、前記の真ん中の面（１０）に対して対称的であり、
    前記のヘクサポールフィールド対（６−９）の励起は、前記の真ん中の面（１０）に対して非対称であるように選定されている、
    請求項１から９迄の何れか１記載の補正器。
11. 前記の円形レンズデュプレット（２０，１８および１９，２１）の各丸形レンズ（１８−２１）の各焦点距離は、各ヘクサポールフィールド（３−５）間で同じに選定されており、
    各基本路は、前記の補正器の真ん中の面（１０）及び各中間面（１２，１３）に関して２重対称である、
    請求項１から１０迄の何れか１記載の補正器。
12. 前記の真ん中のヘクサポールフィールド（４）の隣にありかつ前記の円形レンズデュプレット（２０，１８および１９，２１）の両丸形レンズ（１８，１９）は、それぞれの焦点距離が同じであり、補正部(Korrektiv)の前記の円形レンズデュプレット（２０，１８および１９，２１）の他方の丸形レンズ（２０，２１）よりも大きな開口誤差係数を有しており、且つ、適切な調整により３ラップ誤差(Dreilappfehler)が除去されるように変えられる、
    請求項１から１１迄の何れか１記載の補正器。
13. 前記のヘクサポールフィールド（３，４，５，６，７，８，９）のうちの少なくとも１つは、６個の回転対称部を有するマルチポールエレメントから形成されている、
    請求項１から１２迄の何れか１記載の補正器。
14. 前記のヘクサポールフィールド（３，４，５，６，７，８，９）のうちの少なくとも１つは、１２個の回転対称部を有するマルチポールエレメントから形成されている、
    請求項１から１３迄の何れか１記載の補正器。
15. 前記の真ん中のヘクサポールフィールド（４）は、少なくとも１２個の回転対称部を有するマルチポールエレメントから形成されており、
    同じ前記マルチポールエレメント上に、６個の非点収差の補正に使われるドデカポールフィールドが重畳されている、
    請求項１から１４迄の何れか１記載の補正器。
16. 前記の丸形レンズ（１８−２１）のうちの１つは、少なくとも２つの磁気レンズフィールドから構成されており、
    該２つの磁気レンズフィールドは、その強度が個別に調整可能であり、当該調整により、前記丸形レンズの屈折力が維持されて、当該丸形レンズのラーモア回転又は当該丸形レンズの開口誤差が調整可能であるようにする、
    請求項１から１５迄の何れか１記載の補正器。
17. 前記の対物レンズ（１）の方向に、トランスファレンズ系（１６）が補正器（２）の前に設けられており、
    該トランスファレンズ系（１６）は、丸形レンズから構成されており、且つ、当該丸形レンズが、前記の対物レンズ（１）のコマ収差なし面（１１）を補正器のコマなし面（２２）上に結像するように調整される、
    請求項１から１６迄の何れか１記載の補正器。
18. 前記の対物レンズ（１）の方向に、トランスファレンズ系（１６）が補正器（２）の前に配置されており、
    該トランスファレンズ系（１６）は、丸形レンズデュプレットから構成されており、
    該丸形レンズデュプレットは、対物レンズ（１）のコマ収差なし面（１１）を補正器のコマなし面（２２）上に結像する、
    請求項１から１６迄の何れか１記載の補正器。
19. 請求項１から１８迄の何れか１記載の補正器に、対物レンズ（１）及びトランスファレンズ系（１６）がビーム入口の方向に前側又は後ろ側に設けられていることを特徴とする
    粒子光学結像系。

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