JP4981703B2 - 外観検査装置および外観検査方法 - Google Patents
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Description
また、第2の従来技術は、半導体ウエハの周縁部分のレジストを除去した場合に、残ったレジストが半導体ウエハの中心からずれているか否かを調べることを目的としているので、周方向に等分した検査点を調べれば足りるが、半導体ウエハの欠陥は周方向に等分した位置に現れるとは限らないため、半導体ウエハの周縁部分の欠陥の発生する可能性の高い部分を効率良く検査することはできない、という問題点があった。
すなわち、本発明の一態様によれば、本発明の外観検査装置は、半導体基板を製造するための各プロセスを実行する1つ以上の半導体製造装置とともに半導体製造システムを構成し、製造過程において前記半導体基板の外観を検査する外観検査装置である。そして、本発明の外観検査装置は、前記半導体製造装置が前記半導体ウエハを保持する際の前記半導体ウエハの保持位置に関するウエハ保持位置情報を、前記半導体製造装置を特定するための装置識別子と対応付けて取得するウエハ保持位置情報取得手段と、前記ウエハ保持位置情報取得手段によって前記装置識別子と対応付けて取得されたウエハ保持位置情報に基づいて、前記半導体ウエハの周縁部分を検査するための検査レシピを作成する検査レシピ作成手段と、前記検査レシピ作成手段によって作成された検査レシピを格納する検査レシピ格納手段と、前記検査レシピ格納手段によって格納された検査レシピに基づいて、前記半導体ウエハの周縁部分を撮像する撮像手段とを備えることを特徴とする。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明を適用した外観検査装置を含む半導体製造システムの概要を示す図である。
周縁撮像部5は、ベース部2に固定されたアーム部21で支えられている。周縁撮像部5は、側面視で半導体ウエハWの周縁部分を受け入れ可能な凹部22を有する略C字形状を有し、半導体ウエハWの周縁部分を複数の角度方向から撮像可能な不図示のカメラが配設されている。なお、カメラの数は、1つ又は3つ、5つなど、任意に変更できる。カメラを1つだけ使用するときは、カメラを移動自在に支持することで撮像位置を変更可能にするか、カメラを固定して可動式のミラーで撮像位置を変更可能にする。また、半導体ウエハWの周縁部分を照らす不図示の照明装置は、1つ又は複数設けても良い。照明装置にて、明視野または暗視野、または明暗視野両方で観察できるようにする。
次に、このような外観検査装置1が実行する外観検査方法について説明する。
図2において、例えば、半導体ウエハWのノッチ位置と呼ばれる凹部を下にとり、半導体ウエハWの中心を(0,0)座標とする。ここで、X方向右がプラス、Y方向上がプラスとする。
図3において、第1の保持位置201(X1,Y1)、第2の保持位置202(−X2、Y2)および第3の保持位置203(X3、−Y3)は、半導体ウエハWの中心座標(0,0)からの角度で示されている。例えば、第1の保持位置201(X1,Y1)は、原点(0,0)を中心としてノッチ位置から半導体ウエハWの円周を130°回転した位置であり、この位置に座標変換することにより示すことができる。
通常、半導体ウエハWの周縁部分の形状は、SEMI規格で規定されていて砥石などで、ラウンド加工されている。したがって、半導体ウエハWの保持位置は、装置A101、装置B102、装置C103、装置D104または装置E105等の各半導体製造装置の違いによって、円周方向の位置の違いが存在するように断面方向でも違いが存在する。図4に示すように、半導体ウエハWの厚さ方向の中心に線を引き、ここを0°位置とする。保持位置の断面方向は保持部の形状などにより、+R1°、−R2°などが各半導体製造装置の違いによって存在する。
例えば、ウエハ保持部4は、半導体ウエハWをXYZの3方向に移動可能で、かつ半導体ウエハWを回転させることができるものであれば良く、上述した第1の実施の形態の構成に限定されない。また、半導体ウエハWをXYZに移動させる代わりに、周縁撮像部5をXステージ11、Yステージ12、Zステージ13に搭載させて、XYZの3方向に移動可能にしても良い。
また、上位ネットワークホスト100ではなく、上位ネットワークホスト100が指定するフォルダなど、保持位置のデータが保存されているところであれば、どこでも良い。ネットワークでなく、市販されているメモリを使って外観検査装置1に、保持位置のデータを供給しても良い。
(第2の実施の形態)
次に、本発明を適用した第2の実施の形態について説明する。
2 ベース部
3 検査部
4 ウエハ保持部
5 周縁撮像部
6 装置制御部
11 Xステージ
12 Yステージ
13 Zステージ
14 回転部
15 回転軸
16 回転プレート
21 アーム部
22 凹部
41 コンピュータ
42 マウス
43 キーボード
44 モニタ
45 I/O(Input/Output)装置
46 制御部
47 記憶装置
51 検査制御部
52 レシピ登録部
100 上位ネットワークホスト
101 装置A(半導体製造装置)
102 装置B(半導体製造装置)
103 装置C(半導体製造装置)
104 装置D(半導体製造装置)
105 装置E(半導体製造装置)
201 第1の保持位置
202 第2の保持位置
203 第3の保持位置
Claims (6)
- 半導体基板を製造するための各プロセスを実行する1つ以上の半導体製造装置とともに
半導体製造システムを構成し、製造過程において前記半導体基板の外観を検査する外観検
査装置であって、
前記半導体製造装置が前記半導体ウエハを保持する際の前記半導体ウエハの保持位置に
関するウエハ保持位置情報を、前記半導体製造装置を特定するための装置識別子と対応付
けて取得するウエハ保持位置情報取得手段と、
前記ウエハ保持位置情報取得手段によって前記装置識別子と対応付けて取得されたウエ
ハ保持位置情報に基づいて、前記半導体ウエハの周縁部分を検査するための検査レシピを
作成する検査レシピ作成手段と、
前記検査レシピ作成手段によって作成された検査レシピを格納する検査レシピ格納手段
と、
前記検査レシピ格納手段によって格納された検査レシピに基づいて、前記半導体ウエハ
の周縁部分を撮像する撮像手段と、
を備えることを特徴とする外観検査装置。 - さらに、
前記撮像手段によって撮像された周縁部分の撮像画像に基づいて、前記周縁部分の欠陥
を検出する欠陥検出手段と、
前記欠陥検出手段によって欠陥が検出された場合、前記検査レシピに基づいて、前記欠
陥を生じさせた半導体製造装置を特定する欠陥発生装置特定手段と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の外観検査装置。 - 前記ウエハ保持位置情報取得手段は、前記装置識別子と対応付けて取得するウエハ保持
位置情報を、各半導体製造装置と互いに接続されたネットワークを介して取得することを
特徴とする請求項1または2に記載の外観検査装置。 - 前記ウエハ保持位置情報は、前記半導体製造システムを管理するネットワークホストコ
ンピュータまたはネットワークフォルダに前記装置識別子と対応付けられて格納されてい
ることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の外観検査装置。 - さらに、
前記欠陥検出手段によって検出された欠陥に関する欠陥情報および前記欠陥発生装置特
定手段によって特定された半導体製造装置に関する装置情報を、前記ネットワークホスト
コンピュータまたはネットワークフォルダにフィードバックするフィードバック手段、
を備えることを特徴とする請求項4に記載の外観検査装置。 - 半導体基板を製造するための各プロセスを実行する1つ以上の半導体製造装置とともに
半導体製造システムを構成し、製造過程において前記半導体基板の外観を検査する外観検
査方法であって、
前記半導体製造装置が前記半導体ウエハを保持する際の前記半導体ウエハの保持位置に
関するウエハ保持位置情報を、前記半導体製造装置を特定するための装置識別子と対応付
けて取得し、
前記装置識別子と対応付けて取得されたウエハ保持位置情報に基づいて、前記半導体ウ
エハの周縁部分を検査するための検査レシピを作成し、
前記作成された検査レシピを記録媒体に格納し、
前記記録媒体に格納された検査レシピに基づいて、前記半導体ウエハの周縁部分を撮像
する、
ことを特徴とする外観検査方法。
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JP2009188226A5 JP2009188226A5 (ja) | 2011-03-03 |
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