JP4978071B2 - 偏光板保護フィルム用セルロースエステルフィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
(1)可塑剤を含有する膜厚15〜65μmの偏光板保護フィルム用セルロースエステルフィルムを共流延で積層フィルムとして製造するに当たり、該フィルムの流延用支持体に接する層の可塑剤添加量(質量%)を、当該支持体に接する層に隣接する層の可塑剤添加量(質量%)よりも多くすることを特徴とする偏光板保護フィルム用セルロースエステルフィルムの製造方法。
UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−8:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−9:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−10:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。
(1)1,4−ジフェニルアミノアンスラキノン
(2)1,4−ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)アンスラキノン
(3)1,4−ビス(2,4−ジエチル−4−メチルフェニル)アンスラキノン
(4)1,4−ビス(2,6−ジメチル−4−シクロヘキシルスルホンアミドフェニル)アンスラキノン
(5)1−メトキシフェニルアミノ−4−ヒドロキシ−5−メトキシフェニルアミノ−8−ヒドロキシアンスラキノン
(6)1,4−ビス(2,4,6−トリプロピルシクロヘキシルスルホンアミドフェニル)アンスラキノン
(7)1−エトキシフェニルアミノ−4−ヒドロキシー5−メトキシフェニルアミノ−8−ヒドロキシアンスラキノン
(8)1,4−ビス(2,4,6−トリメトキシフェニルアミノ)アンスラキノン
(9)1,4−ビス(2,4,6−トリエチルフェニル)アンスラキノン
(10)1,4−ビス(2,4−ジイソプロポキシ−6−メチルフェニル)アンスラキノン
(11)1,4−ビス(2,6−ジクロロ−4−シクロヘキシルスルホンアミドフェニル)アンスラキノン
(12)1−(2,4,6−トリメトキシフェニルアミノ)−4−ヒドロキシ−5−(2,4,6−トリメトキシフェニルアミノ)−8−ヒドロキシアンスラキノン
(13)1,4−ビス(2,4,6−トリプロピルシクロヘキシルスルホンアミドフェニル)アンスラキノン
(14)1,5−ビス(メトキシフェニルアミノ)−4,8−ジヒドロキシアンスラキノン
これらの染料のフィルムへの添加量はフィルムの透明性を維持するため0.1〜1000μg/m2、好ましくは10〜100μg/m2である。
本発明においては、セルロースエステルを溶剤に溶解させたドープ液と、各種添加剤と少量のセルロースエステルとを溶解させた溶液をインラインで添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー(東レエンジニアリング製)、Hi−Mixer SWJ(東レエンジニアリング製)等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。インラインミキサーを用いる場合、高圧下で濃縮溶解することが好ましく、加圧容器の種類は特に問うところではなく、所定の圧力に耐えることが出来、加圧下で加熱、攪拌が出来ればよい。加圧容器にはその他圧力計、温度計などの計器類を的に配設する。
尚、残留溶媒量を測定する最の、加熱処理とは、フィルムを115℃で1時間の加熱処理を行うことを表す。
(試験片各三枚の平均値(N=3)で表示)
上記の方法により測定したとき、流延方向と、流延方向と垂直の方向での収縮率の差は絶対値で1%以下であることが好ましく、更に好ましくは0.6%以下であり、0.3%以下であることが特に好ましい。更に、流延方向の収縮率と流延方向に垂直な方向の収縮率の一方が0乃至0.3%であり、かつもう一方が0乃至−0.3%であることが好ましく、偏光板用保護膜フィルムとして用いたときに良好な特性を与える。
《サンプルの作製》
〈ドープ液の作製〉
セルローストリアセテート(酢化度62.0%) 100kg
エチルフタリルエチルグリコレート 0.4kg
トリフェニルホスフェート 0.4kg
メチレンクロライド 475kg
エタノール 50kg
以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、濾過し、ドープ液を調製した。
フィルム表面の可塑剤量は、ナイフを用いてフィルムのそれぞれの表面から20nm程削りとり、質量を測定した後、これをアセトン中に溶解し、ここに含まれる可塑剤量をGCにて定量分析する方法をとった。
〈収縮率〉
前述の要領で測定した。
〈透湿度〉
JIS Z 0208に記載の方法に従い各サンプルの透湿度を測定した。
〈カール〉
各サンプルを流延方向2mm、流延方向と垂直方向50mmに断裁する。更に、そのサンプル小片を23℃、相対湿度55%環境下で24時間調湿し、曲率スケールを用いてサンプルのカール度を測定した。
セルローストリアセテートを、表2に記載のセルロースエステルに変更した以外は実施例1と同様にしてサンプル201〜207を作製した。
可塑剤の総量および一方の表面における可塑剤量の他の表面に対する比率を表3に記載のように変更した以外は実施例1のサンプル101と同様にしてサンプル301〜302を作製した。実施例1および2と同様に、可塑剤比率は、ステンレスバンド上での乾燥速度と剥離時のフィルム中の残留溶媒量を変化することによって調節した。
〈剥離性〉
支持体からベースを剥離する際に発生する剥離横段故障を以下の基準で目視評価した。
○△:弱いレベルの剥離横段故障が僅かに発生
△ :弱いレベルの剥離横段故障が発生
× :強いレベルの剥離横段故障が僅かに発生
△レベル以上であれば問題ないが、○△レベル以上であることが好ましい。
可塑剤の量と比率を適宜設定することにより収縮率を表4に記載のように変更した以外は実施例1と同様にして乾燥膜厚40μmのサンプル401〜406を作製した。但し、収縮率は実施例1に記載の方法に従って測定した。
〈平面性、剥がれ試験〉
厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素1kg、ホウ酸4kgを含む水溶液100kgに浸漬し50℃で6倍に延伸して作製した偏光膜の両面にセルローストリアセテートフイルムサンプルを完全ケン化型ポリビニルアルコール5%水溶液を粘着剤として各々貼り合わせ偏光板を作製し、得られた偏光板サンプルを、80℃、90%RHの環境下で50時間熱処理した。サンプルを取り出して23℃、55%RHで6時間放冷し、その後、サンプルの平面性と剥がれを以下の基準で評価した。
○△:僅かに反りがみられるが、剥がれはなし
△ :サンプルに反りがみられ、又サンプルの外周の20%未満に剥がれがみられる
× :サンプルに反りがみられ、又サンプルの外周の20%以上に剥がれがみられる
△レベル以上であれば実用上問題ないレベルである。
3層のwet on wet方式でドープ液を支持体上にキャストした以外は実施例1と同様にして、3層の積層体であるサンプル501〜504を作製した。但し、支持体に接する面をB面、もう一方の面をA面とした。A面側の表面層とB面側の表面層は共に乾燥膜厚10μmになるようにし、内部の層は乾燥膜厚20μmになるようにした。又、各層のドープに添加する可塑剤の量を調節して、それぞれの層の可塑剤量を変化させた。
Claims (1)
- 可塑剤を含有する膜厚15〜65μmの偏光板保護フィルム用セルロースエステルフィルムを共流延で積層フィルムとして製造するに当たり、該フィルムの流延用支持体に接する層の可塑剤添加量(質量%)を、当該支持体に接する層に隣接する層の可塑剤添加量(質量%)よりも多くすることを特徴とする偏光板保護フィルム用セルロースエステルフィルムの製造方法。
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