JP4977636B2 - 基板処理装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
また、枚葉装置では基板面の上方でガスを照射するため、均一にガスを供給できるが、バッチ式半導体製造装置では、基板面の側方でガスを照射するため、基板のエッジ部分が酸化されやすく、基板の中心は酸化されにくく、すなわち酸化膜の面内均一性の確保が非常に難しい。
を有し、前記基板の表面に所望の厚さの酸化膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
図1及び図2には、本発明の適用される形態に係る基板処理装置1の一例である半導体製造装置が示されている。
上述したウエハ移載機112は、ウエハ200を支持する基板搬送プレートとしての搬送アーム111(図1及び図2に示す)を有する。この搬送アーム111の先端は、2股に分かれて略U字状に形成されている。また、この搬送アーム111は、ボート217内に挿入できるようになっている。
酸素配給管から供給された酸素をオゾンナイザー101で無声放電を印加することにより一定の濃度のオゾンガスを供給し、エアーバルブ243dを開、エアーバルブ243eを閉とする。マスフローコントローラ241bで流量制御されたオゾンガスはバルブ243eまでチャージされる。処理時間は例えば2秒である。
開度制御バルブ243fを閉じて排気を止める。この時、高周波電力ユニット502より電力を供給してプラズマを発生させる。処理時間は例えば1秒である。
エアーバルブ243eを開けて反応性ガスを処理室201へ供給する。ステップ2において、開度制御バルブ243fが閉じられているので処理室201内の圧力は急激に上昇して昇圧できる。このステップ3においても、高周波電力ユニット502より電力を供給してプラズマを発生させる。処理時間は例えば2秒である。
尚、昇圧時のピーク圧力(最大値)は、前記のバッファタンク503の容量、バルブ243d〜243e間の配管長などにより制御可能である。
開度制御バルブ243fを開とする。高周波電力ユニット502による電力印加を停止する。処理時間は例えば1秒である。
エアーバルブ243dを閉として、エアーバルブ243dから反応室201までのオゾン供給経路を1Torr以下の圧力まで真空排気する。処理時間は例えば2秒である。
上述したステップ1〜5を1サイクルとして、このサイクルを複数回繰り返すことにより、ウエハの酸化を進行させ、サイクル数で膜厚を制御することができる。
図3に示す、本発明の実施形態に係る基板処理炉202及び上記シーケンスを用いた。
条件は、基板温度760℃、ウエハピッチ30.8mm、オゾンの流量6.3slm、オゾン発生量250g/m3とした。
結果は、図8に示すように、オゾンガスを用いて膜厚30Å以上の酸化膜を形成することができた。また、サイクル供給することにより酸化膜厚は厚くなり、すなわち酸化力が増し、さらに、面内均一性が改善していることが分かる。
上記の基板処理炉202からバッファタンク503とプラズマ供給手段である高周波電力ユニット502と高周波電極501を取り除いたものであり、図5に示す、従来の基板処理炉を用いた。
図5の従来の基板処理炉202を用いてウエハ上に酸化膜を形成する方法について説明する。
まず、成膜しようとするウエハ200をボート217に装填し、基板処理装置1の処理炉202内の処理室201に昇降機構により搬入する。搬入後、オゾンナイザー101内部で無声放電が印加されることにより生成されたオゾンガスが、エアーバルブ243d、マスフローコントローラ241b、エアーバルブ243eを経由してノズル249へ供給される。ノズルにはシャワー穴が設けられており、ボート217に複数積載されたウエハ200へ照射されるとこにより酸化膜が形成される。その際、反応室の圧力は開度制御バルブ243fにより一定に制御されながら、ボート回転機構267によりボート217を回転させる。
条件は、基板温度760℃、炉内圧力7.0Torr、ウエハピッチ30.8mm、オゾン流量5slm、オゾン発生量250g/m3とした。
結果は、図6に示すように、ウエハのエッジ部分の酸化膜が厚く中心部分が薄くなり、面内均一性の確保が非常に難しかった。また、図7に示すように、オゾンの供給時間を延長しても膜厚30Å以上の酸化膜を形成することができなかった。
すなわち、同条件下で、図5のような従来の基板処理炉では、オゾンガスを用いると、酸化膜を30Å以上厚く形成することが難しい上に、面内均一性の確保もできなかった。
なお、図6の平均膜厚が薄い箇所について、4箇所の出っ張りがある部分はボートを支持する柱のつめがあるために、このような形で膜厚が薄くなっている。
さらに、実施例のように、オゾンフラッシュフローをサイクル供給することで、処理室201内により顕著な圧力差を形成してオゾンを供給することができ、また、サイクル供給することでサイクル数で膜厚を制御することが可能である。
(2)複数の基板を処理室内に搬入する第一の工程と、前記処理室に接続されたバッファタンクにオゾンガスを充填する第二の工程と、前記バッファタンクに充填されたオゾンガスを前記処理室内に供給しつつ、オゾンガスをプラズマ励起する第三の工程と、前記処理室内の雰囲気を排気する第四の工程と、前記基板を処理室内から搬出する第五の工程と、を含み、前記第二の工程から前記第四の工程を少なくとも1回以上繰り返して行い、前記基板の表面に所望の厚さの酸化膜を形成することを特徴とする基板処理方法。
(3)(2)であって、前記第二の工程から前記第四の工程を繰り返すとき、少なくとも1回以上、前記第二の工程と前記第四の工程を同時に行う場合を有することを特徴とする基板処理方法。
(4)(2)であって、前記第三の工程において、前記バッファタンクに充填されたオゾンガスを前記処理室内に供給する瞬間のみオゾンガスをプラズマ励起することを特徴とする基板処理方法。
101 オゾンナイザー
200 ウエハ
201 処理室
202 処理炉
203 反応管
207 ヒータ
217 ボート
218 ボート支持台
219 シールキャップ
220 Oリング
231 排気配管
241b マスフローコントローラ
243d〜243e エアーバルブ
243f 開度制御バルブ
246 真空ポンプ
249 ノズル
267 ボート回転機構
280 コントローラ
301 酸素供給配管
501 高周波電極
502 高周波電力ユニット
503 バッファタンク
Claims (2)
- 処理室内に積層して収容される複数の基板の表面に酸化膜を形成する基板処理装置であって、
前記処理室内にオゾンガスを供給するガス供給手段と、
前記処理室内にプラズマを生成させるプラズマ生成手段と、
少なくとも前記ガス供給手段及びプラズマ生成手段を制御する制御手段と、
前記処理室内の雰囲気を排気する排気手段と、を備え、
前記ガス供給手段は、開閉バルブと、この開閉バルブを介して前記処理室に接続されオゾンガスを充填するバッファタンクと、を有し、
前記制御手段は、前記ガス供給手段によりオゾンガスを供給しつつ前記開閉バルブを閉とすることで前記オゾンガスを前記バッファタンクに充填し、所定時間経過後、前記開閉バルブを開として前記バッファタンクに充填された前記オゾンガスを前記処理室内に供給することで前記基板の表面に酸化膜を形成するように前記ガス供給手段を制御し、さらに、前記オゾンガスを前記処理室内に供給する時、前記プラズマ生成手段により前記処理室内にプラズマを生成させ前記オゾンガスを励起するように制御するよう構成されることを特徴とする基板処理装置。 - 基板を処理室内に搬入する工程と、
前記処理室に接続されたバッファタンクにオゾンガスを充填する工程と、
前記バッファタンクに充填されたオゾンガスを前記処理室内に供給しつつ、前記オゾンガスをプラズマ励起する工程と、
前記処理室内の雰囲気を排気する工程と、
前記基板を処理室内から搬出する工程と、
を有し、前記基板の表面に所望の厚さの酸化膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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