JP4960434B2 - 有機発光表示装置及びその製造方法 - Google Patents
有機発光表示装置及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4960434B2 JP4960434B2 JP2009290267A JP2009290267A JP4960434B2 JP 4960434 B2 JP4960434 B2 JP 4960434B2 JP 2009290267 A JP2009290267 A JP 2009290267A JP 2009290267 A JP2009290267 A JP 2009290267A JP 4960434 B2 JP4960434 B2 JP 4960434B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light emitting
- display device
- organic light
- forming
- intervening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 79
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 39
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 58
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 58
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 58
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 43
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 32
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 14
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 11
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 11
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 11
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 8
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 6
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 6
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 6
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 5
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 152
- 239000010408 film Substances 0.000 description 122
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 7
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 5
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 description 4
- 101710133576 Slit homolog 2 protein Proteins 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 230000003075 superhydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/191—Deposition of organic active material characterised by provisions for the orientation or alignment of the layer to be deposited
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/20—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
- H10K71/211—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by selective transformation of an existing layer
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/17—Carrier injection layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
201,401:正孔注入層
202,402:介在膜
203:変換部(親水性領域)
402a:介在膜パターン
204,404:発光層
205,405:電子輸送層
206,406:負極
300:マスク
Claims (11)
- 複数個の画素領域がマトリクス状に定義された基板を用意する段階と、
前記各画素領域に正極を形成する段階と、
前記正極上に正孔注入層を溶液工程で形成する段階と、
前記正孔注入層上に、水接触角70゜以上の疎水性の特性を持つ介在膜を、溶液工程で形成する段階と、
前記介在膜に選択的に紫外線を照射し、該照射された介在膜部位を水接触角が70゜未満となるように親水性処理する段階と、
前記紫外線が照射されなかった疎水性の部位のみに、溶液工程で発光層を形成する段階と、
前記発光層を含む前記基板上に負極を形成する段階と、
を含むことを特徴とする、有機発光表示装置の製造方法。 - 前記介在膜を形成する段階は、
前記正極及び正孔注入層が形成されている基板を、介在膜形成物質中に浸漬(dipping)する、または、
前記正極及び正孔注入層が形成されている基板上に、介在膜形成物質をスピンコーティング、ロールプリンティング、スリットコーティング、ノズルコーティング、またはインクジェッティングする、のいずれかを用いることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光表示装置の製造方法。 - 前記溶液工程で発光層を形成する段階は、
前記正極、正孔注入層及び介在膜が形成されている基板を、発光物質中に浸漬(dipping)する、または、
前記正極、正孔注入層及び介在膜が形成されている基板上に、発光物質をスピンコーティング、ロールプリンティング、スリットコーティング、ノズルコーティングまたはインクジェッティングする、のいずれかを用いることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光表示装置の製造方法。 - 前記発光層の形成後に、浸漬、スピンコーティング、ノズルコーティング、スリットコーティング、ロールプリンティング、インクジェッティングまたは真空蒸着のいずれかで、前記発光層の上部に電子輸送層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記介在膜は、紫外線の吸収または分解能を有する物質からなることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記介在膜は、C−C、C=N、C=C、Si−O、C−O、C=Oのうち少なくとも一つの結合を有する有機物を含むことを特徴とする、請求項1に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記介在膜は、イミド(imide)、アミン(amine)、シラン(silane)、炭酸塩(carbonate)、エステル(ester)、アセテート(acetate)、スルホン酸塩(sulfonate)、窒酸塩(nitrate)、ケトン(Ketone)、フルオレン(fluorene)、オキセタン(oxetane)、エポキシ(epoxy)のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする、請求項6に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記介在膜は、トリフェニルアミン(triphenylamine)を含むことを特徴とする、請求項7に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記紫外線照射時に、その波長は150nm〜260nmであることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記紫外線照射時に、その圧力は1×10−5torr〜800torrであることを特徴とする、請求項1に記載の有機発光表示装置の製造方法。
- 前記電子輸送層を形成する段階は前記発光層の上部及び発光層が形成されない前記介在膜の上部領域まで形成することを特徴とする、請求項4に記載の有機発光表示装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20080133274 | 2008-12-24 | ||
KR10-2008-0133274 | 2008-12-24 | ||
KR10-2009-0061771 | 2009-07-07 | ||
KR1020090061771A KR101286549B1 (ko) | 2008-12-24 | 2009-07-07 | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010153381A JP2010153381A (ja) | 2010-07-08 |
JP4960434B2 true JP4960434B2 (ja) | 2012-06-27 |
Family
ID=42077814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009290267A Active JP4960434B2 (ja) | 2008-12-24 | 2009-12-22 | 有機発光表示装置及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8384095B2 (ja) |
EP (1) | EP2202817B1 (ja) |
JP (1) | JP4960434B2 (ja) |
CN (1) | CN101764090B (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5727478B2 (ja) * | 2009-07-27 | 2015-06-03 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.Du Pont De Nemours And Company | 閉じ込め層を製作するための方法および物質ならびにそれによって製作されるデバイス |
WO2011087458A1 (en) * | 2010-01-14 | 2011-07-21 | National University Of Singapore | Superhydrophilic and water-capturing surfaces |
JP5506475B2 (ja) * | 2010-03-15 | 2014-05-28 | ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド | 有機電界発光素子の製造方法 |
JP5982146B2 (ja) * | 2011-06-16 | 2016-08-31 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 有機発光構造物、有機発光構造物の製造方法、有機発光表示装置、及び有機発光表示製造方法 |
KR101306192B1 (ko) * | 2012-02-10 | 2013-10-16 | 서울대학교산학협력단 | 유기 발광 소자의 제조 방법 및 그에 의한 유기 발광 소자 |
KR101955621B1 (ko) * | 2012-09-21 | 2019-05-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시패널 및 그 제조방법 |
CN104253247A (zh) | 2014-10-13 | 2014-12-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Oled器件的制备方法及其制得的oled器件 |
CN104241553A (zh) * | 2014-10-13 | 2014-12-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Oled器件的制备方法及其制得的oled器件 |
JP6839659B2 (ja) * | 2015-06-29 | 2021-03-10 | アイメック・ヴェーゼットウェーImec Vzw | 有機層の高分解能パターニングのための方法 |
CN107346776A (zh) * | 2016-12-02 | 2017-11-14 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 印刷显示器件及其制作方法和应用 |
CN107170771B (zh) * | 2017-05-23 | 2019-12-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 微发光二极管阵列基板的封装结构及其封装方法 |
CN107275513B (zh) * | 2017-05-31 | 2020-07-10 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | Oled器件阴极和显示面板的制作方法、显示面板及显示装置 |
CN110551971A (zh) * | 2018-06-01 | 2019-12-10 | 京畿大学校产学协力团 | 用于制造有机发光二极管面板的精细金属掩模 |
CN110112304B (zh) * | 2019-04-30 | 2020-10-13 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 发光层的制备方法及显示装置 |
CN110459691B (zh) * | 2019-08-30 | 2022-04-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制作方法、和显示装置 |
CN113130813A (zh) * | 2019-12-31 | 2021-07-16 | Tcl集团股份有限公司 | 量子点发光二极管及其制备方法 |
KR20210135383A (ko) * | 2020-05-04 | 2021-11-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
CN113690378B (zh) * | 2021-08-25 | 2024-04-16 | 北京京东方技术开发有限公司 | 量子点发光器件及其制备方法、显示面板 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3819604B2 (ja) | 1998-08-31 | 2006-09-13 | 株式会社東芝 | 成膜方法 |
JP2004055177A (ja) | 2002-07-16 | 2004-02-19 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセンス表示装置および製造方法 |
JP4165692B2 (ja) * | 2002-08-05 | 2008-10-15 | 大日本印刷株式会社 | エレクトロルミネッセント素子の製造方法 |
KR100491146B1 (ko) * | 2002-11-04 | 2005-05-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기전계 발광표시장치 및 그의 제조방법 |
JP2004296424A (ja) | 2003-03-11 | 2004-10-21 | Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd | 金属層の形成方法、金属層、及び金属層を用いた表示装置 |
JP2007517384A (ja) * | 2003-12-10 | 2007-06-28 | ノースウエスタン ユニバーシティ | 正孔輸送層組成物および関連ダイオード装置 |
JP4504070B2 (ja) | 2004-04-08 | 2010-07-14 | 大日本印刷株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
JP2006013139A (ja) | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Seiko Epson Corp | 有機el装置とその製造方法並びに電子機器 |
JP4613044B2 (ja) * | 2004-10-26 | 2011-01-12 | 大日本印刷株式会社 | 有機エレクトロルミネッセント素子用基板 |
KR100669790B1 (ko) * | 2004-11-27 | 2007-01-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 전계 발광 소자 |
JP4904903B2 (ja) * | 2006-04-20 | 2012-03-28 | 大日本印刷株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2009094031A (ja) * | 2007-10-12 | 2009-04-30 | Sony Corp | 転写シート、転写シートの作製方法、および表示装置の製造方法 |
-
2009
- 2009-11-04 EP EP09175020.8A patent/EP2202817B1/en active Active
- 2009-12-04 CN CN2009102528406A patent/CN101764090B/zh active Active
- 2009-12-21 US US12/643,441 patent/US8384095B2/en active Active
- 2009-12-22 JP JP2009290267A patent/JP4960434B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8384095B2 (en) | 2013-02-26 |
EP2202817B1 (en) | 2016-06-29 |
CN101764090B (zh) | 2013-05-01 |
EP2202817A1 (en) | 2010-06-30 |
CN101764090A (zh) | 2010-06-30 |
US20100155760A1 (en) | 2010-06-24 |
JP2010153381A (ja) | 2010-07-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4960434B2 (ja) | 有機発光表示装置及びその製造方法 | |
JP4460643B2 (ja) | 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 | |
KR101186740B1 (ko) | 뱅크형성 방법 및 이에 의해 형성된 뱅크를 함유하는 유기박막 트랜지스터 | |
TW439389B (en) | Substrate for patterning thin film and surface treatment thereof | |
US7737631B2 (en) | Flat panel display with repellant and border areas and method of manufacturing the same | |
JP4092261B2 (ja) | 基板の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
US20140203303A1 (en) | Light-Emitting Diode Display Substrate, Method For Manufacturing Same, And Display Device | |
US20060157692A1 (en) | Organic transistor and manufacturing method thereof | |
US10333066B2 (en) | Pixel definition layer and manufacturing method thereof, display substrate and display device | |
WO2017147952A1 (zh) | 一种基于喷墨打印技术的有机发光显示装置及其制造方法 | |
EP2510546B1 (en) | Electronic device | |
WO2019019236A1 (zh) | Oled背板的制作方法与oled面板的制作方法 | |
US8413576B2 (en) | Method of fabricating a structure | |
US10153333B1 (en) | Method for manufacturing an OLED backplate and method for manufacturing an OLED panel | |
JP5386852B2 (ja) | 積層構造体、半導体装置、積層構造体の製造方法及び半導体装置の製造方法 | |
CN101055830A (zh) | 自限定边界的薄膜图形制备方法 | |
KR100528256B1 (ko) | 기판과 이를 이용한 유기 전계 발광 소자 | |
CN1873999A (zh) | 平板显示器及其制造方法 | |
KR101286549B1 (ko) | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 | |
JP5050518B2 (ja) | 樹脂凸版の製造方法及び現像装置並びに印刷物の製造方法及び有機el素子の製造方法 | |
KR20140002146A (ko) | 플렉서블 표시장치의 제조 방법 | |
JP6620556B2 (ja) | 機能材料の積層方法及び機能材料積層体 | |
JP5017339B2 (ja) | 有機トランジスタの製造方法 | |
JP2005166526A (ja) | 有機elパネルの製造方法 | |
JP2004288490A (ja) | 有機el素子の製造方法及び有機elパネルの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111005 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111005 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120105 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120131 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120229 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120322 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150330 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4960434 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |