JP4958406B2 - 真空雰囲気中におけるガラス基板のハンドリング方法 - Google Patents
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Description
また、昇降ピンやローラをガラス基板の外周ハンドリング領域のみに下方から当接させてガラス基板をハンドリングする場合、ガラス基板の中央部に無視できない基板撓みが発生し、搬送トレイに対する受け渡しの位置精度に支障を来たすといった問題がある。この問題は、例えば、ガラス基板の外周ハンドリング領域に加え、内側の蒸着被膜形成領域ではない領域、即ち、薄体状部材が当接する領域にも下方から昇降ピンを当接させるようにすれば解決することができる。しかしながら、このような構成とするためには、薄体状部材にガラス基板が昇降ピンを受けることができるようにするための孔を設けるなどといった対策を講じなければならず、機構が複雑化するので望ましくない。
また、昇降ピンやローラをガラス基板の下方から当接させてハンドリングするので、ハンドリングする対象が蒸着被膜形成後のガラス基板の場合、ガラス基板の表面に形成された蒸着被膜に昇降ピンやローラが接触してしまうことで、蒸着被膜を形成したガラス基板が不良品となったり、ダストを発生させてしまったりする恐れがある。
そこで本発明は、大型のガラス基板であっても、簡易な構成で、搬送トレイに対する受け渡しなどを確実なものとする、真空雰囲気中におけるガラス基板のハンドリング方法を提供することを目的とする。
また、請求項2記載のハンドリング方法は、請求項1記載のハンドリング方法において、ガラス基板が、真空リターン式蒸着装置の内部で、表面に酸化マグネシウム被膜を形成してプラズマディスプレイパネルを製造するためのガラス基板であることを特徴とする。
ガラス基板の温度を150℃にした場合、吸着開始から約300秒で約500gf/cm2の吸着力を発揮した。
ガラス基板の温度を250℃にした場合、吸着開始直後に約1000gf/cm2以上の吸着力を発揮した。
表1に、最大吸着力の90%に達するまでの時間をチャック時間として示す。
次に、最大吸着力に達した後に電源をオフにし、所定時間経過後に吸着力の測定を行い、最大吸着力の10%にまで減衰する時間を離脱時間として求めた。結果を表2に示す。
上記の試験結果から明らかなように、ガラス基板の温度を上げるに従って、静電チャックのチャック時間と離脱時間はともに短縮化され、ガラス基板の温度を150℃〜480℃に制御することにより5秒以下〜300秒程度で優れた吸着特性と離脱特性を発揮させることができることがわかった。一方、ガラス基板の温度を100℃に制御して、150℃〜480℃に制御した場合と同等の吸着特性と離脱特性を得ようとした場合、±5kV以上の電圧を印加しなければならなかった。
B ガラス基板
C ガラス基板
1 枠体
2 薄体状部材
3 弾性部材
4 静電チャック
X 蒸着被膜形成領域
Y 外周ハンドリング領域
Z ガラス基板の蒸着被膜形成領域ではない領域(非表示部領域)
31 仕込/取出室
32 搬送室
33 加熱室
34 蒸着室
35 冷却室
Claims (2)
- 四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に架設した薄体状部材とから構成された搬送トレイを使用する真空リターン式蒸着装置の内部において行われる、蒸着被膜形成前のガラス基板を搬送トレイに載置する際又は蒸着被膜形成後のガラス基板を搬送トレイから取り外す際のガラス基板のハンドリング方法であって、10−3Pa〜30Paの真空雰囲気下で、温度を250℃〜480℃に制御したガラス基板の搬送トレイの薄体状部材と当接する部位に対して、上方から±100V〜±500Vの印加電圧で静電チャックを用いて行うことを特徴とするハンドリング方法。
- ガラス基板が、真空リターン式蒸着装置の内部で、表面に酸化マグネシウム被膜を形成してプラズマディスプレイパネルを製造するためのガラス基板であることを特徴とする請求項1記載のハンドリング方法。
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