JP4946753B2 - 多層回路基板解析システム、多層回路基板解析方法及び多層回路基板解析プログラム - Google Patents
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はじめに、図1から図23の各図を用いて基板解析装置の第1実施形態について説明する。
2層目2014の銅箔の厚み:35マイクロメートル、
3層目2105の銅箔の厚み:45マイクロメートル、
1層目2103と2層目2104の間の誘電体厚:0.4ミリメートル、
2層目2104と3層目2105の誘電体厚:1.0ミリメートル、
誘電体の比誘電率:4.2、
誘電正接:0.02
すなわち、本実施形態では、隣接したノードからのパラメータを求めるため、無限の大きさのメッシュで計算する必要がなく、隣接したノード付近のメッシュまでのモデルで計算すればよい。
次いで、補正パラメータ算出手段204は、ステップS406とステップS405にて算出された各パラメータの差に基づいて補正パラメータを算出し(ステップS407)、ステップS401の処理に移行する。
次に、本発明に係る基板解析装置の第2実施形態について説明する。
102…データ処理装置
103…記憶装置
104…出力装置
201…配線パターンモデル化手段
202…ヴィアモデル化手段
203…デバイスモデル化手段
204…補正パラメータ算出手段
205…補正モデル作成手段
206…モデル結合手段
207…モデル解析手段
301…配線モデル記憶部
302…デバイスモデル記憶部
303…ヴィアモデル記憶部
304…補正モデル記憶部
1201…ヴィアの接続ノード
1202…周囲の隣接しているノード
1203…配線パターンの解析用モデル
1204…解析用の電流源モデル
1501…ヴィア
1502…配線パターンの等価回路
1503…配線パターンのメッシュ
1504…ヴィアの接続ノード
1505…ヴィアの等価回路モデル
1601…ヴィア
1602…ノード
1603…ヴィアの等価回路
1604…ヴィアの接続ノード
1901…入力装置
1902…コンピュータ
1903…記憶装置
1904…出力装置
1905…多層回路基板解析プログラム
2001…配線パターン
2002…入出力用のヴィア
2003…1層と3層を接続するヴィア
2101…入力ポート
2102…出力ポート
2103…1層の配線パターン
2104…2層の配線パターン
2105…3層の配線パターン
2301…入力ポートの接続ノード
2302…1層と2層のプレーン対に接続するノード
2303…2層と3層のプレーン対に接続するノード
2304…出力ポートの接続ノード
2305…1層と2層のプレーン対に接続するノード
2306…2層と3層のプレーン対に接続するノード
2501…ヴィア接続ノード
2502、2503、2504、2505…隣接するノード
2701…実ボードの測定によるSパラメータ
2702…本発明手法により計算したSパラメータ
2703…従来の手法により計算したSパラメータ
Claims (8)
- 多層回路基板の電気的特性を解析する多層回路基板解析システムにおいて、
予め前記解析すべき多層回路基板における配線パターン、ヴィア及びデバイスの各モデルデータを取得する取得手段と、
前記解析すべき多層回路基板における配線パターンのデータを所定の数のメッシュに分割し、前記取得されたモデルデータに基づいて、当該配線パターンの解析用モデルデータを生成する配線パターンモデル化手段と、
前記取得されたモデルデータに基づいて、前記配線パターンデータにおけるヴィアの解析用モデルデータを生成するヴィアモデル化手段と、
前記取得されたモデルデータに基づいて、前記多層回路基板に搭載されるデバイスのモデルデータを生成するデバイスモデル化手段と、
前記多層回路基板におけるヴィアと各層との接続部分におけるモデルデータの生成時に発生する誤差を補正パラメータとして算出する補正パラメータ算出手段と、
前記算出された補正パラメータに基づいて補正モデルデータを生成する補正手段と、
前記生成された各解析用モデルデータと補正モデルデータとを結合し、前記多層回路基板における統合モデルデータを構成させるモデル結合手段と、
前記構成された統合モデルデータを解析するモデル解析手段と、
前記解析されたデータを提示する提示手段と、
を備えることを特徴とする多層回路基板解析システム。 - 請求項1に記載の多層回路基板解析システムにおいて、
前記モデル結合手段が、前記各解析用モデルデータにて構成されるモデルデータに対して前記補正モデルデータを接続することによって前記統合モデルデータを構成させることを特徴とする多層回路基板解析システム。 - 請求項1又は2に記載の多層回路基板解析システムにおいて、
補正パラメータ算出手段が、
前記配線パターンの解析用モデルデータに基づいて、ヴィアが接続されるヴィア接続ノードに隣接する隣接ノードから当該ヴィア接続ノードまでの各メッシュにおける電気的パラメータを算出するとともに、
前記配線パターンの解析用モデルデータに基づいて、プレーン対の大きさを無限として前記隣接ノードからヴィア接続ノードまでの電気的パラメータを解析的に算出し、
各電気パラメータの差分を前記補正パラメータとして算出することを特徴とする多層回路基板解析システム。 - 請求項1乃至3の何れか一項に記載の多層回路基板解析システムにおいて、
前記取得手段が、予め前記解析すべき多層回路基板における配線パターン、ヴィア及びデバイスの各モデルデータが記憶されたデータベース内を検索することによって取得することを特徴とする多層回路基板解析システム。 - 請求項1乃至4の何れか一項に記載の多層回路基板解析システムにおいて、
前記配線モデル化手段が、前記配線パターンを正方形のメッシュに分割するとともに、
前記補正パラメータ算出手段が、前記電気的パラメータを解析的に算出する際に、分割されたときの前記メッシュのサイズと前記ヴィアの直径を用いて所定の数式にて算出することを特徴とする多層回路基板解析システム - 多層回路基板の電気的特性を解析する多層回路基板解析方法において、
予め前記解析すべき多層回路基板における配線パターン、ヴィア及びデバイスの各モデルデータを取得する取得工程と、
前記解析すべき多層回路基板における配線パターンのデータを所定の数のメッシュに分割し、前記取得されたモデルデータに基づいて、当該配線パターンの解析用モデルデータを生成する配線パターンモデル化工程と、
前記取得されたモデルデータに基づいて、前記配線パターンデータにおけるヴィアの解析用モデルデータを生成するヴィアモデル化工程と、
前記取得されたモデルデータに基づいて、前記多層回路基板に搭載されるデバイスのモデルデータを生成するデバイスモデル化工程と、
前記多層回路基板におけるヴィアと各層との接続部分におけるモデルデータの生成時に発生する誤差を補正パラメータとして算出する補正パラメータ算出工程と、
前記算出された補正パラメータに基づいて補正モデルデータを生成する補正工程と、
前記生成された各解析用モデルデータと補正モデルデータとを結合し、前記多層回路基板における統合モデルデータを構成させるモデル結合工程と、
前記構成された統合モデルデータを解析するモデル解析工程と、
前記解析されたデータを提示する提示工程と、
を含むことを特徴とする多層回路基板解析方法。 - コンピュータによって、多層回路基板の電気的特性を解析する多層回路基板解析プログラムにおいて、
前記コンピュータを、
予め前記解析すべき多層回路基板における配線パターン、ヴィア及びデバイスの各モデルデータを取得する取得手段、
前記解析すべき多層回路基板における配線パターンのデータを所定の数のメッシュに分割し、前記取得されたモデルデータに基づいて、当該配線パターンの解析用モデルデータを生成する配線パターンモデル化手段、
前記取得されたモデルデータに基づいて、前記配線パターンデータにおけるヴィアの解析用モデルデータを生成するヴィアモデル化手段、
前記取得されたモデルデータに基づいて、前記多層回路基板に搭載されるデバイスのモデルデータを生成するデバイスモデル化手段、
前記多層回路基板におけるヴィアと各層との接続部分におけるモデルデータの生成時に発生する誤差を補正パラメータとして算出する補正パラメータ算出手段、
前記算出された補正パラメータに基づいて補正モデルデータを生成する補正手段、
前記生成された各解析用モデルデータと補正モデルデータとを結合し、前記多層回路基板における統合モデルデータを構成させるモデル結合手段、
前記構成された統合モデルデータを解析するモデル解析手段、
前記解析されたデータを提示する提示手段、
として機能させることを特徴とする多層回路基板解析プログラム。
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