JP4946346B2 - 光導波路デバイスおよびその伝送損失の調整方法 - Google Patents
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[実施例1]
以下に、本発明の第一実施形態に係る光導波路デバイスおよびその伝送損失の調整方法について、詳細に説明する。
幅W21m 交差角度θ21m 過剰損失最大値〜最小値(ダイナミックレンジ)
[μm] [deg] [dB]
4一定 5〜45 0.28〜0.01(0.27)
6一定 5〜45 0.42〜0.02(0.41)
8一定 5〜45 0.74〜0.03(0.71)
10一定 5〜45 1.02〜0.05(0.97)
12一定 5〜45 1.23〜0.07(1.16)
14一定 5〜45 1.37〜0.10(1.28)
16一定 5〜45 1.50〜0.12(1.38)
表1から分かるように、幅W21mを一定として、各出力導波路に対する交差角度θ21mを5°から45°まで調整することにより、過剰損失を自在に調整できることが分かる。さらに、幅W21mを選択することで、調整トレランスかダイナミックレンジのうち、重視する方を選ぶことができる。具体的には、大きいダイナミックレンジが必要な場合は、幅W21mが大きい値(例えば、16μm)を選ぶ。それにより、ばらつきが大きい伝送損失差を補償することができる。逆に、調整トレランスを重視する場合は、幅W21mが小さい値(例えば、4μm)を選ぶ。それにより、角度に対するトレランスが緩くなり、製造ばらつきを低減することができる。
幅W21m 交差角度θ21m 過剰損失最小値〜最大値(ダイナミックレンジ)
[μm] [deg] [dB]
4〜16 5一定 0.28〜1.50(1.22)
4〜16 10一定 0.09〜1.05(0.96)
4〜16 15一定 0.05〜0.63(0.58)
4〜16 20一定 0.03〜0.42(0.39)
4〜16 25一定 0.02〜0.30(0.28)
4〜16 30一定 0.01〜0.22(0.21)
4〜16 35一定 0.01〜0.18(0.17)
4〜16 40一定 0.01〜0.14(0.13)
4〜16 45一定 0.01〜0.10(0.09)
表2から分かるように、交差角度θ21mを一定として、各出力導波路に対する交差導波路の幅W21mを4μmから16μmまで調整することにより、過剰損失を調整できることが分かる。このように、交差角度だけでなく、交差導波路の幅をも調整することで、過剰損失が、最小値0.01dB(W21m=4μm,θ21m=45°の場合)から最大値1.50dB(W21m=16μm,θ21m=5°の場合)まで調整可能となる。
[実施例2乃至4]
次に、本発明の第二乃至第四実施形態に係る光導波路およびその伝送損失の調整方法における信号光の戻り防止について、以下に説明する。図3(a)は、第二実施形態に係る光導波路を示す部分拡大図である。図3(b)は、第三実施形態に係る光導波路を示す部分拡大図である。図3(c)は、第三実施形態の変形例に係る光導波路を示す部分拡大図である。図3(d)は、第四実施形態に係る光導波路を示す部分拡大図である。以下、これらの図面に基づき説明する。ただし、図1(c)と同じ部分は同じ符号を付すことにより、その説明を省略する。
[実施例5]
以下に、本発明の第五実施形態に係る光導波路デバイスおよびその伝送損失の調整方法について、詳細に説明する。
幅W71m 分岐角度180-θ71m 過剰損失最小値〜最大値(ダイナミックレンジ)
[μm] [deg] [dB]
4一定 5〜45 0.00〜0.24(0.24)
6一定 5〜45 0.01〜0.51(0.51)
8一定 5〜45 0.02〜0.81(0.79)
10一定 5〜45 0.03〜1.07(1.04)
12一定 5〜45 0.04〜1.28(1.24)
14一定 5〜45 0.05〜1.46(1.41)
16一定 5〜45 0.05〜1.60(1.55)
表3から分かるように、幅W71mを一定として、各出力導波路に対する分岐角度180−θ71mを5°から45°まで調整することにより、過剰損失を自在に調整できることが分かる。さらに、幅W71mを選択することで、調整トレランスかダイナミックレンジのうち、重視する方を選ぶことができる。具体的には、大きいダイナミックレンジが必要な場合は、幅W71mが大きい値(例えば、16μm)を選ぶ。それにより、ばらつきが大きい伝送損失差を補償することができる。逆に、調整トレランスを重視する場合は、幅W71mが小さい値(例えば、4μm)を選ぶ。それにより、角度に対するトレランスが緩くなり、製造ばらつきを低減することができる。
幅W71m 分岐角度180-θ71m 過剰損失最小値〜最大値(ダイナミックレンジ)
[μm] [deg] [dB]
4〜16 5一定 0.24〜1.60(1.36)
4〜16 10一定 0.06〜0.58(0.52)
4〜16 15一定 0.03〜0.30(0.27)
4〜16 20一定 0.02〜0.18(0.16)
4〜16 25一定 0.01〜0.12(0.11)
4〜16 30一定 0.01〜0.09(0.08)
4〜16 35一定 0.01〜0.07(0.06)
4〜16 40一定 0.01〜0.06(0.05)
4〜16 45一定 0.00〜0.05(0.05)
表4から分かるように、分岐角度180−θ71mを一定として、各出力導波路に対する分岐導波路の幅W71mを4μmから16μmまで調整することにより、過剰損失を調整できることが分かる。このように、分岐角度だけでなく、分岐導波路の幅をも調整することで、過剰損失が、最小値0.00dB(W71m=4μm,180−θ71m=45°の場合)から最大値1.60dB(W71m=16μm,180−θ71m=5°の場合)まで調整可能となる。
[実施例6及び7]
図6(a)は、本発明の第六実施形態に係る光導波路を示す部分拡大図である。図6(b)は、本発明の第七実施形態に係る光導波路を示す部分拡大図である。以下、これらの図面に基づき説明する。ただし、図1(c)と同じ部分は同じ符号を付すことにより、その説明を省略する。
[実施例8及び9]
図7(a)は、本発明の第八実施形態に係る光導波路を示す部分拡大図である。図7(b)は、本発明の第九実施形態に係る光導波路を示す部分拡大図である。以下、これらの図面に基づき説明する。ただし、図1(c)と同じ部分は同じ符号を付すことにより、その説明を省略する。
[変形例]
以上、本発明に係る実施形態を示したが、各構成部品の形状や配置などは図の構成だけに限定されるものではなく、本発明の特徴を逸脱しない範囲で、適宜変更することができる。また、複数の実施形態を、組み合わせて使用することもできる。例えば、第五乃至第七実施形態の分岐導波路の端面に、第二乃至第四実施形態の終端構造を設けても良い。このように、任意の実施形態を組み合わせることができる。
11 入力導波路
12−1〜12−n 出力導波路
12−m 出力導波路
13 アレイ導波路
14 スラブ導波路
15 スラブ導波路
16 基板
20 光導波路回路
21−1〜21−n 交差導波路
21−m 交差導波路
23−m 交差部
30 光導波路
40 光導波路
41−m 交差導波路
42−m,43−m 終端構造
50 光導波路
51−m 交差導波路
52−m,53−m 終端構造
55 光導波路
56−m 交差導波路
57−m,58−m 終端構造
60 光導波路
61−m 交差導波路
62−m 前側交差導波路
63−m 後側交差導波路
70 光導波路
71−m 分岐導波路
73−m 分岐部
80 光導波路
81−m,82−m 分岐導波路
90 光導波路
91−m,92−m 分岐導波路
95 光導波路
96−m1 交差導波路
98 光導波路
99−m1 分岐導波路
Claims (34)
- 信号光を伝搬する複数の光導波路を形成する工程と、
前記複数の光導波路にそれぞれ接続して、前記信号光の一部を分岐して、前記信号光に過剰損失を与える複数の副光導波路を形成する工程とを備え、
前記信号光に与えられる伝送損失量が均一となるように、前記各副光導波路の幅、および前記光導波路に対する前記副光導波路の接続角度はそれぞれ調整され、
前記副光導波路の幅は、前記接続角度に対して要求されるトレランスに基づいて定められることを特徴とすることを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。 - 前記副光導波路の幅は、前記光導波路の幅の3分の2以上、3分の8以下で形成されることを特徴とする請求項1に記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記副光導波路は、少なくとも2種類の幅で形成されることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記各副光導波路は、それぞれ異なる幅で形成されることを特徴とする請求項3に記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記各副光導波路の幅は、4μmから16μmまで調整することで、過剰損失を調整することを特徴とする請求項4に記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 複数の光導波路を形成する工程は、列を形成し、中心部に設けられた前記光導波路の過剰損失を多く、端部に設けられた前記光導波路の過剰損失を小さくなるように、
前記副光導波路の幅、および前記光導波路に対する前記副導波路の接続各度をそれぞれ調整することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の光導波路デバイスの製造方法。 - 前記複数の副光導波路のそれぞれで分岐された前記信号光の一部が反射して、再び前記複数の光導波路のそれぞれに戻ることを防止する終端構造を形成する工程をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記終端構造を形成する工程は、前記副光導波路の光軸に垂直な面に対して、斜めの端面を形成することを特徴とする請求項7に記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記終端構造を形成する工程は、片テーパの形状を形成することを特徴とする請求項8に記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記斜めの端面は、前記副光導波路の光軸に垂直な面から数度以上傾いて形成されることを特徴とする請求項8に記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記終端構造を形成する工程は、両テーパの形状を形成することを特徴とする請求項7に記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記両テーパの形状は、直線的に狭く形成されることを特徴とする請求項11記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記両テーパの形状は、曲線的に狭く形成されることを特徴とする請求項11記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記副光導波路の接続角度は、前記光導波路に対して左右異なる値で形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項13のいずれかに記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記信号光が進行する方向に伸びる前記副導波路と前記光導波路との接続角度は、
前記信号光が進行する方向とは逆方向に伸びる前記副導波路と前記光導波との接続角度よりも大きい値で形成されることを特徴とする請求項14に記載の光導波路デバイスの製造方法。 - 前記接続角度は、5度以上45度以下で形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項15のいずれかに記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記副光導波路の幅は、4ミクロン以上16ミクロン以下で形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項4または請求項6乃至請求項16のいずれかに記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記副光導波路の幅は、前記光導波路の幅の3分の2以上、3分の8以下で形成されることを特徴とする請求項1または請求項3乃至請求項17のいずれかに記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記副光導波路は、前記光導波路と交差して形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項18のいずれかに記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記副光導波路は、前記光導波路から分岐されて形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項18のいずれかに記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記光導波路のそれぞれに対して、前記副光導波路が複数形成されることを特徴とする請求項1乃至請求項20のいずれかに記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記複数の副光導波路は、前記光導波路の略同じ位置に接続され、両側に形成されていることを特徴とする請求項21記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記複数の副光導波路は、前記光導波路の略同じ位置に接続され、片側に形成されていることを特徴とする請求項21記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 前記複数の副光導波路は、前記光導波路の異なる位置に形成されていることを特徴とする請求項21記載の光導波路デバイスの製造方法。
- スラブ導波路を形成する工程をさらに備え、
前記複数の光導波路が、前記スラブ導波路に接続されており、前記複数の副光導波路が、
前記複数の光導波路のそれぞれに接続され、
前記複数の光導波路で伝搬される前記信号光に与えられる前記過剰損失量が調整されることを特徴とする請求項1乃至請求項24のいずれかに記載の光導波路デバイスの製造方法。 - 前記光導波路デバイスは、アレイ導波路格子、光スプリッタおよび光スターカプラのうちの1つで形成されることを特徴とする請求項25記載の光導波路デバイスの製造方法。
- 複数の光導波路のそれぞれにより、信号光を伝搬し、
前記複数の光導波路にそれぞれ接続される複数の副光導波路により、前記信号光の一部を分岐して過剰損失を与え、
前記複数の光導波路に対する前記複数の副光導波路の幅を調整することによって、前記過剰損失量におけるダイナミックレンジとトレランスを調整し、
前記複数の光導波路のそれぞれに対する前記複数の副光導波路のそれぞれの接続角度を調整することによって、前記信号光に与えられる前記過剰損失量を調整し、
前記信号光に与えられる前記伝送損失量が均一となるように、前記複数の信号光における伝送損失差を制御し、
前記副光導波路の幅を、前記接続角度に対して要求されるトレランスに基づいて定めることを特徴とする光導波路における伝送損失の調整方法。 - 前記複数の光導波路に対する前記複数の副光導波路の幅を前記副光導波路の幅が、前記光導波路の幅の3分の2以上、3分の8以下の範囲で調整することを特徴とする請求項27に記載の光導波路における伝送損失の調整方法。
- さらに、前記複数の副光導波路のそれぞれで分岐された前記信号光の一部が、再び前記複数の光導波路のそれぞれに戻ることを防止することを特徴とする請求項28記載の伝送損失の調整方法。
- 前記複数の光導波路が並列に配置され、前記伝送損失量の制御により、前記光導波路間における前記伝送損失量の不均一性が低減されることを特徴とする請求項27または請求項29に記載の伝送損失の調整方法。
- 前記複数の光導波路が、アレイ導波路格子における分波側の出力導波路であって、前記伝送損失の調整方法が、前記出力導波路間における前記伝送損失量の不均一性を低減することを特徴とする請求項28または請求項29に記載の伝送損失の調整方法。
- 前記出力導波路のチャネル内で、中心波長のチャネルから端波長のチャネルに行くほど、過剰損失を小さく与えることを特徴とする請求項31記載の伝送損失の調整方法。
- 前記複数の光導波路が、光スプリッタにおける出力導波路であって、前記伝送損失の調整方法が、前記出力導波路間における前記伝送損失量の不均一性を低減することを特徴とする請求項28記載の伝送損失の調整方法。
- 前記複数の光導波路が、光スターカプラにおける出力導波路であって、前記伝送損失の調整方法が、前記出力導波路間における前記伝送損失量の不均一性を低減することを特徴とする請求項28記載の伝送損失の調整方法。
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